2024年5月11日,知名科技企業(yè)新思科技(Synopsys, Inc., SNPS)公布與臺灣積體電路股份有限公司(TSMC)的深度合作,涉及先進工藝節(jié)點設計的EDA和IP領域。此次合作成果已成功運用于人工智能(AI)、高性能計算(HPC)以及移動設備設計等多個領域。近期,雙方聯(lián)手優(yōu)化了光子集成電路(PIC)流程,滿足了硅光子技術對更高功率、性能及晶體管密度的需求。值得一提的是,新思科技的數(shù)字和模擬設計流程備受行業(yè)贊譽,適用于臺積公司的N3/N3P和N2工藝技術。目前,兩家公司正致力于研發(fā)下一代AI驅(qū)動型芯片設計流程——新思科技DSO.ai?,旨在提升設計效率和芯片設計生產(chǎn)力。同時,新思科技也為臺積公司的N2/N2P工藝開發(fā)了豐富的基礎和接口IP產(chǎn)品組合。此外,新思科技、是德科技(Keysight)與Ansys聯(lián)合推出全新集成射頻(RF)設計遷移流程,協(xié)助客戶從臺積公司N16工藝節(jié)點順利過渡至N6RF+工藝節(jié)點。
新思科技EDA事業(yè)部戰(zhàn)略與產(chǎn)品管理副總裁Sanjay Bali表示:“新思科技在可投產(chǎn)的EDA流程和支持3Dblox標準的3DIC Compiler光子集成方面的先進成果,結(jié)合我們廣泛的IP產(chǎn)品組合,使得我們與臺積公司能夠助力開發(fā)者基于臺積公司先進工藝加速下一代芯片設計創(chuàng)新。我們與臺積公司長達數(shù)十年的緊密合作,為業(yè)界提供了關鍵性的EDA和IP解決方案,助力合作伙伴實現(xiàn)跨工藝節(jié)點的快速設計遷移,顯著提升了設計質(zhì)量和生產(chǎn)力。”
臺積公司設計基礎設施管理部負責人Dan Kochpatcharin表示:“我們與新思科技等開放創(chuàng)新平臺(OIP)生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴的緊密協(xié)作,使我們能夠更好地滿足從埃米級器件到復雜的多裸晶芯片系統(tǒng)等高性能計算設計領域中的各種挑戰(zhàn)性需求,始終站在創(chuàng)新的最前沿。臺積公司與新思科技將繼續(xù)攜手,助力開發(fā)者基于臺積公司的先進工藝節(jié)點實現(xiàn)下一代差異化設計,并加快成果轉(zhuǎn)化速度?!?/p>
針對先進工藝節(jié)點的經(jīng)認證數(shù)字和模擬設計流程
新思科技針對臺積公司N3P和N2工藝的可投產(chǎn)數(shù)字和模擬設計流程,已成功應用于AI、HPC和移動設備設計等多個領域。該AI驅(qū)動的模擬設計遷移流程可實現(xiàn)工藝節(jié)點間的快速遷移,在此之前,新思科技已經(jīng)有針對臺積公司N4P至N3E和N3E至N2工藝節(jié)點遷移的設計流程,現(xiàn)在又增加了從臺積公司N5至N3E工藝節(jié)點的遷移流程。
此外,可互操作工藝設計套件(iPDK)和新思科技IC Validator?物理驗證運行集已可供開發(fā)者使用,幫助芯片開發(fā)團隊高效地將設計遷移至臺積公司的先進工藝技術。新思科技IC Validator支持全芯片物理簽核,以應對日益復雜的物理驗證規(guī)則。新思科技IC Validator現(xiàn)已通過臺積公司N2和N3P工藝技術認證。
新思科技與臺積公司攜手推出多裸晶電子與光子整合流程方案,通過硅光子技術與近/共封裝措施優(yōu)化數(shù)據(jù)傳輸效率,顯著提高系統(tǒng)性能及功能性。其中,該流程通過新思科技OptoCompiler?設計光子集成電路,再結(jié)合3DIC Compiler和Ansys多物理場分析技術進一步集成電子集成電路(EIC)。
新思科技正積極研發(fā)適用于臺積公司N2和N2P工藝的基礎和接口IP組合,旨在幫助各類AI、HPC和移動SoC應用更快地實現(xiàn)流片成功。這些IP組合涵蓋了高質(zhì)量的PHY IP,如UCIe、HBM4/3e、3DIO、PCIe 7.x/6.x、MIPI C/D-PHY和M-PHY、USB、DDR5 MR-DIMM和LPDDR6/5x等,可充分利用臺積公司先進工藝節(jié)點帶來的PPA優(yōu)勢。此外,新思科技還為臺積公司N3P工藝提供經(jīng)過硅驗證的基礎和接口IP組合,包括224G以太網(wǎng)、UCIe、MIPI C/D-PHY和M-PHY、USB/DisplayPort和eUSB2、LPDDR5x、DDR5和PCIe 6.x,以及正在開發(fā)中的DDR5 MR-DIMM。這些IP已在眾多行業(yè)領軍企業(yè)中得到廣泛應用,有效縮短了他們的開發(fā)周期。
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