電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/莫婷婷）近日，龍圖光罩宣布珠海項(xiàng)目順利投產(chǎn)，公司第三代掩模版PSM產(chǎn)品取得顯著進(jìn)展。KrF-PSM和ArF-PSM陸續(xù)送往部分客戶進(jìn)行測試驗(yàn)證，其中90nm節(jié)點(diǎn)產(chǎn)品已成功完成從研發(fā)到量產(chǎn)的跨越，65nm產(chǎn)品已開始送樣驗(yàn)證。

掩模版也稱光罩，是集成電路制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或者母板，載著圖形信息和工藝技術(shù)信息，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、電路板、觸控屏等領(lǐng)域。掩模版的作用是將承載的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到硅晶圓等基體材料上，從而實(shí)現(xiàn)集成電路的批量化生產(chǎn)。

圖源：龍圖光電

長期以來，半導(dǎo)體掩模版市場被美國Photronics、日本Toppan和DNP等國際巨頭主導(dǎo)，本土企業(yè)因起步晚、技術(shù)積累薄弱，當(dāng)前量產(chǎn)能力集中于350nm-130nm中低端制程，130nm以下先進(jìn)工藝布局不足。根據(jù)中國電子協(xié)會(huì)官網(wǎng)數(shù)據(jù)，目前中國半導(dǎo)體掩模版的國產(chǎn)化率10%左右，90%需要進(jìn)口，高端掩模版的國產(chǎn)化率僅約3%。

其中，90nm先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)具有戰(zhàn)略意義——它是衡量本土企業(yè)突破技術(shù)瓶頸、縮小與國際差距的關(guān)鍵指標(biāo)，對推動(dòng)我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控具有重要意義。

90nm作為連接成熟制程與先進(jìn)制程的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，其技術(shù)突破不僅有助于填補(bǔ)國內(nèi)在中高端掩模版領(lǐng)域的空白，提升國產(chǎn)化水平，還能為先進(jìn)邏輯芯片、高性能模擬芯片及特色工藝（如先進(jìn)封裝）的發(fā)展提供有力支撐。當(dāng)前，以龍圖光罩為代表的國內(nèi)企業(yè)正加速技術(shù)追趕，逐步向65nm、40nm乃至更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn)，標(biāo)志著我國掩模版產(chǎn)業(yè)正邁向高端化與自主化的新階段。

當(dāng)下，龍圖光罩在半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域的工藝水平實(shí)現(xiàn)顯著躍升，已從130nm穩(wěn)步進(jìn)階至65nm，且順利完成40nm工藝節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)線配置。其產(chǎn)品覆蓋范圍廣泛，不僅深度融入信號鏈與電源管理集成電路等成熟制程領(lǐng)域，更在功率器件、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）傳感器及先進(jìn)封裝等特色工藝制程中發(fā)揮重要作用。


龍圖光罩表示，公司更高制程節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品已在某全球領(lǐng)先的晶圓代工廠完成產(chǎn)品流片，在線收集的各項(xiàng)關(guān)鍵驗(yàn)證數(shù)據(jù)均滿足客戶要求。該節(jié)點(diǎn)驗(yàn)證通過后，公司將可覆蓋該客戶三分之一以上的產(chǎn)品需求。此外，更高等級的產(chǎn)品亦在進(jìn)行前期的工藝匹配，預(yù)計(jì)下半年將開始流片驗(yàn)證。

隨著產(chǎn)品的流片驗(yàn)證，龍圖光罩將覆蓋更多客戶。

在產(chǎn)能方面，今年3月，龍圖光罩表示，深圳工廠目前產(chǎn)能利用率穩(wěn)定在較高水平，由于掩模版產(chǎn)品系高度定制化，需根據(jù)客戶特定需求生產(chǎn)，因此很難達(dá)到理想的滿產(chǎn)狀態(tài)，但現(xiàn)有的產(chǎn)能利用率能夠有效保障客戶訂單的按時(shí)交付，同時(shí)兼顧產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率的平衡。珠海工廠的年達(dá)產(chǎn)產(chǎn)能規(guī)劃為1.8萬片，預(yù)計(jì)達(dá)產(chǎn)產(chǎn)值為5.4億元。

值得關(guān)注的是，珠海龍圖IPO募投項(xiàng)目定位為130-65nm制程節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體掩模版。二期工程公司將規(guī)劃建設(shè)更高制程節(jié)點(diǎn)的掩模產(chǎn)品，目前正在進(jìn)行二期廠房建設(shè)并已啟動(dòng)28nm制程半導(dǎo)體掩模版的規(guī)劃。

依據(jù)龍圖光罩針對投資者問詢所作出的答復(fù)，可明晰其第三代掩模版PSM產(chǎn)品的研發(fā)推進(jìn)情況：今年3月，龍圖光罩回復(fù)投資者表示：公司初步完成第三代光罩產(chǎn)品的工藝調(diào)試和樣品試制，產(chǎn)能釋放具體進(jìn)度取決于客戶工藝匹配、送樣認(rèn)證和開始小批量采購的周期。今年4月，龍圖光罩表示，客戶使用PSM樣品流片的Wafer已經(jīng)成功下線，in line收集的各項(xiàng)驗(yàn)證數(shù)據(jù)均滿足客戶要求，產(chǎn)品驗(yàn)證和導(dǎo)入進(jìn)度順利，預(yù)計(jì)年內(nèi)可正式投產(chǎn)。