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佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF?※1半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級配件包（以下簡稱“Grade10”升級包）。KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a” 自發(fā)售至今，已經(jīng)在生產(chǎn)存儲器和邏輯電路的大型半導(dǎo)體器件制造廠商中收獲良好口碑，此次發(fā)布的“Grade10”升級包將助力該設(shè)備在300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上，以每小時高達(dá)300片※2晶圓的加工能力實現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)內(nèi)的更高水平※3。 ? ? 隨著市場對半導(dǎo)體器件需求的持續(xù)增長，半導(dǎo)體器件制造廠商也在不斷

初始屏蔽檢查 對蝕刻工藝的良好理解始于理解初始掩模輪廓，無論是光致抗蝕劑還是硬掩模。掩模的重要參數(shù)是厚度和側(cè)壁角度。如果可能，對橫截面進(jìn)行SEM檢查，以確定適用于您的蝕刻步驟的不同特征尺寸的側(cè)壁角度。對于大特征和非關(guān)鍵蝕刻，可能只需要測量掩模厚度。 檢查抗蝕劑掩模是否需要去渣。一般來說，通過去除顯影步驟留下的有機(jī)殘留物，去渣將使蝕刻步驟在每次運行之間更加一致。在某些情況下，不管曝光和顯影時間如何，這種殘留

半導(dǎo)體器件的制造工程已使光電儀器、激光二極管和無線通信設(shè)備以及許多其他現(xiàn)代設(shè)備成為可能。從巴丁、布里泰因和肖克利1947年在貝爾實驗室發(fā)明晶體管，到大約十年后基爾比和諾伊斯推出集成電路，半導(dǎo)體器件極大地推動了計算和電子工業(yè)的發(fā)展。

摘要 溶液中晶片表面的顆粒沉積。然而，粒子沉積和清除機(jī)制液體。在高離子中觀察到最大的粒子沉積:本文將討論粒子沉積的機(jī)理酸性溶液的濃度，并隨著溶液pH值的增加而降低，在使用折痕。還研究了各種溶液中的顆粒去除效率。在大約0.05∶1∶5(0.05份nh4oh、1份H2O、5份H2O)的比率下，優(yōu)化了nh4oh-1-zO溶液中的nh4oh-1∶5的IH含量。在使用該比率的NHdOH-hzo tFt處理期間，通過表面微觀粗糙度測量的損傷沒有增加。 介紹 QT清洗技術(shù)將繼續(xù)在半導(dǎo)體器件的ULSI制造中

本文描述了我們?nèi)A林科納研究去除金屬硬掩模蝕刻后光致抗蝕劑去除和低k蝕刻后殘留物去除的關(guān)鍵挑戰(zhàn)并概述了一些新的非等離子體為基礎(chǔ)的方法。 隨著圖案尺寸的不斷減小，金屬硬掩模(MHM)蝕刻后留下的光刻抗蝕劑更難去除，因為沒有或只有很小部分的光刻抗蝕劑(PR)沒有交聯(lián)的，采用MHM模式，干燥的PR帶通常會導(dǎo)致低k材料的頂角的第一類等離子體損傷，延伸到MHM層的邊緣下方，這個受損的區(qū)域在隨后的清洗中很容易受到攻擊，從而產(chǎn)生具有非平面頂

. 來源 ： SK 海力士

2022年5月26日?– 提供超豐富半導(dǎo)體和電子元器件?的業(yè)界知名新品引入 (NPI) 分銷商貿(mào)澤電子 (Mouser Electronics) 提供了大量聚焦客戶需求的在線工具，幫助客戶簡化及優(yōu)化選擇與采購流程。貿(mào)澤的服務(wù)與工具頁面以及幫助中心可以幫助客戶輕松瀏覽、選擇和購買產(chǎn)品，不僅讓客戶能夠查看和跟蹤訂單、請求技術(shù)支持和下載數(shù)據(jù)手冊、通過API或EDI下單，還可享受到更多其他功能。 ? 貿(mào)澤亞太區(qū)市場及商務(wù)拓展副總裁田吉平女士表示：“?貿(mào)澤擁有豐富多樣的

半導(dǎo)體工業(yè)中表面處理和預(yù)清洗的重要性是眾所周知的。為了確保良好的薄膜粘附和金屬-半導(dǎo)體接觸的低電阻，酸或堿處理后的某些溶劑或等離子體清洗對于去除有機(jī)殘留物和表面氧化物是必不可少的。已知多種蝕刻劑可有效去除天然GaAs氧化物。然而，對于在特定的加工步驟中使用什么樣的處理以及需要什么樣的濃度和加工時間來達(dá)到有效的結(jié)果，工業(yè)上幾乎沒有標(biāo)準(zhǔn)化。此外，與制備特定蝕刻化學(xué)物質(zhì)相關(guān)的成本和所涉及的化學(xué)物質(zhì)的有效壽命以前沒有被仔細(xì)研究過。這篇合作論文將回顧幾個大批量生產(chǎn)組織中濕法氧化物去除蝕刻的一般實踐，以及對這些實踐有效性的研究。

2022年5月25日—NI（納斯達(dá)克：NATI）在時隔兩年再次回歸線下的全球用戶大會上推出DataStudio軟件，這一全新的從設(shè)計到測試完整的分析軟件為現(xiàn)代、安全和可擴(kuò)展的工程數(shù)據(jù)基礎(chǔ)設(shè)施和應(yīng)用程序奠定了基礎(chǔ)，加快了無線通信、半導(dǎo)體和電子創(chuàng)新的步伐。 ? ? 為了滿足快速跟蹤產(chǎn)品開發(fā)的需要，DataStudio軟件在半導(dǎo)體設(shè)計和測試工作流程中架起了關(guān)鍵數(shù)據(jù)的橋梁。DataStudio Specification Compliance Manager（SCM）是DataStudio系列中第一個應(yīng)用程序，它能管理設(shè)備規(guī)格、