在消費電子、光學器件等領域，玻璃表面抗劃痕性能直接影響產(chǎn)品使用壽命與用戶體驗。然而，傳統(tǒng)劃痕測試技術受限于定性表征和低效數(shù)據(jù)處理，難以滿足現(xiàn)代工業(yè)對納米級缺陷檢測的需求。本研究結合美能光子灣3D共聚焦顯微鏡，實現(xiàn)了亞微米級缺陷的穩(wěn)定檢測，為玻璃表面損傷的機制研究提供了全維度量化工具。

#Photonixbay.01

劃痕損傷的階段性演化與機制

基于動態(tài)微壓痕實驗，本研究系統(tǒng)揭示了石英玻璃在法向載荷遞增過程中的劃痕損傷四階段演化規(guī)律。通過共聚焦顯微鏡原位觀測發(fā)現(xiàn)，隨著載荷的逐步增加，材料依次呈現(xiàn)以下特征性響應：

塑性變形：表面形成無裂紋塑性凹痕；

微裂紋萌生：載荷超過臨界值時，裂紋從表面缺陷處（如微孔洞）萌生；

分層剝落：裂紋亞表面擴展引發(fā)層狀剝離；

微磨損：剝離碎片導致磨粒磨損，粗糙度顯著升高。

圖1 石英玻璃在恒定速度下施加遞增法向載荷時的典型劃痕形貌

#Photonixbay.02

微磨損起始點的定量判定與關聯(lián)性

結合原位摩擦系數(shù)監(jiān)測與離位形貌表征，發(fā)現(xiàn)微磨損起始點（LL）與摩擦突跳現(xiàn)象及表面裂紋擴展存在強相關性。摩擦系數(shù)（μ）突跳幅度為0.15–0.3，對應裂紋尖端應力釋放的臨界狀態(tài)。

圖2 橫向載荷(LL)測量原理及劃痕過程分析(a)橫向載荷測量示意圖;(b)橫向力-位移曲線;(c)共聚焦顯微鏡獲得的尖端幾何形狀圖;(d)恒定法向載荷下劃痕形貌

光學分析證實，當劃痕長度達450?μm時，微磨損起始點通過摩擦系數(shù)突降現(xiàn)象明確表征，且原位μ監(jiān)測與離位光學檢測結果高度線性相關（斜率≈1.014，R≈0.8717）。這一關聯(lián)性表明，μ突降可精準量化微磨損起始，并揭示其與瞬時裂紋形成的直接對應關系（圖3）。

圖3 通過摩擦系數(shù)法與光學檢測法確定微磨損起始點的對比

部分μ突降事件早于微磨損階段（剝落區(qū)），其位置與光學可見裂紋存在偏移，推測由亞表面裂紋或卸載后擴展的隱蔽損傷導致。實驗表明，劃痕速度（如50μm/s）和針尖配置（EF取向）顯著影響裂紋萌生載荷的離散性，這與材料表面缺陷（如微孔洞）及法向加載速率（15mN/s）密切相關，類似動態(tài)微壓痕實驗測試中裂紋起始的統(tǒng)計特性。

#Photonixbay.03

劃痕速度對失效機制的統(tǒng)計影響

圖4 玻璃態(tài)二氧化硅在側向壓入過程中微磨損事件的威布爾統(tǒng)計分析

基于威布爾統(tǒng)計的劃痕實驗表明：硅玻璃微磨損起始受劃速顯著影響。

高劃速（>300?μm/s）：威布爾模數(shù)（Weibull modulus）≈1，失效呈指數(shù)分布，由隨機表面缺陷主導；

中低劃速（10–150?μm/s）：威布爾模數(shù)升至1.6–4.4，反映亞臨界裂紋擴展的時間依賴性。

臨界橫向載荷（50%失效概率）穩(wěn)定在30–40?mN，與劃速無關。該閾值直接關聯(lián)材料抗劃傷性能，可作為本征閾值用于高抗損玻璃設計。研究證實，高劃速抑制缺陷活化，低劃速延長應力作用時間，增強裂紋擴展概率，為抗劃痕玻璃設計提供了定量失效模型。

#Photonixbay.04

美能光子灣3D共聚焦顯微鏡

美能光子灣3D共聚焦顯微鏡是一款用于對各種精密器件及材料表面，可應對多樣化測量場景，能夠快速高效完成亞微米級形貌和表面粗糙度的精準測量任務，提供值得信賴的高質(zhì)量數(shù)據(jù)。

超寬視野范圍，高精細彩色圖像觀察

提供粗糙度、幾何輪廓、結構、頻率、功能等五大分析功能

采用針孔共聚焦光學系統(tǒng)，高穩(wěn)定性結構設計

提供調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能

本研究通過美能光子灣3D共聚焦顯微鏡，成功實現(xiàn)了對玻璃劃痕損傷演化的原位觀測與量化分析。其高精度成像能力突破了傳統(tǒng)技術的定性局限，首次將塑性變形至微磨損的全過程動態(tài)關聯(lián)；結合摩擦系數(shù)與橫向載荷的多參數(shù)監(jiān)測，揭示了微磨損起始點的臨界閾值（30–40?mN）及其與表面缺陷的定量關系，為工業(yè)領域的高抗損玻璃設計提供了可直接應用的失效模型與優(yōu)化策略。

感謝您本次的閱讀美能光子灣將持續(xù)為您奉上更多優(yōu)質(zhì)內(nèi)容，與您共同進步。

原文出處：《Quantitative analysis of scratch-induced microabrasion on silica glass Elham Moayedi, Lothar Wondraczek》
*特別聲明：本公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉載文章，僅用于學術分享和傳遞行業(yè)相關信息。未經(jīng)授權，不得抄襲、篡改、引用、轉載等侵犯本公眾號相關權益的行為。內(nèi)容僅供參考，如涉及版權問題，敬請聯(lián)系，我們將在第一時間核實并處理。