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標簽 > 光刻膠

光刻膠

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光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

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光刻膠資訊

半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)營收靚麗!打造光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈 博康欲成國產(chǎn)光刻膠的中流砥柱

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2022-08-31 標簽:光刻膠徐州博康 4.8k 0

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2022-08-29 標簽:EUV光刻膠南大光電 9.2k 0

消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡在近紅外波段的消色差效果

傳統(tǒng)光學(xué)器件因體積笨重等缺點無法滿足現(xiàn)代光學(xué)設(shè)備對光學(xué)系統(tǒng)集成化的要求,隨著超構(gòu)表面的迅速發(fā)展,新一代微型光學(xué)系統(tǒng)的出現(xiàn)成為可能。超構(gòu)表面是一種由人工設(shè)...

2022-08-12 標簽:FDTD光刻膠光學(xué)器件 3.2k 0

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2022-07-25 標簽:晶片光刻膠 6.3k 0

芯片是怎么被“光刻”出來的

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2022-07-25 標簽:光刻機光刻膠 5.3k 0

干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)

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光刻膠剝離用組合物及用其進行剝離的方法介紹

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本文章介紹了我們?nèi)A林科納一種光刻膠剝離用組合物,該組合物不僅對離子注入工藝后或離子注入工藝和高溫加熱工藝后硬化或變質(zhì)為聚合物的光刻膠具有良好的去除力,而...

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光刻的基礎(chǔ)內(nèi)容

負性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮氣的光敏劑,產(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯...

2022-06-22 標簽:光刻技術(shù)光刻膠 3.3k 0

半導(dǎo)體等精密電子器件制造的核心流程:光刻工藝

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化...

2022-06-21 標簽:pcb半導(dǎo)體光刻膠 2.3萬 0

使用全濕法去除Cu BEOL中的光刻膠和BARC

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這項研究首先集中于去除直接沉積在硅襯底上的193納米厚的光刻膠和BARC層,使用傅里葉變換紅外光譜(FTIR)和橢圓偏振光譜(SE)來評估去除效率,在第...

2022-05-30 標簽:半導(dǎo)體光刻膠 2.3k 0

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引言 在許多集成電路制造步驟中,化學(xué)蝕刻仍然優(yōu)于等離子體蝕刻。事實上,它能夠?qū)崿F(xiàn)更好的表面光滑度控制,這是獲得足夠的載流子遷移率至關(guān)重要的。在這些步驟中...

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變送器 傳感器 解析器 編碼器 陀螺儀 加速計 溫度傳感器 壓力傳感器
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開關(guān)電源 步進電機 無線充電 LabVIEW EMC PLC OLED 單片機
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