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中微半導(dǎo)體的5nm等離子體蝕刻機將用于臺積電全球首條5nm工藝生產(chǎn)線

jXID_bandaotigu ? 來源:lq ? 2018-12-21 15:59 ? 次閱讀
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作為全球頭號代工廠,臺積電的新工藝正在一路狂奔,7nm EUV極紫外光刻工藝已經(jīng)完成首次流片,5nm工藝也將在2019年4月開始風(fēng)險試產(chǎn),預(yù)計2020年量產(chǎn)。

不過眾所周知,半導(dǎo)體工藝是一項集大成的高精密科技,新工藝也并非臺積電自己完全搞定,而是依賴整個產(chǎn)業(yè)鏈的設(shè)備和技術(shù)供應(yīng),比如大家比較熟悉的***,就普遍來自荷蘭ASML。

據(jù)了解,在臺積電的5nm生產(chǎn)線中,就將有來自深圳中微半導(dǎo)體的5nm等離子體蝕刻機,自主研發(fā),近日已經(jīng)通過了臺積電的驗證,將用于全球首條5nm工藝生產(chǎn)線。

中微半導(dǎo)體與臺積電在28nm工藝世代就已經(jīng)有合作,10nm、7nm工藝也一直延續(xù)下來,值得一提的是,中微半導(dǎo)體也是唯一進入臺積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸本土設(shè)備商。

據(jù)介紹,等離子體刻蝕機是芯片制造中的一種關(guān)鍵設(shè)備,用來在芯片上進行微觀雕刻,每個線條和深孔的加工精度都是頭發(fā)絲直徑的幾千分之一到上萬分之一,精度控制要求非常高。

比如,16nm工藝的微觀邏輯器件有60多層微觀結(jié)構(gòu),要經(jīng)過1000多個工藝步驟,攻克上萬個技術(shù)細節(jié)才能加工出來。

中微半導(dǎo)體CEO尹志堯形容說:“在米粒上刻字的微雕技藝上,一般能刻200個字已經(jīng)是極限,而我們的等離子刻蝕機在芯片上的加工工藝,相當于可以在米粒上刻10億個字的水平?!?/p>

或許在很多人看來,刻蝕技術(shù)并不如***那般“高貴”,但刻蝕在芯片的加工和生產(chǎn)過程中同樣不可或缺。實際上,刻蝕機主要是按照前段***“描繪”出來的線路來對晶片進行更深入的微觀雕刻,刻出溝槽或接觸孔,然后除去表面的光刻膠,從而形成刻蝕線路圖案。通俗來講,***的作用就好比雕刻之前在木板或者石板上描摹繪線,而刻蝕機則需要嚴格按照***描繪好的線條來“雕刻”出刻痕圖案。所以,在芯片的整個生產(chǎn)工藝過程中需要先用到***,然后才用到刻蝕機,接下來重復(fù)地使用兩種設(shè)備,直至完整地將設(shè)計好的電路圖搬運到晶圓上為止。

但在過去,由于大陸并不具備可量產(chǎn)半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備的能力,基本上都是依靠進口,而美歐等國為防止中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進步,多年以來一直對該領(lǐng)域?qū)嵭屑夹g(shù)封鎖。由于半導(dǎo)體設(shè)備動輒千萬上億的研發(fā)成本以及超高的技術(shù)難度,導(dǎo)致中國大陸在該領(lǐng)域一直以來走的十分艱難。不過,2015年之后,中國本土逐漸成長出了以中微半導(dǎo)體為代表的多家半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備供應(yīng)商(比如主攻硅刻蝕和金屬刻蝕的北方華創(chuàng)等),且因中微在等離子體刻蝕機的質(zhì)量和數(shù)量上逐漸比肩國際大廠,躋身一線水平,美國商務(wù)部也因此取消了對中國刻蝕機的出口管制。

長期以來,蝕刻機的核心技術(shù)一直被國外廠商壟斷,而中微半導(dǎo)體從65nm等離子介質(zhì)蝕刻機開始,45nm、32nm、28nm、16nm、10nm一路走下來,7nm蝕刻機也已經(jīng)運行在客戶的生產(chǎn)線上,5nm蝕刻機即將被臺積電采用。

中微半導(dǎo)體首席專家、副總裁倪圖強博士表示,刻蝕機曾是一些發(fā)達國家的出口管制產(chǎn)品,但近年來,這種高端裝備在出口管制名單上消失了。這說明如果我們突破了“卡脖子”技術(shù),出口限制就會不復(fù)存在。如今,中微與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)一起,組成了國際第一梯隊,為7nm芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機。

不過要特別注意,中微半導(dǎo)體搞定5nm蝕刻機,完全不等于就可以生產(chǎn)5nm芯片了,因為蝕刻只是眾多工藝環(huán)節(jié)中的一個而已。

整體而言,我國半導(dǎo)體制造技術(shù)還差距非常大,尤其是***,最好的上海微電子也只是做到了90nm的國產(chǎn)化。

當然在另一個方面,我國的半導(dǎo)體技術(shù)也在不同層面奮起直追,不斷縮小差距,比如依然很先進的14nm工藝,在14nm 領(lǐng)域,北方華創(chuàng)的硅/金屬蝕刻機、北方華創(chuàng)的薄膜沉積設(shè)備、北方華創(chuàng)的單片退火設(shè)備、上海盛美的清洗設(shè)備,都已經(jīng)開發(fā)成功,正在進行驗證。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:在制裁圍堵中成長:中微5nm蝕刻機將用于臺積電5nm芯片制造

文章出處:【微信號:bandaotiguancha,微信公眾號:半導(dǎo)體觀察IC】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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