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關(guān)鍵突破:光路和電路混合集成芯片新工藝

9ugB_eofrontier ? 來源:未知 ? 作者:胡薇 ? 2018-04-28 15:35 ? 次閱讀
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[據(jù)美國麻省理工學(xué)院網(wǎng)站2018年4月19日報道]兩年半以前,由美國麻省理工學(xué)院、加州大學(xué)伯克利分校和波士頓大學(xué)牽頭的一個研究小組取得了關(guān)鍵突破:在單塊芯片上利用現(xiàn)有制造工藝同時集成電子器件和光子器件,研制出可以實際工作的微處理器。

所采用的方法,是在芯片的硅材料層中同時制備電子器件與光子器件。這意味著,需要借助一種已經(jīng)久遠的技術(shù)。這種技術(shù)所采用的硅材料厚度足夠,能夠滿足制造光器件的要求。

然而,根據(jù)最近一期的《自然》雜志,該研究小組取得了另一突破:實現(xiàn)了在單塊芯片上分別集成光子器件和電子器件,同時能夠利用更現(xiàn)代的CMOS晶體管技術(shù)。該成果可以利用現(xiàn)有的半導(dǎo)體制造工藝。

該成果的優(yōu)點在于,可以獨立對光路進行優(yōu)化。硅基電子技術(shù)多種多樣,如果能夠向電路中添加光路,未來通信與計算芯片性能將更加強大。例如,微處理器制造商英特爾公司,或圖像處理器制造商英偉達公司,如果無需太多調(diào)整就能在芯片上添加光路,芯片的性能無疑將爆發(fā)式增長。

從電通信向光通信轉(zhuǎn)變,能夠推動芯片處理速度大幅提升并降低芯片功耗。隨著芯片上晶體管的數(shù)量持續(xù)增長,光通信的優(yōu)點將越來越突出。“美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會”估計,如不加以應(yīng)對,按照目前計算系統(tǒng)耗電量的增長速度,2040年全球計算系統(tǒng)所需的電量將超過全球發(fā)電能力。

光學(xué)器件或光子器件,和電子器件在同一芯片上集成,能夠大幅降低耗電功率。光通信器件目前已經(jīng)在售,但是現(xiàn)有光器件消耗的能量過多,難以應(yīng)用到微處理器等電子芯片中去。將數(shù)字化信息轉(zhuǎn)換成光信號的商業(yè)調(diào)制器芯片,其耗電功率是新芯片的10倍~100倍。

新芯片也能比舊芯片節(jié)省10~20倍的片上空間。因為,在同一芯片上集成電路和光路,能夠采用更有空間效率的設(shè)計方法。

研究人員還研制了光路和電路的混合架構(gòu),這在無法集成電路部分的情況下則無法實現(xiàn)。例如,市場上沒有采用光諧振器的商業(yè)化光收發(fā)器,因為長期以來無法在同一芯片上實現(xiàn)電路和光路混合集成,利用電路對光諧振器進行穩(wěn)定和控制。

新的光電芯片除了計算功能部分包含的數(shù)百萬的晶體管,還集成了調(diào)制器、波導(dǎo)、諧振器(用于將攜載不同數(shù)據(jù)的各種波長的光分開)等光通信器件。

硅材料是現(xiàn)代計算機芯片的基礎(chǔ)。光器件則需要在二氧化硅(玻璃)上制造。利用硅材料和二氧化硅兩種材料折射率的不同,可以將光限制在硅光器件內(nèi)。

早期的集成光路技術(shù),需要采用芯片鍵合工藝,即在單塊芯片上,通過熔融方式將硅晶片與帶有二氧化硅淀積層的晶片結(jié)合。新突破則支持在硅晶片上直接淀積各種厚度的二氧化硅,再在二氧化硅上淀積由多種微小晶粒構(gòu)成的多晶硅材料。

單晶硅具有確定的電效率和光效率,但多晶硅可以在電效率和光效率之間進行權(quán)衡調(diào)整。晶粒大的多晶硅材料對電流傳導(dǎo)效率高,但導(dǎo)光性差;晶粒小的多晶硅對光散射小,但導(dǎo)電性差。

該研究利用了紐約州立大學(xué)阿爾巴尼分校的納米級科學(xué)和工程制造設(shè)施。研究人員試驗了多種多晶硅材料、硅材料的不同利用方式、各種加工溫度和時間,最終找到了在電子和光子性能之間能夠做出較好權(quán)衡的一組參數(shù)。

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原文標題:【集成芯片】美國研制出光路和電路混合集成芯片新工藝

文章出處:【微信號:eofrontiers,微信公眾號:新光電】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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