三星2021年將投產(chǎn)EUV工藝生產(chǎn)的內(nèi)存
目前，EUV光刻機的部署安裝主要在臺積電、三星的晶圓代工廠。不過，內(nèi)存廠商們也開始著手上馬了。
此前，SK海力士規(guī)劃的是為年底建成的M16工廠配備，但來自德國CB的消息稱，M14老廠也會引進。
EUV光刻機參與的將是SK海力士的第四代（1a nm）內(nèi)存，在內(nèi)存業(yè)內(nèi)，目前的代際劃分是1x、1y、1z和1a。
EUV光刻機的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本，并提高性能。
當(dāng)然，EUV光刻機實在是香餑餑。唯一的制造商ASML（荷蘭阿斯麥）產(chǎn)能極有限，盡管一臺要10億元左右，可仍舊供不應(yīng)求。這一回新老工廠其上位，不知道SK海力士從ASML那里敲定了多少臺。
另外，本次報道稱，三星2021年將投產(chǎn)EUV工藝生產(chǎn)的內(nèi)存，也就是早些時候發(fā)布的16Gb容量LPDDR5。
責(zé)任編輯:pj
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