光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵設(shè)備，光刻機(jī)所使用的光源波長(zhǎng)直接決定著芯片的工藝級(jí)別。例如，目前最先進(jìn)的芯片制程7nm\5nm等，都離不開EUV極紫外光刻機(jī)，而這種光刻機(jī)的全球唯一供應(yīng)商就是荷蘭阿斯麥ASML。

最近， 荷蘭阿斯麥 ASML 首席財(cái)務(wù)官 Roger Dassen 在財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中談及與中芯國(guó)際等中國(guó)客戶的業(yè)務(wù)情況。

Roger Dassen 表示，如果廣泛地來(lái)理解美國(guó)規(guī)章制度對(duì) ASML 的總體含義（對(duì)于特定的中國(guó)客戶），則意味著 ASML 將能夠從荷蘭向這些中國(guó)客戶提供 DUV 光刻系統(tǒng)，且無(wú)需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國(guó)運(yùn)往此類客戶的零件或系統(tǒng)，ASML 則需要為此申請(qǐng)出口許可證。

21ic家注意到，最近，ASML公布了其第三季度財(cái)報(bào)，在該季度ASML一共交付了10臺(tái)EUV系統(tǒng)，并實(shí)現(xiàn)了14臺(tái)系統(tǒng)的銷售收入，總銷售額達(dá)到40億歐元。同時(shí)，第三季度的新增訂單達(dá)到29億歐元，其中5.95億歐元來(lái)自4臺(tái)EUV設(shè)備。

財(cái)報(bào)中還公布了其兩大系列光刻機(jī)產(chǎn)品的最新進(jìn)展。

其中，在EUV光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，絕大部分TWINSCAN NXE:3400B系統(tǒng)在客戶處同時(shí)進(jìn)行了生產(chǎn)率模組的升級(jí)。同時(shí)，ASML還公布了其EUV路線圖上的最新機(jī)型：TWINSCAN NXE：3600D，該EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了30mJ/cm2的曝光能量達(dá)到每小時(shí)160片晶圓，生產(chǎn)率提高了18%，并改進(jìn)了機(jī)器匹配套刻精度至1.1納米。該新型EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)2021年中期開始發(fā)貨。

在DUV光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，ASML在本季度對(duì)第一臺(tái)TWINSCAN NXT：2050i進(jìn)行了質(zhì)量認(rèn)證，并于第四季度初發(fā)貨。NXT：2050i是基于NXT平臺(tái)的新版本，其中包括掩模版工作臺(tái)，晶圓工作臺(tái)，投影物鏡和曝光激光器的技術(shù)改進(jìn)。由于采用了這些創(chuàng)新，該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產(chǎn)率。NXT：2050i已進(jìn)入批量生產(chǎn)階段。

來(lái)源：21ic王麗英整理