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光阻去除工藝有哪些

發(fā)表于07-30 13:25 ? 1667

超薄晶圓切割液性能優(yōu)化與 TTV 均勻性保障技術(shù)探究

發(fā)表于07-30 10:29 ? 620

超快恢復(fù)二極管選型不當(dāng)導(dǎo)致效率降低的分析與應(yīng)對(duì)

發(fā)表于07-30 10:09 ? 634

半導(dǎo)體清洗機(jī)循環(huán)泵怎么用

發(fā)表于07-29 11:10 ? 843

半導(dǎo)體清洗機(jī)氮?dú)庠趺磁?/h3>

半導(dǎo)體清洗機(jī)中氮?dú)馀欧诺南到y(tǒng)化解決方案，涵蓋安全、效率與工藝兼容性三大核心要素：一、閉環(huán)回收再利用系統(tǒng)通過(guò)高精度壓力傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)腔室內(nèi)氮?dú)鉂舛?，?dāng)達(dá)到設(shè)定閾值時(shí)自動(dòng)啟動(dòng)循環(huán)模式。采用活性炭吸附柱對(duì)排出氣體進(jìn)行純化處理，去除微量水分及揮發(fā)性有機(jī)物后，經(jīng)冷干機(jī)進(jìn)一步脫水，最終通過(guò)變頻壓縮機(jī)重新壓回儲(chǔ)氣罐。此設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)95%以上的氮?dú)饣厥章剩@著降低運(yùn)行成本。關(guān)

發(fā)表于07-29 11:05 ? 862

臺(tái)階儀測(cè)試原理及應(yīng)用 | 半導(dǎo)體ZnO薄膜厚度測(cè)量及SERS性能研究

發(fā)表于07-28 18:04 ? 1044

二極管的工作原理和四大用途

發(fā)表于07-28 10:50 ? 1.8w

FIB在半導(dǎo)體分析測(cè)試中的應(yīng)用

發(fā)表于07-24 11:34 ? 1080

晶圓清洗工藝有哪些類(lèi)型

發(fā)表于07-23 14:32 ? 2604

晶圓切割深度動(dòng)態(tài)補(bǔ)償?shù)闹悄軟Q策模型與 TTV 預(yù)測(cè)控制

發(fā)表于07-23 09:54 ? 715