駐波效應(yīng)，在先進(jìn)光刻制程中一個(gè)不可忽視的現(xiàn)象，能引發(fā)一系列的光刻質(zhì)量問(wèn)題，以至于嚴(yán)重影響著圖案的精度。那么駐波效應(yīng)是什么？如何產(chǎn)生的？有什么危害？怎么抑制呢？

什么是駐波效應(yīng)？

當(dāng)光束經(jīng)過(guò)光刻膠并射向晶圓基底時(shí)，光束的一部分會(huì)從襯底表面反射回光刻膠內(nèi)部。這反射的光束與原始的入射光束產(chǎn)生干涉，造成了明暗交替的干涉條紋，這就是“駐波效應(yīng)”。

這種效應(yīng)會(huì)使光刻膠中的光強(qiáng)度呈現(xiàn)出上下起伏的模式：那些處于高光強(qiáng)的部分會(huì)發(fā)生更多的光化學(xué)反應(yīng)，而低光強(qiáng)區(qū)域的反應(yīng)則相對(duì)較少。

這導(dǎo)致了在顯影階段，光刻膠的溶解呈現(xiàn)出與光強(qiáng)度模式相匹配的不均勻性，最終在光刻膠的剖面上形成了明顯的起伏結(jié)構(gòu)。

什么是光的干涉？

當(dāng)兩束或多束同一波長(zhǎng)的光波在同一個(gè)處相交時(shí)，相同相位的兩束波振幅相加，形成一個(gè)振幅更大的波，即明條紋。相反相位的兩束波振幅相互抵消，即暗條紋。

相同相位指的是波峰與波峰相遇，波谷與波谷相遇，因此相互疊加。

而相反相位一般為波峰與波谷相遇，波谷與波峰相遇，因此相互抵消。

證明光的干涉的著名實(shí)驗(yàn)，則是楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)，以驗(yàn)證光的波動(dòng)理論。

什么情況下駐波效應(yīng)會(huì)加?。?/strong>

高反射率襯底

如果襯底的反射率較高，反射回來(lái)的光強(qiáng)度較大，與入射光波形成的駐波將更為顯著，相應(yīng)的圖案質(zhì)量問(wèn)題也更加嚴(yán)重。

反射率較高的襯底材料有： 鋁（Al），鉻（Cr），銀（Ag），硅（Si），氧化硅（SiO2），碳化硅（SiC），氮化硅（SiNx），藍(lán)寶石襯底等。

這些襯底能夠形成鏡面反射的效果，會(huì)加劇光刻的駐波效應(yīng)。