過渡金屬硫化物(TMDs)的厚度可調(diào)能帶結(jié)構(gòu)使其在光電子領(lǐng)域備受關(guān)注。PtSe?作為新型層狀材料,具有從半導(dǎo)體到半金屬的相變特性,帶隙可調(diào)控。然而,其精確光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)長(zhǎng)期缺失,制約器件優(yōu)化。橢圓偏振儀憑借亞納米級(jí)精度、無損測(cè)量及同步獲取膜厚與光學(xué)參數(shù)的優(yōu)勢(shì),成為解決該問題的關(guān)鍵手段。Flexfilm費(fèi)曼儀器作為國內(nèi)領(lǐng)先測(cè)量供應(yīng)商所提供的Flexfilm全光譜橢偏儀,可精確量化PtSe?的折射率n、消光系數(shù)k及厚度d,結(jié)合多尺度表征解析厚度依賴規(guī)律與相變機(jī)制。
1
PtSe?薄膜的制備和光學(xué)表征
flexfilm
樣品制備

(a)化學(xué)氣相沉積的方法制備 PtSe? 的示意圖(b)制備得到的 PtSe?薄膜的光學(xué)顯微圖
在實(shí)驗(yàn)中用到的6 塊不同厚度的 PtSe?薄膜(標(biāo)號(hào)分別為樣品 A-F)所有樣品的尺寸均約為 1×1×0.03 cm3。這些樣品均為采用化學(xué)氣相沉積的方法沉積在藍(lán)寶石(Al?O?)基底上得到的。
光學(xué)表征
首先對(duì)樣品 A-F 進(jìn)行了光學(xué)表征,以驗(yàn)證樣品的質(zhì)量。利用原子力顯微鏡(AFM)觀察了樣品的表面形貌以及測(cè)量了 6 個(gè)樣品的厚度,與橢偏儀擬合得到的厚度進(jìn)行比較。
各樣品的生長(zhǎng)時(shí)間、使用 AFM 和橢偏儀測(cè)量的厚度以及相應(yīng)的 Se/Pt 化學(xué)計(jì)量比

2
橢偏儀測(cè)量PtSe?薄膜的光學(xué)常數(shù)
flexfilm
測(cè)量參數(shù)
光譜范圍:360–1700 nm
入射角:50°
波長(zhǎng)步長(zhǎng):5 nm

橢偏儀內(nèi)部光路示意圖
光路流程
超連續(xù)光源 → 槽光柵(分光) → 偏振片(線偏振光) → 1/4波片(橢圓偏振光) → 樣品反射 → 物鏡 → 檢偏器 → CCD探測(cè)器
測(cè)量原理
通過分析反射光中 s/p偏振分量 的振幅比(ψ)和相位差(Δ),結(jié)合菲涅爾反射理論,反演樣品的光學(xué)常數(shù)(n, κ)和厚度。

采用 Lorentz + Tauc-Lorentz + Drude + eps 線型擬合得到的 (a)n和k;(b) ψ和Δ
模型建立:采用"藍(lán)寶石基底/PtSe?薄膜/空氣"三層模型,以Lorentz + Tauc-Lorentz + eps色散關(guān)系擬合,均方根誤差(RMSE)< 5,優(yōu)于Drude混合模型。
3
光學(xué)常數(shù)厚度依賴性
flexfilm

測(cè)量得到的不同厚度的PtSe?的(a)折射率n;(b)消光系數(shù)k;(c)介電函數(shù)實(shí)部ε?;(d)介電函數(shù)虛部ε?
通過橢偏擬合獲得PtSe?的光學(xué)常數(shù)(n, k,ε?,ε?)及厚度d,關(guān)鍵規(guī)律如下:
折射率 n:隨厚度增大而增大(長(zhǎng)波區(qū)更顯著);隨波長(zhǎng)增加呈"先增后減"趨勢(shì),且峰值位置隨厚度紅移。
消光系數(shù)k:樣品的厚度越大,消光系數(shù)k的值越大(紅外區(qū)顯著增強(qiáng));除最薄樣品(A)外,所有k譜存在雙吸收峰,峰間距隨厚度減小而縮?。徊ㄩL(zhǎng)依賴性:短波區(qū)平穩(wěn) → 600–1200 nm劇減 → 長(zhǎng)波區(qū)趨穩(wěn)。
介電函數(shù):ε?變化同n;ε?譜呈單峰結(jié)構(gòu),峰位隨厚度增加紅移。
本文使用橢偏儀在紫外到紅外光譜范圍內(nèi)(360-1700 nm)測(cè)量了不同厚度PtSe?的光學(xué)常數(shù), 化學(xué)氣相沉積制備的藍(lán)寶石基底上的 PtSe?薄膜的光學(xué)常數(shù)表現(xiàn)為強(qiáng)烈的厚度依賴特性,隨著薄膜厚度增加,其折射率n和消光系數(shù)k都增大,原因是隨樣品厚度增加其半金屬的成分也增加。PtSe?光學(xué)常數(shù)的厚度依賴特性為我們調(diào)控基于 PtSe?的光電器件提供了新的維度,有助于 PtSe?在光電器件領(lǐng)域的應(yīng)用。
Flexfilm全光譜橢偏儀
flexfilm

全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測(cè)單元和光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測(cè)量和分析光伏領(lǐng)域中單層或多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k)
- 先進(jìn)的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器測(cè)量技術(shù):無測(cè)量死角問題。
- 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測(cè)量:先進(jìn)的光能量增強(qiáng)技術(shù),高信噪比的探測(cè)技術(shù)。
- 秒級(jí)的全光譜測(cè)量速度:全光譜測(cè)量典型5-10秒。
- 原子層量級(jí)的檢測(cè)靈敏度:測(cè)量精度可達(dá)0.05nm。
Flexfilm全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測(cè)單元和光譜橢偏儀分析軟件可以精確量化PtSe?的折射率n、消光系數(shù)k及厚度d。Flexfilm費(fèi)曼儀器以創(chuàng)新技術(shù)解決二維材料的光學(xué)常數(shù)標(biāo)定難題,助力全球薄膜材料領(lǐng)域的高質(zhì)量發(fā)展。
原文參考:《基于橢偏儀測(cè)量的PtSe2光學(xué)性質(zhì)研究》
*特別聲明:本公眾號(hào)所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學(xué)術(shù)分享和傳遞行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號(hào)相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,如涉及版權(quán)問題,敬請(qǐng)聯(lián)系,我們將在第一時(shí)間核實(shí)并處理。
-
材料
+關(guān)注
關(guān)注
3文章
1594瀏覽量
28698 -
光譜
+關(guān)注
關(guān)注
4文章
1060瀏覽量
37421
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
全光譜橢偏儀測(cè)量:金屬/半導(dǎo)體TMDs薄膜光學(xué)常數(shù)與高折射率特性
橢偏儀原理和應(yīng)用 | 精準(zhǔn)測(cè)量不同基底光學(xué)薄膜TiO?/SiO?的光學(xué)常數(shù)
聚焦位置對(duì)光譜橢偏儀膜厚測(cè)量精度的影響
橢偏儀薄膜測(cè)量原理和方法:光學(xué)模型建立和仿真
橢偏儀的原理和應(yīng)用 | 薄膜材料或塊體材料光學(xué)參數(shù)和厚度的測(cè)量
橢偏儀在半導(dǎo)體薄膜厚度測(cè)量中的應(yīng)用:基于光譜干涉橢偏法研究
橢偏術(shù)精準(zhǔn)測(cè)量超薄膜n,k值及厚度:利用光學(xué)各向異性襯底
橢偏儀微區(qū)成像光譜測(cè)量:精準(zhǔn)表征二維ReS?/ReSe?面內(nèi)雙折射率Δn≈0.22
橢偏儀在半導(dǎo)體的應(yīng)用|不同厚度c-AlN外延薄膜的結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)
光譜橢偏儀在二維材料光學(xué)表征中的應(yīng)用綜述
全光譜橢偏儀在二維材料中的應(yīng)用 | 解析PtSe?光學(xué)常數(shù)厚度依賴關(guān)系
評(píng)論