由中國通信工業(yè)協(xié)會、深圳市半導體行業(yè)協(xié)會、廣州市半導體協(xié)會、江蘇省半導體行業(yè)協(xié)會、浙江省半導體行業(yè)協(xié)會、成都集成電路行業(yè)協(xié)會、深圳市中新材會展有限公司舉辦的“第三屆深圳國際半導體展”將于12月8-10日深圳國際會展中心召開，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司將攜帶更多產(chǎn)品亮相及演講，展位號A196，敬請期待！本屆展會還將邀請海思半導體、中芯國際、粵芯、華虹宏力、華天、長電、國民技術等從應用到設計、制造、封測、材料和設備廠商企業(yè)300多家企業(yè)參展.亦是半導體產(chǎn)業(yè)鏈或即將進入該產(chǎn)業(yè)的專業(yè)人士觀摩洽談的最佳平臺之一。

北方華創(chuàng)近年來基于芯片制作對設備性能的需求，NAURA積極布局相關設備研發(fā)，涵蓋藍綠光與紅黃光芯片工藝，主要產(chǎn)品包括ICP刻蝕機、PECVD、PVD（AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter）、ALD等一系列設備。

ELEDEG380A

NAURA LED ICP刻蝕設備（ELEDEG380A）在傳統(tǒng)ICP刻蝕設備的基礎上，對上、下電極系統(tǒng)及設備加熱控溫系統(tǒng)進行了優(yōu)化設計，實現(xiàn)了刻蝕均勻性的有效提升，完全滿足MiniLED芯片的均勻性及邊緣利用率要求。此設備適用于MiniLED多種材料刻蝕，覆蓋藍綠、紅黃芯片全流程，包括深槽隔離刻蝕（Isolation）、電極刻蝕（Mesa）、介質反射層刻蝕（DBR）及紅黃光刻蝕（AlGaInP），具有精準的線寬控制和高速刻蝕能力，可實現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)并具備優(yōu)異的刻蝕均勻性。設備配置了Cassette in Cassette out自動生產(chǎn)模式，可達到更好的顆粒控制能力。

EPEE i800

NAURA LED PECVD設備（EPEE i800）采用托盤載片和多站動態(tài)作業(yè)模式，為MiniLED芯片制造提供了優(yōu)良的PECVD工藝解決方案。NAURA通過對鍍膜方式進行改進，實現(xiàn)了更優(yōu)的片內(nèi)和片間鍍膜均勻性；通過對反應腔上、下電極系統(tǒng)的優(yōu)化設計，實現(xiàn)了更大的單機產(chǎn)能輸出。EPEE i800設備的鍍膜均勻性、顆?？刂颇芰σ约白詣踊潭让黠@提升，可實現(xiàn)工廠端自動化生產(chǎn)，完全滿足MiniLED對芯片制造的要求。

NAURA還可提供對接廠務MES系統(tǒng)或者其他廠務自動化軟件的解決方案；全流程自動化解決方案可幫助客戶實現(xiàn)生產(chǎn)過程的無人化、信息化和智能化管理。

隨著LED顯示技術和產(chǎn)品的不斷創(chuàng)新，新技術的每一次超越與落地，對于行業(yè)發(fā)展來說都具有重大意義，NAURA愿與業(yè)界同仁一起在半導體顯示技術領域銳意進取、開拓創(chuàng)新，共譜新篇章。
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