原文作者：Tom

半導(dǎo)體爐管設(shè)備是用于半導(dǎo)體材料熱處理的設(shè)備，包括電阻加熱式和感應(yīng)加熱式兩種形式。爐管是核心部件，將半導(dǎo)體材料放入加熱爐中進(jìn)行處理；加熱元件負(fù)責(zé)對(duì)爐管內(nèi)部進(jìn)行加熱；溫控元件則對(duì)加熱溫度進(jìn)行控制；抽氣裝置可以將爐管內(nèi)部的氣體抽出并排放。

爐管設(shè)備（立式）的內(nèi)部構(gòu)造是怎樣的？

如上圖，是一個(gè)典型的：

上半部：

Heating Element（加熱線圈）：位于爐管周圍，通常由電阻絲構(gòu)成，用于對(duì)爐管內(nèi)部進(jìn)行加熱。

Quartz Tube（石英管）：熱氧化爐的核心部分，由高純度石英制成，可以耐受高溫并保持化學(xué)惰性。

Gas Feed（氣體供應(yīng)口）：位于爐管的上端或側(cè)面，用于輸送氧氣或其他氣體到爐管內(nèi)部。

SS Flange（法蘭）：連接石英管和氣體線路的部件，確保連接的密封性和穩(wěn)定性。

Gas Feed Lines：連接MFC和氣體供應(yīng)口的管道，用于傳輸氣體。

MFC（質(zhì)量流量控制器）：控制石英管內(nèi)部氣體流量的設(shè)備，以精確調(diào)節(jié)所需的氣體量。

Vent（排氣口）：用于將爐管內(nèi)部的廢氣排出設(shè)備外部。

下部

Silicon Wafers in Holder：硅片安放在特制的Holder中，以確保在氧化過(guò)程中均勻地受熱。

Wafer Holder：用于固定硅片，確保硅片在工藝過(guò)程中保持平穩(wěn)。

Pedestal：承托硅片 Holder的結(jié)構(gòu)，通常由耐高溫材料制成。

Elevator（升降機(jī)）：用于將硅片Wafer Holder升入和降出石英管，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化裝載和卸載硅片。

Wafer Transfer Robot：位于爐管設(shè)備的側(cè)面，用于自動(dòng)化地將硅片從盒中取出并放入爐管內(nèi)，或者在處理完畢后將其取出。

Cassette StorageCarousel：用于存放含有硅片的盒子，并能旋轉(zhuǎn)以便機(jī)器人取用。

Wafer Cassette：晶圓盒，用于存放和傳輸待處理的硅片。

審核編輯：黃飛