工藝制程走入10nm以下后，臺(tái)積電的優(yōu)勢(shì)開(kāi)始顯現(xiàn)出來(lái)。在7nm節(jié)點(diǎn)，臺(tái)積電優(yōu)先確保產(chǎn)能，以DUV（深紫外光刻）打頭陣，結(jié)果進(jìn)度領(lǐng)先三星的7nm EUV，吃掉大量訂單，奠定了巨大優(yōu)勢(shì)。

前不久，臺(tái)積電宣布，截止7月，臺(tái)積電已經(jīng)生產(chǎn)了超10億顆功能完好、沒(méi)有缺陷的7nm芯片，完成新里程碑。

據(jù)業(yè)內(nèi)最新消息，臺(tái)積電的7nm工藝愈發(fā)醇熟，已經(jīng)提前完成每月生產(chǎn)13萬(wàn)片晶圓的目標(biāo)，年底前將把產(chǎn)能拉至14萬(wàn)片/月。

按照臺(tái)積電之前的說(shuō)法，7nm于2018年4月正式投入量產(chǎn)，目前已經(jīng)服務(wù)了全球超過(guò)數(shù)十家客戶，打造了超100款芯片產(chǎn)品。他們認(rèn)為，當(dāng)你做得足夠多，才能發(fā)現(xiàn)和解決更多的問(wèn)題，從而對(duì)產(chǎn)能、良率形成正向引導(dǎo)，結(jié)果就是更加一往無(wú)前。

如今，臺(tái)積電安裝了全球超過(guò)一半的EUV光刻機(jī)，新的7nm工藝以及正在量產(chǎn)的5nm等，前途光明。

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