據(jù)說1nm光刻機已經(jīng)被設計出來了，預計2022年即可商用
據(jù)日媒近日消息，IMEC公司（比利時的一家微電子研究機構(gòu)，總部在比利時魯汶，是一個專注于納米科技的世界級研究中心）在ITF Japan 2020大會上公布了3nm、2nm、1．5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線圖。
根據(jù)IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove透露，IMEC公司與ASML緊密合作，將推進下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)商用。目前，ASML已完成作為NXE：5000系列的高NA EUV曝光系統(tǒng)的基本設計，將應用于1nm光刻機，預計2022年即可商用。
責任編輯：xj
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