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三菱電機與多方聯(lián)合揭示硅中氫致自由電子生成機制

三菱電機半導(dǎo)體 ? 來源:三菱電機半導(dǎo)體 ? 2026-01-23 10:22 ? 次閱讀
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三菱電機株式會社、東京科學(xué)大學(xué)、筑波大學(xué)及 Quemix 公司于2026年1月14日聯(lián)合宣布,全球率先1成功揭示了氫元素如何通過與硅材料中特定缺陷2的相互作用產(chǎn)生自由電子3的機制。此項突破性成果有望優(yōu)化絕緣柵雙極性晶體管IGBT)的設(shè)計與制造工藝,從而提升其能效表現(xiàn)并降低功率損耗。該發(fā)現(xiàn)還將為基于超寬禁帶(UWBG)材料4的未來器件開辟新的可能性。

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氫通過與硅中缺陷相互作用產(chǎn)生自由電子的機制

在全球邁向碳中和的進程中,提升電力電子設(shè)備的效率與節(jié)能性已成為世界范圍內(nèi)的重要課題。IGBT作為電力轉(zhuǎn)換的核心部件,其效率提升是當前的重點研發(fā)方向。盡管半個多世紀以來,氫離子注入技術(shù)已被用于調(diào)控硅中的電子濃度,但這一技術(shù)背后的核心機制此前始終未被明確。

2023 年,三菱電機與筑波大學(xué)聯(lián)合發(fā)現(xiàn)了硅中一種可提高電子濃度的缺陷復(fù)合物5。研究證實,該復(fù)合物由硅原子間隙與氫結(jié)合形成,但在此過程中自由電子新生成的原因仍不明確6。此次,四家機構(gòu)通過先進的計算模擬,揭示了氫在缺陷復(fù)合物中的存在狀態(tài),解釋了氫釋放電子并使其在硅中成為自由電子的原理。此外,研究結(jié)果表明,這一機制同樣適用于金剛石材料 —— 一種極具潛力的未來功率半導(dǎo)體材料,但其電子能級調(diào)控一直面臨巨大挑戰(zhàn)。

這項研究的完整細節(jié)已于1月13日(倫敦時間)在線發(fā)表于自然出版集團旗下期刊《Communications Materials》上。

<核心亮點>

1)硅中含氫缺陷復(fù)合物產(chǎn)生自由電子的機制

近半個世紀以來,有研究表明向硅中注入氫離子后,氫原子存在的區(qū)域會產(chǎn)生自由電子。如今,該技術(shù)已被用于在 IGBT 等功率半導(dǎo)體內(nèi)部形成含自由電子的N型層。然而,硅材料中的孤立氫原子并不一定會釋放自由電子7,其內(nèi)在機理始終未能明確。

基于 “氫與晶體缺陷共同作用產(chǎn)生自由電子” 的假設(shè),三菱電機與筑波大學(xué)通過電學(xué)光學(xué)測量及電子自旋共振(ESR)技術(shù)8展開聯(lián)合研究。2023年,該團隊發(fā)現(xiàn)I?缺陷(硅晶體中因額外插入硅原子而形成的結(jié)構(gòu)擾動)與自由電子的產(chǎn)生密切相關(guān)。為明確氫的作用,東京科學(xué)大學(xué)與Quemix公司通過第一性原理計算9,在I4缺陷周圍多個候選點位構(gòu)建含氫原子模型,分析了缺陷復(fù)合物的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性及電子態(tài)10。

計算結(jié)果顯示,在無缺陷的硅中,氫原子形成的電子態(tài)無法產(chǎn)生自由電子;而當附近存在I?缺陷時,氫原子會占據(jù)硅原子間共價鍵中間位置11。這種構(gòu)型使I4缺陷相關(guān)的電子態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)槔陔娮俞尫诺臓顟B(tài)?;诜肿榆壍览碚?2的進一步分析表明,這一過程存在協(xié)同效應(yīng):氫原子中的一個電子轉(zhuǎn)移至I?缺陷,隨后I?缺陷釋放出一個可作為自由電子的電子。這種缺陷與氫的協(xié)同作用,正是自由電子產(chǎn)生的關(guān)鍵原因。

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氫與缺陷協(xié)同作用產(chǎn)生自由電子的示意圖

2)技術(shù)驗證:Si IGBT 與二極管功耗最高降低 20%

三菱電機通過結(jié)合氫離子注入形成N型層與減薄硅襯底厚度的技術(shù),成功降低了Si IGBT與二極管的功耗。例如,在1200V器件中,與第七代產(chǎn)品相比,IGBT的總功耗降低了10%,二極管的總功耗降低了20%,相關(guān)技術(shù)已完成驗證。此次機理闡明的關(guān)鍵——關(guān)于氫致自由電子生成的基礎(chǔ)性見解,為這些功耗降低提供了理論支撐。

3)對超寬禁帶(UWBG)材料適用性的理論驗證

金剛石、氮化鋁(AlN)等材料在未來功率半導(dǎo)體及量子傳感器領(lǐng)域具有廣闊應(yīng)用前景,但傳統(tǒng)方法難以對其電子濃度進行有效調(diào)控,阻礙了其實際應(yīng)用。為探究硅中發(fā)現(xiàn)的氫致自由電子產(chǎn)生機制是否適用于超寬禁帶材料,研究團隊進行了初步的第一性原理計算。結(jié)果表明,金剛石與硅具有相似的共價晶體結(jié)構(gòu),氫原子嵌入碳原子間共價鍵比占據(jù)間隙位更穩(wěn)定。當存在成對缺陷時,這種鍵合位嵌入的氫原子同樣可在金剛石中發(fā)揮作用。這一發(fā)現(xiàn)從基礎(chǔ)理論層面為某些超寬禁帶材料的電子濃度控制提供了潛在解決方案。

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金剛石晶體中氫原子的結(jié)構(gòu)形態(tài)

<各方職責>

機構(gòu)名稱 主要職責
三菱電機
株式會社
①電學(xué)與光學(xué)測量評估
②識別影響電子濃度的缺陷
③構(gòu)建機制模型
東京科學(xué)大學(xué) ①基于密度泛函理論(DFT)13的第一性原理計算
② 氫與缺陷相互作用的闡明
③ 構(gòu)建機制模型
筑波大學(xué) ①電子自旋共振(ESR)技術(shù)測量評估
②識別影響電子濃度的缺陷
③構(gòu)建機制模型
Quemix 公司 ① 基于密度泛函理論(DFT)的第一性原理計算
②闡明氫與缺陷的相互作用
③構(gòu)建機制模型

本研究得到了日本學(xué)術(shù)振興會(JSPS)科研費資助(項目編號:21H04553、20H00340、22H01517),并獲得了可持續(xù)量子人工智能創(chuàng)新中心(JST,資助編號:JPMJPF2221)的額外支持。

<未來展望>

研究團隊計劃將這一機制應(yīng)用于金剛石等傳統(tǒng)電子濃度調(diào)控難度較大的超寬禁帶材料,推動功率半導(dǎo)體、高頻器件及量子傳感器等半導(dǎo)體器件的研發(fā)進程,為實現(xiàn)碳中和目標提供重要技術(shù)支撐。

<發(fā)表信息>

標題 Advancing N-type doping in semiconductors through hydrogen-defect interactions
作者 Akira Kiyoi, Yusuke Nishiya, Yuichiro Matsushita & Takahide Umeda
期刊 Communication Materials(自然出版集團旗下期刊)
日期 2026 年 1 月 13 日(倫敦時間)
DOI 10.1038/s43246-025-00955-4

<關(guān)于三菱電機株式會社>

三菱電機株式會社(東京證券交易所代碼:6503)擁有超過 100 年的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)經(jīng)驗,是全球知名電氣電子設(shè)備制造商,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于信息處理與通信、太空開發(fā)與衛(wèi)星通信、消費電子、工業(yè)技術(shù)、能源、交通及建筑設(shè)備等領(lǐng)域。三菱電機秉持 “精益求精,共創(chuàng)美好” 的理念,以技術(shù)賦能社會發(fā)展。截至 2025 年 3 月 31 日的財年,公司營收達 55217 億日元(約合 368 億美元*)。

* 美元換算基于 2025 年 3 月 31 日東京外匯市場近似匯率:150 日元兌 1 美元。

<關(guān)于東京科學(xué)大學(xué)>

東京科學(xué)大學(xué)(Science Tokyo)于 2024 年 10 月 1 日由東京醫(yī)科齒科大學(xué)與東京工業(yè)大學(xué)合并組建,秉持 “深耕科學(xué),增進民生福祉,共創(chuàng)社會價值” 的使命。

<關(guān)于筑波大學(xué)>

筑波大學(xué)源于東京教育大學(xué),1973 年 10 月遷至筑波地區(qū)正式成立。作為日本全國大學(xué)改革計劃下設(shè)立的新型綜合性大學(xué),該校以 “開放性” 為核心理念,構(gòu)建了 “新型教育研究體系” 與 “新型大學(xué)管理模式”。筑波大學(xué)持續(xù)推進改革,致力于打造教育科研設(shè)施一流、獨具特色、充滿活力且具有國際競爭力的頂尖學(xué)府。

<關(guān)于Quemix 公司>

Quemix 公司是 TerraSky 株式會社(總部:東京都中央?yún)^(qū);首席執(zhí)行官:佐藤英也)的全資子公司,專注于量子計算機、量子傳感器及材料計算領(lǐng)域的研發(fā)。秉承"通過量子技術(shù)實現(xiàn)未來構(gòu)想"的發(fā)展愿景,Quemix致力于為引領(lǐng)量子時代的企業(yè)提供突破性創(chuàng)新解決方案。

自 2019 年成立以來,Quemix 公司專注于容錯量子計算機(FTQC)算法研發(fā),成功開發(fā)并專利注冊了概率虛時演化(PITE)算法,該算法已通過數(shù)學(xué)證明可在量子化學(xué)計算中實現(xiàn)量子加速。作為日本容錯量子計算機算法領(lǐng)域的先驅(qū),Quemix 公司計劃于 2028 年前將實用化量子計算應(yīng)用于材料計算與模擬領(lǐng)域。

1 根據(jù)三菱電機截至2026年1月14日進行的研究。

2 影響自由電子遷移和復(fù)合的結(jié)構(gòu)缺陷。

3 能在硅晶體內(nèi)自由移動的電子,它們的濃度是通過有意引入特定雜質(zhì)來控制的。

4 金剛石、氮化鋁等半導(dǎo)體,其帶隙比傳統(tǒng)硅或碳化硅半導(dǎo)體大。

5 由本征缺陷(如硅原子間隙)和外來缺陷(如氫)組成的缺陷復(fù)合體。在功率半導(dǎo)體中,這類缺陷復(fù)合體是為了控制器件性能而有意形成的。

6 “氫如何在硅中轉(zhuǎn)變?yōu)闇\施主?”,Phys. Rev. B 108, 235201 (2023)。

7 在無缺陷的硅中,氫原子會根據(jù)其電荷狀態(tài)占據(jù)硅四面體間隙位或共價鍵中心位,形成無法產(chǎn)生自由電子的電子態(tài)。

8 一種用于在磁場中檢測未配對電子的光譜技術(shù)。

9 一種基于量子力學(xué)定律預(yù)測材料特性的計算方法,無需依賴實驗數(shù)據(jù)。

10 電子態(tài)的能級對于控制電子濃度至關(guān)重要,因為如果熱能超過該能級,電子可能受熱激發(fā)成為自由電子。

11 晶體中的鍵是使原子或分子保持特定晶體結(jié)構(gòu)的力,影響材料的物理性質(zhì),如硬度、電導(dǎo)率和熔點。

12 一種用于理解分子內(nèi)電子排列和能量狀態(tài)的理論。

13 一種基于量子力學(xué)的計算方法,將電子密度視為基本變量,并計算電子態(tài)以預(yù)測材料的性質(zhì)。

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原文標題:多方聯(lián)合揭示硅中氫致自由電子生成機制

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