日B视频 亚洲,啪啪啪网站一区二区,91色情精品久久,日日噜狠狠色综合久,超碰人妻少妇97在线,999青青视频,亚洲一区二卡,让本一区二区视频,日韩网站推荐

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

中芯國(guó)際EUV光刻機(jī)進(jìn)入“全面開發(fā)階段”

lhl545545 ? 來(lái)源:快科技 ? 作者:憲瑞 ? 2020-12-17 09:23 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

日前國(guó)內(nèi)最大的晶圓代工廠中芯國(guó)際爆出聯(lián)席CEO梁孟松離職的消息,今天該公司股價(jià)也大跌5.5%,目前市值4250億元,這件事也引發(fā)網(wǎng)絡(luò)熱議。

12月16日晚,上交所也發(fā)布關(guān)于中芯國(guó)際集成電路制造有限公司有關(guān)事項(xiàng)的監(jiān)管工作函,表達(dá)了對(duì)此事的關(guān)注。

中芯國(guó)際EUV***進(jìn)入“全面開發(fā)階段”

今天商務(wù),中芯國(guó)際發(fā)布說(shuō)明公告,確認(rèn)公司已知悉梁孟松博士有條件辭任的意愿。中芯方面表示,公司目前正積極與梁博士核實(shí)其真實(shí)辭任之意愿,任何本公司最高管理層人事變動(dòng),以本公司發(fā)布公告為準(zhǔn)。

12月15日,中芯國(guó)際宣布,前臺(tái)積電副總蔣尚義獲委任為中芯國(guó)際董事會(huì)副董事長(zhǎng)、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會(huì)成員,其任期自2020年12月15日起至2021年股東周年大會(huì)為止。

與此同時(shí),中芯國(guó)際聯(lián)席CEO梁孟松被曝在董事會(huì)上提出了辭職!不過(guò),中芯國(guó)際董事長(zhǎng)周子學(xué)并未當(dāng)場(chǎng)批準(zhǔn)。

網(wǎng)上也流傳出了梁孟松的聲明,稱自2017年11月?lián)沃行緡?guó)際聯(lián)席CEO至今已有三年多,幾乎從未休假,在其帶領(lǐng)的2000多位工程師的盡心竭力的努力下,完成了中芯國(guó)際從28nm到7nm工藝的五個(gè)世代的技術(shù)開發(fā)。

據(jù)梁孟松透露,目前中芯國(guó)際的“28nm、14nm、12nm及N+1等技術(shù)均已進(jìn)入規(guī)模量產(chǎn),7nm技術(shù)的開發(fā)也已經(jīng)完成,明年四月就可以馬上進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)量產(chǎn)。

5nm和3nm的最關(guān)鍵、也是最艱巨的8大項(xiàng)技術(shù)也已經(jīng)有序展開, 只待EUV***的到來(lái),就可以進(jìn)入全面開發(fā)階段”。
責(zé)任編輯:pj

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 中芯國(guó)際
    +關(guān)注

    關(guān)注

    27

    文章

    1453

    瀏覽量

    68138
  • 5nm
    5nm
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    343

    瀏覽量

    26677
  • EUV光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    129

    瀏覽量

    15870
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    中國(guó)打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)!

    其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例,這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來(lái)的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時(shí)代,不僅需要EUV光刻機(jī),更需要
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?7135次閱讀

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái),荷蘭 ASML 公
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?1.1w次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    壟斷 EUV 光刻機(jī)之后,阿斯麥劍指先進(jìn)封裝

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 當(dāng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)陷入 “先進(jìn)制程競(jìng)賽” 的白熱化階段,極紫外(EUV光刻機(jī)作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成為決定產(chǎn)業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球唯一
    的頭像 發(fā)表于 03-05 09:19 ?2757次閱讀

    澤攸科技 | EBL和EUV光刻機(jī)有何區(qū)別?如何影響半導(dǎo)體行業(yè)?

    從技術(shù)路徑上看,電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問(wèn)題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫入技術(shù),利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點(diǎn)曝光,通過(guò)電磁控制精確描繪圖形。這種方式不依賴掩
    的頭像 發(fā)表于 01-06 16:49 ?1075次閱讀
    澤攸科技 | EBL和<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>有何區(qū)別?如何影響半導(dǎo)體行業(yè)?

    國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

    近日,深圳穩(wěn)頂聚技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱“穩(wěn)頂聚”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚出廠的步進(jìn)式
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?2778次閱讀

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

    %。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
    發(fā)表于 09-15 14:50

    今日看點(diǎn)丨全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世;智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺(tái)

    全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世,精度比肩國(guó)際主流 ? 近日,全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測(cè)試階段
    發(fā)表于 08-15 10:15 ?3219次閱讀
    今日看點(diǎn)丨全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>問(wèn)世;智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺(tái)

    全球市占率35%,國(guó)內(nèi)90%!上微裝第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)交付

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,近日,上海上微裝科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱:上微裝,英文簡(jiǎn)稱:AMIES)第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付,并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ?
    發(fā)表于 08-13 09:41 ?2597次閱讀
    全球市占率35%,國(guó)內(nèi)90%!<b class='flag-5'>芯</b>上微裝第500臺(tái)步進(jìn)<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>交付

    光刻機(jī)實(shí)例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備

    光刻機(jī)
    jf_90915507
    發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

    7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
    的頭像 發(fā)表于 08-04 17:39 ?1081次閱讀

    中科院微電子所突破 EUV 光刻技術(shù)瓶頸

    極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源,其工作原理是利用波長(zhǎng)為 10.6um 的紅外
    的頭像 發(fā)表于 07-22 17:20 ?1355次閱讀
    中科院微電子所突破 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)瓶頸

    奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)光刻機(jī)入駐

    光刻機(jī)的成功搬入,意味著產(chǎn)線正式進(jìn)入設(shè)備安裝調(diào)試階段,距離8月底通線試產(chǎn)、第四季度產(chǎn)能爬坡并交付客戶的既定目標(biāo)指日可待。這一目標(biāo)的實(shí)現(xiàn),將實(shí)現(xiàn)各類MEMS半導(dǎo)體傳感器產(chǎn)品從研發(fā)到量產(chǎn)的無(wú)縫銜接,對(duì)重慶乃至整個(gè)集成電路行業(yè)都具
    的頭像 發(fā)表于 07-17 16:33 ?1917次閱讀
    奧松半導(dǎo)體8英寸MEMS項(xiàng)目迎重大進(jìn)展 首臺(tái)<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>入駐

    改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過(guò)度導(dǎo)致光刻膠過(guò)度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備,如極紫外(
    的頭像 發(fā)表于 06-30 15:24 ?1210次閱讀
    改善<b class='flag-5'>光刻</b>圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?2166次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03
    揭阳市| 女性| 秦皇岛市| 大宁县| 济宁市| 婺源县| 揭西县| 和顺县| 鹤峰县| 安康市| 龙陵县| 扎兰屯市| 蕲春县| 北海市| 炉霍县| 玛沁县| 莫力| 陵水| 蒙自县| 灵石县| 嵩明县| 石门县| 昆山市| 尖扎县| 栾川县| 新泰市| 合水县| 威远县| 临澧县| 仁怀市| 鹿泉市| 中江县| 辛集市| 隆回县| 平武县| 惠州市| 沂南县| 顺昌县| 日照市| 滦平县| 和田市|