電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,在國(guó)際顯示領(lǐng)域權(quán)威學(xué)術(shù)論壇 SID 上,維信諾技術(shù)專(zhuān)家陳發(fā)祥受邀發(fā)表主題報(bào)告,正式宣布公司率先推出高遷移率 ALD(原子層沉積)全氧化物技術(shù)量產(chǎn)解決方案。這一突破性成果,不僅標(biāo)志著維信諾在 OLED 核心技術(shù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全新跨越,更打破了現(xiàn)有顯示背板技術(shù)的發(fā)展瓶頸,為全球 OLED 產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量升級(jí)開(kāi)辟全新路徑,充分彰顯了中國(guó)顯示企業(yè)在核心技術(shù)自主創(chuàng)新領(lǐng)域的硬實(shí)力。
要讀懂維信諾此次技術(shù)突破的行業(yè)價(jià)值,首先需厘清當(dāng)前 OLED 背板技術(shù)兩大主流路線(xiàn)的固有痛點(diǎn)。
長(zhǎng)期以來(lái),LTPS(低溫多晶硅)憑借較高的電子遷移率,始終占據(jù)高性能 OLED 背板主流地位。但其制程高度依賴(lài)激光退火(ELA)工藝,不僅工藝復(fù)雜、設(shè)備造價(jià)高昂,大幅推高制造成本,同時(shí)在向大世代產(chǎn)線(xiàn)擴(kuò)產(chǎn)時(shí),還面臨良率偏低、面板均一性不足等突出難題。
反觀(guān)傳統(tǒng)氧化物(Oxide)方案,雖具備大面積沉積天然優(yōu)勢(shì)、成膜均勻性?xún)?yōu)異,但電子遷移率始終處于偏低水平。受此限制,其應(yīng)用場(chǎng)景長(zhǎng)期局限于中尺寸或低刷新率產(chǎn)品領(lǐng)域,難以切入高端小尺寸顯示市場(chǎng)。
行業(yè)亟需一種全新工藝路線(xiàn):既能承襲氧化物技術(shù)適配大尺寸、低成本的天然優(yōu)勢(shì),又能擁有媲美甚至超越 LTPS 的高性能表現(xiàn)。
維信諾給出的解決方案,是從底層革新材料成膜工藝,引入 ALD技術(shù)。若將傳統(tǒng) PVD(物理氣相沉積)比作潑墨式鋪涂,一次性把材料覆蓋在基板表面;ALD 則是精度極高的原子級(jí)逐層生長(zhǎng)技術(shù),通過(guò)連續(xù)氣相化學(xué)反應(yīng),在原子層級(jí)實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)沉積控制。這種精細(xì)化制程,實(shí)現(xiàn)了膜層厚度與組分的極致均勻性。
陳發(fā)祥在報(bào)告中詳細(xì)闡釋了維信諾高遷移率 ALD 全氧化物技術(shù)的核心突破。不同于PVD一次性成膜的方式,ALD 采用逐層生長(zhǎng)的精密制備模式,依托飽和表面反應(yīng)機(jī)制,可實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)膜厚管控,兼具優(yōu)異的膜層均勻性與臺(tái)階覆蓋率,從材料底層為全氧化物 TFT(薄膜晶體管)性能升級(jí)筑牢基礎(chǔ)。此次維信諾發(fā)布的量產(chǎn)方案,實(shí)現(xiàn)全氧化物 TFT單柵遷移率突破 50cm2/V?s、雙柵遷移率突破 80cm2/V?s,達(dá)到全球領(lǐng)先水平,性能大幅超越傳統(tǒng)氧化物技術(shù),可對(duì)標(biāo)主流 LTPS 工藝;同時(shí)無(wú)需復(fù)雜激光退火流程,從源頭簡(jiǎn)化制造工序、提升生產(chǎn)效率,真正實(shí)現(xiàn)高性能與低成本雙重突破。
技術(shù)落地性與量產(chǎn)可行性,是本次方案發(fā)布的核心亮點(diǎn)。據(jù)陳發(fā)祥介紹,維信諾已完成該技術(shù)多輪工藝驗(yàn)證,并成功點(diǎn)亮 6.39 英寸全氧化物面板。實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)顯示,產(chǎn)品在成膜精度、工作穩(wěn)定性、批次一致性等關(guān)鍵工藝指標(biāo)上均已達(dá)到量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn):膜厚片間波動(dòng)小于 2%,膜厚面內(nèi)均一性小于 4%,可保障批量生產(chǎn)的穩(wěn)定性與可復(fù)制性,滿(mǎn)足面板制造對(duì)產(chǎn)品一致性的嚴(yán)苛要求。目前該技術(shù)已在 4.5 代產(chǎn)線(xiàn)完成工藝驗(yàn)證,具備向 8.6 代等高世代產(chǎn)線(xiàn)拓展的能力,為后續(xù)全尺寸顯示產(chǎn)品落地提供堅(jiān)實(shí)工藝支撐。
從行業(yè)格局來(lái)看,維信諾高遷移率 ALD 全氧化物量產(chǎn)方案的推出,將深刻重塑全球 OLED 產(chǎn)業(yè)技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)格局。當(dāng)前顯示產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)重心正從手機(jī)等小尺寸產(chǎn)品,向筆記本、平板、車(chē)載顯示等中大尺寸領(lǐng)域轉(zhuǎn)移。ALD 全氧化物技術(shù)具備全尺寸產(chǎn)線(xiàn)適配能力,此次小尺寸面板成功點(diǎn)亮,意味著該技術(shù)已具備切入高端小尺寸市場(chǎng)的實(shí)力,未來(lái)可廣泛適配智能終端、車(chē)載座艙、VR/AR 等多應(yīng)用場(chǎng)景,為顯示產(chǎn)業(yè)增量市場(chǎng)拓展提供核心技術(shù)支撐。
要讀懂維信諾此次技術(shù)突破的行業(yè)價(jià)值,首先需厘清當(dāng)前 OLED 背板技術(shù)兩大主流路線(xiàn)的固有痛點(diǎn)。
長(zhǎng)期以來(lái),LTPS(低溫多晶硅)憑借較高的電子遷移率,始終占據(jù)高性能 OLED 背板主流地位。但其制程高度依賴(lài)激光退火(ELA)工藝,不僅工藝復(fù)雜、設(shè)備造價(jià)高昂,大幅推高制造成本,同時(shí)在向大世代產(chǎn)線(xiàn)擴(kuò)產(chǎn)時(shí),還面臨良率偏低、面板均一性不足等突出難題。
反觀(guān)傳統(tǒng)氧化物(Oxide)方案,雖具備大面積沉積天然優(yōu)勢(shì)、成膜均勻性?xún)?yōu)異,但電子遷移率始終處于偏低水平。受此限制,其應(yīng)用場(chǎng)景長(zhǎng)期局限于中尺寸或低刷新率產(chǎn)品領(lǐng)域,難以切入高端小尺寸顯示市場(chǎng)。
行業(yè)亟需一種全新工藝路線(xiàn):既能承襲氧化物技術(shù)適配大尺寸、低成本的天然優(yōu)勢(shì),又能擁有媲美甚至超越 LTPS 的高性能表現(xiàn)。
維信諾給出的解決方案,是從底層革新材料成膜工藝,引入 ALD技術(shù)。若將傳統(tǒng) PVD(物理氣相沉積)比作潑墨式鋪涂,一次性把材料覆蓋在基板表面;ALD 則是精度極高的原子級(jí)逐層生長(zhǎng)技術(shù),通過(guò)連續(xù)氣相化學(xué)反應(yīng),在原子層級(jí)實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)沉積控制。這種精細(xì)化制程,實(shí)現(xiàn)了膜層厚度與組分的極致均勻性。
陳發(fā)祥在報(bào)告中詳細(xì)闡釋了維信諾高遷移率 ALD 全氧化物技術(shù)的核心突破。不同于PVD一次性成膜的方式,ALD 采用逐層生長(zhǎng)的精密制備模式,依托飽和表面反應(yīng)機(jī)制,可實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)膜厚管控,兼具優(yōu)異的膜層均勻性與臺(tái)階覆蓋率,從材料底層為全氧化物 TFT(薄膜晶體管)性能升級(jí)筑牢基礎(chǔ)。此次維信諾發(fā)布的量產(chǎn)方案,實(shí)現(xiàn)全氧化物 TFT單柵遷移率突破 50cm2/V?s、雙柵遷移率突破 80cm2/V?s,達(dá)到全球領(lǐng)先水平,性能大幅超越傳統(tǒng)氧化物技術(shù),可對(duì)標(biāo)主流 LTPS 工藝;同時(shí)無(wú)需復(fù)雜激光退火流程,從源頭簡(jiǎn)化制造工序、提升生產(chǎn)效率,真正實(shí)現(xiàn)高性能與低成本雙重突破。
技術(shù)落地性與量產(chǎn)可行性,是本次方案發(fā)布的核心亮點(diǎn)。據(jù)陳發(fā)祥介紹,維信諾已完成該技術(shù)多輪工藝驗(yàn)證,并成功點(diǎn)亮 6.39 英寸全氧化物面板。實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)顯示,產(chǎn)品在成膜精度、工作穩(wěn)定性、批次一致性等關(guān)鍵工藝指標(biāo)上均已達(dá)到量產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn):膜厚片間波動(dòng)小于 2%,膜厚面內(nèi)均一性小于 4%,可保障批量生產(chǎn)的穩(wěn)定性與可復(fù)制性,滿(mǎn)足面板制造對(duì)產(chǎn)品一致性的嚴(yán)苛要求。目前該技術(shù)已在 4.5 代產(chǎn)線(xiàn)完成工藝驗(yàn)證,具備向 8.6 代等高世代產(chǎn)線(xiàn)拓展的能力,為后續(xù)全尺寸顯示產(chǎn)品落地提供堅(jiān)實(shí)工藝支撐。
從行業(yè)格局來(lái)看,維信諾高遷移率 ALD 全氧化物量產(chǎn)方案的推出,將深刻重塑全球 OLED 產(chǎn)業(yè)技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)格局。當(dāng)前顯示產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)重心正從手機(jī)等小尺寸產(chǎn)品,向筆記本、平板、車(chē)載顯示等中大尺寸領(lǐng)域轉(zhuǎn)移。ALD 全氧化物技術(shù)具備全尺寸產(chǎn)線(xiàn)適配能力,此次小尺寸面板成功點(diǎn)亮,意味著該技術(shù)已具備切入高端小尺寸市場(chǎng)的實(shí)力,未來(lái)可廣泛適配智能終端、車(chē)載座艙、VR/AR 等多應(yīng)用場(chǎng)景,為顯示產(chǎn)業(yè)增量市場(chǎng)拓展提供核心技術(shù)支撐。
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