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臺積電為什么對Exynos 處理器系列普及程度下降?

lhl545545 ? 來源:與非網(wǎng) ? 作者:與非網(wǎng) ? 2020-09-03 11:00 ? 次閱讀
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本文對來自不同公司、采用不同制造工藝的智能手機(jī)處理器進(jìn)行了比較,本來打算以張貼欄的方式發(fā)出來,后來隨著信息內(nèi)容的增加,我把它寫成了一篇文章。本文的比較對象最大程度地包括了蘋果 A 系列、華為麒麟和三星 Exynos 處理器,在一些比較中還包含了一些高通驍龍?zhí)幚砥鳌?/p>

制造工藝

文中進(jìn)行比較的處理器均來自三星和臺積電制造,其制造工藝從 14/16 納米開始,一直下探到 7 納米的 EUV 版本。

比較內(nèi)容

對不同公司處理器的裸片寬度和裸片高度進(jìn)行比較。在工藝比較中將用到晶體管密度(僅某些處理器有可用數(shù)據(jù))數(shù)據(jù)。

智能手機(jī)處理器芯片尺寸

圖 1 分別繪制了三星、華為和蘋果的智能手機(jī)處理器的芯片尺寸變化趨勢及其所使用的不同工藝。

臺積電為什么對Exynos 處理器系列普及程度下降?

圖 1. 三星(左)、華為(中)和蘋果(右)的芯片尺寸變化趨勢和工藝

對于三星而言,7LPP 工藝的的推出使其處理器的裸片高度得以降低。但是,出乎意料的是,在這里所有處理器中,其裸片面積 91.83 平方毫米并不是最小的。在 7 納米處理器中,處理器面積最小的是采用臺積電第一代 7 納米工藝制造的驍龍 855(73.3 平方毫米)。當(dāng)然,驍龍 835 的尺寸更小,僅為 72.3 平方毫米,但它采用的是三星 10 納米(LPE)制造工藝,晶體管密度更低。另一個 7 納米 EUV 處理器 - 臺積電生產(chǎn)的華為麒麟 990 5G,它的裸片尺寸也有所提升(113.3 平方毫米),但這可以歸因于處理器設(shè)計了一些新功能。

裸片寬度不會隨著先進(jìn)工藝而下降。如稍后將詳細(xì)討論的那樣,這將是使用 EUV 工藝帶來的一個問題。隨著單元軌道高度的降低,光照旋轉(zhuǎn)的影響將變得更加明顯。

晶體管密度

圖 2 繪制了華為和蘋果處理器的晶體管密度及其工藝。

臺積電為什么對Exynos 處理器系列普及程度下降?

圖 2. 華為(左)和蘋果(右)的晶體管密度與工藝。

這里最大的意外是,臺積電的 7 納米 EUV 工藝的的晶體管密度并非最高。在所示的麒麟處理器中,麒麟 980 的密度最高(93.1 MTr / mm2),高于麒麟 990 5G 的 90.9 MTr / mm2。另一個超過該值的處理器是驍龍 855,其密度為 91.4 MTr / mm2。

臺積電的第一代 7 納米工藝實現(xiàn)了迄今為止 7 納米尺度上最高的密度和最小的芯片尺寸。實際上,臺積電 7 納米工藝的高密度軌道高度(240 納米)比三星的 7 納米 EUV 工藝(243 納米)要短。 Exynos 990 實際上使用了 270 納米的高性能軌道高度。這些實際上抵消了較小金屬間距的潛在好處。

隨著向 5 納米的邁進(jìn),尤其是隨著 6 軌道單元的問世,軌道高度有望進(jìn)一步降低。

軌道高度降低對 EUV 的影響

三星的 7 納米 EUV 工藝可提供 270 納米(7.5 軌道)和 243 納米(6.75 軌道)的 cell 高度。延續(xù)的 5 納米工藝提供了 216 納米(6 軌道)單元高度。之所以認(rèn)為三星 5 納米是其 7 納米工藝的延續(xù),是因為最小金屬間距沒變,繼續(xù)保持在 36 納米。最小金屬間距對 EUV 工藝有很大的影響,因為它設(shè)置了首選的光照角度(精確地為正弦值=0.1875 對應(yīng)的角度)。但是,該角度會在整個裸片上旋轉(zhuǎn),距中心 13 毫米處時最大旋轉(zhuǎn)角度達(dá)到 18.2 度。由于圖 1 中所示的三星 Exynos 處理器的芯片寬度一直在 10.7 毫米左右,因此,在芯片邊緣處的最大旋轉(zhuǎn)角度應(yīng)該是 7.5 度(= 18.2 度 x 5.35 毫米 / 13 毫米)。對于 36 納米的間距而言,其影響并不是那么深遠(yuǎn),而對于真正的間距 - 軌道高度 - 而言,這個影響就不可小覷了。隨著作為間距的軌道高度的變大,會產(chǎn)生更復(fù)雜的衍射級譜。通常,第 0 階和第 1 階之間的相位差不會受到 x 方向入射角“陰影”的明顯影響,但是光照旋轉(zhuǎn)會對此產(chǎn)生影響(圖 3)。

臺積電為什么對Exynos 處理器系列普及程度下降?

圖 3. 7.5 度光照旋轉(zhuǎn)角對 243 納米軌道高度(頂部)和 216 納米軌道高度(底部)的影響。旋轉(zhuǎn)時,散焦會在整個光瞳上產(chǎn)生較大范圍的相位誤差(x 方向上的不同角度平鋪)。因此,芯片邊緣的圖案更容易失焦。

6 軌道或 6.75 軌道單元中的線在芯片邊緣更容易失焦。這種影響不僅隨著最小金屬間距的減小更為嚴(yán)重,而且會隨著軌道高度的減小變得更為嚴(yán)重,這是由于較小間距的連續(xù)階之間的路徑差異較大。

將來會發(fā)生什么

現(xiàn)在,臺積電已經(jīng)中斷了對華為的供應(yīng),所以華為有可能不得不借助中國大陸本土的晶圓代工廠,比如中芯國際。由于中國大陸的制造工藝還沒有達(dá)到“ 7nm”階段,所以它可能會首先嘗試在中國復(fù)制麒麟 980。同時,蘋果和高通將繼續(xù)在臺積電的 7 納米“ P”工藝上取得成功。三星方面,隨著 Exynos 處理器系列普及程度的下降,三星處理器可能會切換成非定制的 ARM 內(nèi)核設(shè)計,這種切換能否使三星自家的處理器設(shè)計恢復(fù)活力還有待觀察。如果不能,三星的手機(jī)仍然可以使用高通的驍龍?zhí)幚砥鳌?br /> 責(zé)任編輯:pJ

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