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深圳芯能半導(dǎo)體獲IGBT芯片專利,創(chuàng)新接觸孔連接ESD結(jié)構(gòu)提升安全性

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-04-01 10:30 ? 次閱讀
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導(dǎo)語:近日,深圳芯能半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(下文簡稱:芯能半導(dǎo)體)宣布已獲得一項有關(guān)IGBT芯片的重大專利——“一種帶有ESD結(jié)構(gòu)的IGBT芯片及制作方法”,這一專利的頒布不僅保障了產(chǎn)品安全性,還提高了芯片工作效率。

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此次專利的申請日期為2023年8月22日,授權(quán)公示日為2024年3月26日,授權(quán)公告號為CN116779666B。此項專利主要涉及的新型IGBT芯片結(jié)構(gòu),其特征在于采用自上而下的頂層金屬層、ESD結(jié)構(gòu)、多晶硅層等多種組件相互配合,實現(xiàn)穩(wěn)定的電路運行。

發(fā)明的核心亮點是將多晶硅層頂部水平設(shè)置一層水平多晶硅,在該層上還橫向安放NPN結(jié)構(gòu),進一步構(gòu)建出ESD防護結(jié)構(gòu)。利用這種方法,將多晶硅層和接觸孔通過ESD結(jié)構(gòu)連接起來,確保柵極和發(fā)射極能得到有效保護。

值得注意的是,接觸孔采用的是與發(fā)射極所在的N+區(qū)域相連接的方式,使柵極多晶硅與發(fā)射極之間得以基于ESD結(jié)構(gòu)形成并聯(lián)關(guān)系,從而顯著提升了產(chǎn)品性能和安全保障。

該項發(fā)明為行業(yè)內(nèi)IGBT芯片研發(fā)和生產(chǎn)帶來了新的思路和發(fā)展方向,降低了制造門檻并確保了產(chǎn)品質(zhì)量。未來,芯能半導(dǎo)體將會繼續(xù)投入更多科研力量,推動晶體管領(lǐng)域的技術(shù)進步和市場拓展。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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