在下周四（4月18日），臺積電預計召開法說會。此前，市場曾對其年度資本支出上漲有所揣測。然而，據(jù)最新供應鏈信息顯示，臺積電今年的資本支出極可能維持在上季度透露的280億美元至320億美元這一區(qū)間內(nèi)，既無漲幅亦不會下跌，預計實際數(shù)額將會接近高標320億美元。

業(yè)內(nèi)專家普遍認為，鑒于臺積電能效計算（HPC）和AI業(yè)務需求增長迅猛以及先進制程產(chǎn)能利用率提升，但3納米和5納米等相關(guān)系列產(chǎn)品所依賴的設備機器大部分都可共享使用，故而投資額較大部分將投入到先進封裝和2納米先進制程技術(shù)研究領(lǐng)域；因此，盡管制程材料成本不斷攀升，今年的資本支出仍無明顯調(diào)整。

臺積電早前在1月份的法說會上明確表示，2024年資本支出范圍為280億美元至320億美元，其中70％至80％預留給先進制程技術(shù)，10％至20％用于特殊制程技術(shù)，其余10％則投向先進封裝、測試、光罩制作以及其他項目。

需要注意的是，2023年臺積電實際資本支出為304.5億美元，低于預期仍能達到的320億美元底線；雖然未達標，引起了市場廣泛討論。據(jù)分析，此情況主要是因為出于對市場短期不確定性的擔憂，適度收縮資本支出所致。

據(jù)相關(guān)人士預測，今年臺積電實際資本支出有望達到305億美元至320億美元左右，相當于前期公布的年度資本支出目標的上限。具體數(shù)量，尚需等待臺積電本周四（4月18日）法說會的正式發(fā)布。