日B视频 亚洲,啪啪啪网站一区二区,91色情精品久久,日日噜狠狠色综合久,超碰人妻少妇97在线,999青青视频,亚洲一区二卡,让本一区二区视频,日韩网站推荐

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

佳能的光刻工具距離商業(yè)化還需要數(shù)年時(shí)間

微云疏影 ? 來源:EDN電子技術(shù)設(shè)計(jì) ? 作者:Alan Patterson ? 2023-12-06 15:54 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

佳能日前開始推廣其型號(hào)為“FPA-1200NZ2C”的半導(dǎo)體納米壓印設(shè)備,該工具可將帶有電路圖案的掩模壓印到硅晶圓上。該技術(shù)不同于 ASML EUV 工具中專門用于將圖案投影到掩模上的光學(xué)機(jī)制。

專家告訴《EE Times》,佳能技術(shù)面臨著幾個(gè)障礙,包括精度不夠和對(duì)華設(shè)備銷售的潛在限制。

“半導(dǎo)體研發(fā)機(jī)構(gòu) imec 的項(xiàng)目經(jīng)理塞德里克-羅林(Cedric Rolin)說:”納米壓印技術(shù)很難在質(zhì)量上與 EUV 相媲美?!?他說,納米壓印的缺陷率“相當(dāng)高”。

Gartner研究副總裁Gaurav Gupta說,至少在兩年內(nèi),ASML作為世界上唯一能夠制造2納米節(jié)點(diǎn)及以上芯片的光刻設(shè)備供應(yīng)商,其地位可能是穩(wěn)固的。

他補(bǔ)充說,佳能的設(shè)備很可能會(huì)受到出口管制的限制。

“如果它能正常工作,而且產(chǎn)量和吞吐量已經(jīng)得到解決,我預(yù)計(jì)至少需要兩到三年或更長時(shí)間才能被使用于大批量生產(chǎn)中,”他說,“前提是它能實(shí)現(xiàn)承諾的目標(biāo)。根據(jù)我的經(jīng)驗(yàn),這種變革性的技術(shù),需要更長的時(shí)間才能看到實(shí)際商用的跡象。

佳能的新聞聲明稱,佳能納米壓印光刻(Nano-Imprint Lithography,NIL)技術(shù)可實(shí)現(xiàn)最小線寬14nm的圖案化,對(duì)應(yīng)5nm節(jié)點(diǎn)邏輯半導(dǎo)體。此外,隨著掩模技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn),NIL有望實(shí)現(xiàn)最小線寬為10nm的電路圖案,相當(dāng)于2nm節(jié)點(diǎn)。

古普塔表示,這項(xiàng)技術(shù)的證據(jù)將隨著商業(yè)采用而出現(xiàn):

”一旦芯片制造商部署了這種技術(shù),并表示產(chǎn)量和吞吐量與傳統(tǒng)光刻技術(shù)相當(dāng)或接近,我就會(huì)更有信心。此外,如果它能實(shí)現(xiàn)5nm節(jié)點(diǎn),那就意味著它能輕松實(shí)現(xiàn)28nm或14nm節(jié)點(diǎn)。為什么日本或其他地方還沒有人采用它呢?如果它真的那么有前途,為什么要等到只在5nm邏輯上才準(zhǔn)備好這項(xiàng)技術(shù),為什么不在更早或更成熟的節(jié)點(diǎn)上?

Semiconductor Advisors 總裁 Robert Maire 在向 EE Times 提供的時(shí)事通訊中表示,納米壓印技術(shù)可能在存儲(chǔ)芯片生產(chǎn)中具有潛在應(yīng)用,因?yàn)榇鎯?chǔ)芯片比邏輯更能容忍缺陷問題。他補(bǔ)充說,納米壓印的分辨率較低,遠(yuǎn)非“現(xiàn)實(shí)世界”的大批量制造解決方案。

“缺陷和對(duì)準(zhǔn)一直是納米壓印的老大難問題和局限性,”Maire 說?!拔覀兇_實(shí)贊賞佳能公司通過日本公司所擅長的不懈工程取得的卓越進(jìn)展,但基本的技術(shù)限制仍然存在?!?/p>

佳能表示,納米壓印工具的一個(gè)優(yōu)勢(shì)是碳足跡較小。

該公司表示,由于新產(chǎn)品不需要特殊波長的光源,因此與光刻設(shè)備相比,它能顯著降低功耗。ASML的EUV設(shè)備需要消耗大量能源來蒸發(fā)錫滴,而錫滴發(fā)射的EUV光波長極短,僅為 13.5nm。

傳統(tǒng)的光刻技術(shù)不僅需要昂貴的光源,還需要復(fù)雜的透鏡、濾鏡、反射鏡等光學(xué)元件,以及精密的機(jī)械結(jié)構(gòu)和控制系統(tǒng)。納米壓印技術(shù)則相對(duì)簡單得多,據(jù)說納米壓印技術(shù)能夠降低40%的制造成本,并且減少90%的耗電量。

此外,佳能表示,傳統(tǒng)的光刻技術(shù)需要多次重復(fù)照射晶圓,每次都要調(diào)整位置和角度,還需進(jìn)行化學(xué)處理和清洗等步驟。納米壓印技術(shù)則可以一次性完成整個(gè)晶圓上所有圖形的復(fù)制,據(jù)說佳能納米壓印設(shè)備每小時(shí)可以制造100片以上晶圓,基本達(dá)到了大規(guī)模生產(chǎn)的水平。

Maire指出,佳能在2014年收購德克薩斯州的Molecular Imprints公司時(shí)購買了部分納米壓印技術(shù)。這可能會(huì)使佳能的工具受到美國對(duì)華敏感技術(shù)出口管制的限制。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    339

    文章

    31298

    瀏覽量

    266896
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    615

    瀏覽量

    88987
  • 納米壓印
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    14

    瀏覽量

    6677
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    小馬智行在克羅地亞開啟歐洲首個(gè)商業(yè)化Robotaxi服務(wù)

    4月8日,小馬智行聯(lián)合自動(dòng)駕駛出行服務(wù)公司Verne及全球出行平臺(tái)Uber,在克羅地亞首都薩格勒布開啟Robotaxi商業(yè)化運(yùn)營,成為歐洲首個(gè)面向公眾開放的Robotaxi商業(yè)化服務(wù)。即日起,薩格勒布市民可通過Verne APP預(yù)約體驗(yàn),后續(xù)該服務(wù)也將接入U(xiǎn)ber APP
    的頭像 發(fā)表于 04-09 11:29 ?475次閱讀

    硬科技·新消費(fèi)——CES Asia 2026機(jī)器人量產(chǎn)商業(yè)化破局論壇定檔北京

    當(dāng)機(jī)器人產(chǎn)業(yè)從技術(shù)演示邁入量產(chǎn)落地關(guān)鍵期,成本高企、供應(yīng)鏈協(xié)同不足、商業(yè)化路徑模糊等痛點(diǎn)成為行業(yè)突圍的核心阻礙?!坝部萍?· 新消費(fèi)——CES Asia 2026機(jī)器人量產(chǎn)商業(yè)化破局論壇”將于
    的頭像 發(fā)表于 03-25 17:24 ?496次閱讀

    貼片晶振超高頻光刻工藝基本原理

    什么是光刻光刻是IC制造業(yè)中最為重要的一道工藝,占據(jù)了芯片制造中大約一半的步驟.光刻占所有成本的三分之一以上。通??捎?b class='flag-5'>光刻次數(shù)及所需Mask的塊數(shù)來表示某生產(chǎn)工藝的難易程度。
    的頭像 發(fā)表于 02-04 11:12 ?236次閱讀
    貼片晶振超高頻<b class='flag-5'>光刻工</b>藝基本原理

    PIX Moving與泰宇坦行啟動(dòng)城市機(jī)器人商業(yè)化試點(diǎn)運(yùn)營

    為加速自動(dòng)駕駛技術(shù)在真實(shí)商業(yè)場(chǎng)景中的價(jià)值轉(zhuǎn)化,PIX Moving 近日宣布與運(yùn)營合作伙伴泰宇坦行(勘設(shè)股份控股子公司)達(dá)成戰(zhàn)略合作,在貴陽市觀山湖區(qū)正式啟動(dòng)城市機(jī)器人商業(yè)化試點(diǎn)運(yùn)營。
    的頭像 發(fā)表于 01-15 11:32 ?976次閱讀

    踏歌智行斬獲2025高工金球獎(jiǎng)年度無人駕駛商業(yè)化落地先鋒獎(jiǎng)

    在12月11日舉行的2025高工智能汽車金球獎(jiǎng)評(píng)選中,踏歌智行憑借豐富的露天礦商業(yè)化實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),以及優(yōu)秀的運(yùn)營效率表現(xiàn),一舉斬獲“無人駕駛商業(yè)化落地先鋒獎(jiǎng)”年度大獎(jiǎng)。
    的頭像 發(fā)表于 12-19 17:38 ?1010次閱讀

    智行者科技榮獲2025高工金球獎(jiǎng)年度無人駕駛商業(yè)化落地先鋒獎(jiǎng)

    近日,在2025(第九屆)高工智能汽車年會(huì)上,備受業(yè)界矚目的年度金球獎(jiǎng)榜單正式揭曉。智行者憑借在無人駕駛領(lǐng)域卓越的商業(yè)化落地成果與顯著的行業(yè)示范價(jià)值,成功摘得 “年度無人駕駛商業(yè)化落地先鋒獎(jiǎng)”。
    的頭像 發(fā)表于 12-16 14:14 ?566次閱讀

    請(qǐng)問riscv中斷還需要軟件保存上下文和恢復(fù)嗎?

    以下是我拷貝的文檔里的說明,這個(gè)中斷處理還需要軟件來寫上下文保存和恢復(fù),在使用ARM核的單片機(jī)都不需要考慮這些的,使用過的小伙伴能解答嗎? 3.8. 進(jìn)出中斷的上下文保存和恢復(fù) RISC-V架構(gòu)
    發(fā)表于 10-20 09:56

    【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度在光刻工藝中的反饋控制優(yōu)化研究

    一、引言 玻璃晶圓在半導(dǎo)體制造、微流控芯片等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,光刻工藝作為決定器件圖案精度與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié),對(duì)玻璃晶圓的質(zhì)量要求極為嚴(yán)苛 ??偤穸绕睿═TV)是衡量玻璃晶圓質(zhì)量的重要指標(biāo),其厚度
    的頭像 發(fā)表于 10-09 16:29 ?936次閱讀
    【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度在<b class='flag-5'>光刻工</b>藝中的反饋控制優(yōu)化研究

    3D 共聚焦顯微鏡 | 芯片制造光刻工藝的表征應(yīng)用

    接觸式三維成像、亞微米級(jí)分辨率和快速定量分析能力,成為光刻工藝全流程質(zhì)量控制的關(guān)鍵工具,本文將闡述其在光刻膠涂層檢測(cè)、圖案結(jié)構(gòu)分析、層間對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證等核心環(huán)節(jié)的應(yīng)用。芯
    的頭像 發(fā)表于 08-05 17:46 ?1452次閱讀
    3D 共聚焦顯微鏡 | 芯片制造<b class='flag-5'>光刻工</b>藝的表征應(yīng)用

    今日看點(diǎn)丨佳能再開新光刻機(jī)工廠;中國移動(dòng)首款全自研光源芯片研發(fā)成功

    ? ? 時(shí)隔21年,佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前,據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道,佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式,這也是
    發(fā)表于 08-05 10:23 ?2355次閱讀

    佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠,主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用

    7 月 31 日消息,據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道,日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn),主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備,為全球芯片封裝
    的頭像 發(fā)表于 08-04 17:39 ?1084次閱讀

    請(qǐng)問STM32新出的芯片USB還需要上拉電阻嗎?

    我記得F103的USB需要上拉個(gè)電阻,STM32新出的芯片USB還需要上拉電阻嗎?例如H5系列
    發(fā)表于 07-18 06:40

    MEMS制造領(lǐng)域中光刻Overlay的概念

    在 MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))制造領(lǐng)域,光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻
    的頭像 發(fā)表于 06-18 11:30 ?2257次閱讀
    MEMS制造領(lǐng)域中<b class='flag-5'>光刻</b>Overlay的概念

    光刻工藝中的顯影技術(shù)

    一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)
    的頭像 發(fā)表于 06-09 15:51 ?3487次閱讀

    Chiplet商業(yè)化將大幅增加網(wǎng)絡(luò)威脅

    小芯片的商業(yè)化將大大增加硬件遭受攻擊的可能性,這就需要在供應(yīng)鏈的每個(gè)層面采取更廣泛的安全措施和流程,包括從初始設(shè)計(jì)到產(chǎn)品報(bào)廢的整個(gè)過程中的可追溯性。近年來,安全措施方面已取得了長足進(jìn)步,包括從識(shí)別
    的頭像 發(fā)表于 05-28 13:48 ?1030次閱讀
    Chiplet<b class='flag-5'>商業(yè)化</b>將大幅增加網(wǎng)絡(luò)威脅
    修文县| 临潭县| 景东| 长顺县| 涿鹿县| 泊头市| 兰州市| 普宁市| 柘荣县| 阿荣旗| 商洛市| 阳山县| 温泉县| 宝坻区| 黎川县| 扶余县| 赤壁市| 皮山县| 宜城市| 吐鲁番市| 望城县| 高平市| 顺昌县| 连城县| 巴中市| 隆德县| 卫辉市| 龙南县| 鄄城县| 凤阳县| 鲁山县| 威海市| 南宁市| 东阿县| 密山市| 孟连| 邳州市| 和田县| 宣恩县| 永善县| 福海县|