全球最大的光刻機(jī)企業(yè)ASML表示DUV光刻機(jī)系統(tǒng)不需要向美國(guó)申請(qǐng)出口許可，它將向中國(guó)大量出售DUV光刻機(jī)，在中國(guó)建立合資工廠，強(qiáng)化與中國(guó)加強(qiáng)合作，這被視為它向中國(guó)釋放善意。

中國(guó)最大的芯片制造企業(yè)中芯國(guó)際已投產(chǎn)14nmFinFET工藝，上海華虹已投產(chǎn)28nm工藝，ASML此時(shí)表示可以向中國(guó)大量出售DUV光刻機(jī)，這有助于中國(guó)的芯片制造廠迅速擴(kuò)張產(chǎn)能。

中國(guó)是全球最大制造國(guó)，除了對(duì)先進(jìn)工藝有需求之外，確實(shí)也對(duì)較為落后的14nmFinFET、28nm等工藝有龐大需求，例如路由器、電視芯片、空調(diào)芯片等都可以以這些較為落后的工藝生產(chǎn)，可以幫助中國(guó)增強(qiáng)自主研發(fā)能力。

目前中國(guó)也在加快模擬芯片的發(fā)展，國(guó)產(chǎn)模擬芯片占中國(guó)需求的比例只有10%左右，中國(guó)迅速加快模擬芯片的發(fā)展也需要大量購(gòu)買(mǎi)這些DUV光刻機(jī)開(kāi)發(fā)自己的芯片制造工藝。等等這些都說(shuō)明ASML在此刻釋放善意，對(duì)中國(guó)有重大的支持意義。

不過(guò)ASML有許多元件需要從美國(guó)進(jìn)口，業(yè)界專(zhuān)家表示它不能違反“瓦森納協(xié)議”，研發(fā)7nm及更先進(jìn)工藝所需要的EUV光刻機(jī)依然無(wú)法向中國(guó)出口，這對(duì)中國(guó)的支持實(shí)在有限。

值得注意的是ASML三季度公布的業(yè)績(jī)顯示它有66%的利潤(rùn)來(lái)自技術(shù)先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，如此一來(lái)依靠EUV光刻機(jī)提供的豐厚利潤(rùn)，它完全可以依賴(lài)EUV光刻機(jī)的豐厚利潤(rùn)以?xún)r(jià)格戰(zhàn)在DUV光刻機(jī)市場(chǎng)壓制中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)，ASML在這個(gè)表示向中國(guó)大量出口DUV光刻機(jī)有可能存有打壓中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的考慮。

中國(guó)如今已認(rèn)識(shí)到發(fā)展光刻機(jī)的重要性，因此正積極扶持國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)，然而受限于技術(shù)，中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)研發(fā)的當(dāng)然是技術(shù)較為落后的DUV光刻機(jī)，如果中國(guó)的芯片企業(yè)不采購(gòu)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)也就無(wú)法積累技術(shù)和資金研發(fā)技術(shù)更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，這對(duì)于中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)可謂毀滅性的影響。

如果ASML一直受制于相關(guān)的限制無(wú)法向中國(guó)供應(yīng)技術(shù)先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，而中國(guó)自己的光刻機(jī)企業(yè)又無(wú)法研發(fā)出EUV光刻機(jī)，那么中國(guó)的芯片制造企業(yè)就一直都只能止步于7nm工藝，而中國(guó)大陸以外的芯片制造企業(yè)如今已投產(chǎn)5nm工藝，未來(lái)更先進(jìn)的工藝也在加速發(fā)展，中國(guó)的芯片制造工藝只會(huì)越來(lái)越落后。

綜上所述，ASML在這個(gè)時(shí)候宣布向中國(guó)大量出口光刻機(jī)，固然顯示了它的善意，但是對(duì)于中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)和芯片制造產(chǎn)業(yè)來(lái)說(shuō)卻未必是好事，它此舉很可能是為了保持自己的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，而中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)將可能因此而導(dǎo)致長(zhǎng)遠(yuǎn)利益受損。

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