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臺(tái)積電將7nm工藝向6nm工藝制造進(jìn)發(fā),降低整體開發(fā)成本

中國半導(dǎo)體論壇 ? 來源:YXQ ? 2019-05-05 10:02 ? 次閱讀
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近期有消息稱,臺(tái)積電將7nm工藝向6nm工藝制造進(jìn)發(fā),未來6nm將成為臺(tái)積電服務(wù)客戶的重心,這個(gè)信息來自臺(tái)積電季度收益的電話會(huì)議。

臺(tái)積電將7nm工藝向6nm工藝制造進(jìn)發(fā)

6nm工藝細(xì)節(jié)方面,N6工藝雖然使用了新的生產(chǎn)設(shè)備,晶體管密度比N7制造高18%,但設(shè)計(jì)規(guī)則并沒有改變,沿用了N7的方案,可以降低整體開發(fā)成本。

目前臺(tái)積電的合作伙伴普遍采用N7和N7+兩種工藝,N7還是主力,預(yù)計(jì)今年臺(tái)積電將從N7轉(zhuǎn)向N6,然后直達(dá)N5,逐步通過迭代完成戰(zhàn)略轉(zhuǎn)移。

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原文標(biāo)題:臺(tái)積電:今年7nm轉(zhuǎn)向6nm 提升18%!

文章出處:【微信號(hào):CSF211ic,微信公眾號(hào):中國半導(dǎo)體論壇】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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