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華大九天FIP全棧解決方案助力突破先進(jìn)工藝瓶頸

華大九天 ? 來(lái)源:華大九天 ? 2026-05-13 10:06 ? 次閱讀
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Foundation IP(基礎(chǔ)IP,簡(jiǎn)稱FIP)是SoC設(shè)計(jì)的核心基石,涵蓋標(biāo)準(zhǔn)單元、存儲(chǔ)器( SRAM 編譯器, GRAM、TCAM、eFuse 等)、IO 庫(kù)等類型,直接決定芯片的性能上限、能效水平與量產(chǎn)良率。華大九天將FIP確立為Foundry業(yè)務(wù)的關(guān)鍵支柱,依托深厚的EDA技術(shù)積淀與完整的產(chǎn)品布局,打造了覆蓋0.18μm至7nm全工藝節(jié)點(diǎn)的FIP全棧解決方案。通過(guò)“成熟IP產(chǎn)品+自研全流程EDA工具”的閉環(huán)協(xié)同,解決AI、汽車、移動(dòng)通信IoT等場(chǎng)景下的高可靠設(shè)計(jì)難題,顯著縮短研發(fā)周期并降低流片風(fēng)險(xiǎn)。

一、FIP設(shè)計(jì)的兩大核心挑戰(zhàn)

在FinFET先進(jìn)制程下,F(xiàn)IP開(kāi)發(fā)面臨著IP質(zhì)量可靠性與EDA支撐效率的雙重挑戰(zhàn):

1IP設(shè)計(jì)與質(zhì)量挑戰(zhàn):

工藝要求趨嚴(yán)、可靠性承受壓力

先進(jìn)工藝對(duì)PPA的影響:

先進(jìn)工藝帶來(lái)LDE版圖效應(yīng)、MPG多重圖形化技術(shù)及復(fù)雜的DRC規(guī)則,寄生RC參數(shù)的影響急劇放大,標(biāo)準(zhǔn)單元在PPA(性能、功耗、面積)的均衡方面面臨嚴(yán)苛考驗(yàn)。

存儲(chǔ)器穩(wěn)定性與良率:

高密度SRAM受限于低電壓環(huán)境下靜態(tài)噪聲裕量(SNM)退化。在High-Sigma工藝波動(dòng)的影響下,如何保障讀寫裕量并提升量產(chǎn)良率,已成為行業(yè)內(nèi)公認(rèn)的技術(shù)難題。

IO與ESD可靠性:

先進(jìn)工藝的IO接口需在滿足高速傳輸需求的同時(shí),兼容多電壓等級(jí)(例如實(shí)現(xiàn)1.8V/3.3V接口電平到0.75V核心電平的轉(zhuǎn)換),這對(duì)ESD可靠性設(shè)計(jì)與熱插拔功能設(shè)計(jì)提出了極高的技術(shù)約束。

工藝波動(dòng)與魯棒性:

工藝尺寸縮小使局部偏差指數(shù)級(jí)放大,傳統(tǒng)Corner仿真無(wú)法覆蓋真實(shí)應(yīng)用場(chǎng)景,IP必須具備更高魯棒性才能支撐大規(guī)模量產(chǎn)。

2EDA工具與效率挑戰(zhàn):

仿真/建模/驗(yàn)證的全面瓶頸

仿真精度與速度失衡:

大規(guī)模SRAM電路包含數(shù)百萬(wàn)量級(jí)晶體管,傳統(tǒng)仿真器在Signoff級(jí)精度的瞬態(tài)仿真中往往陷入效率瓶頸。

版圖設(shè)計(jì)依賴人工,效率低下:

標(biāo)準(zhǔn)單元與IO版圖需適配復(fù)雜工藝規(guī)則,人工設(shè)計(jì)存在周期長(zhǎng)、一致性差的問(wèn)題,難以滿足快速迭代的需求。

特征化建模與庫(kù)QA壓力劇增:

低壓場(chǎng)景及OCV(工藝偏差)要求高精度的LVF時(shí)序模型。PVT Corner的爆炸式增長(zhǎng)使得庫(kù)生成與QA驗(yàn)證的計(jì)算成本大幅攀升。

可靠性驗(yàn)證缺失:

ESD、IR Drop、EM電遷移等關(guān)鍵可靠性檢查需要專用高效工具,潛在失效點(diǎn)難以提前識(shí)別,流片風(fēng)險(xiǎn)居高不下。

二、華大九天FIP全棧解決方案:

IP產(chǎn)品與EDA工具同源優(yōu)化

華大九天通過(guò)“基礎(chǔ)IP產(chǎn)品+EDA工具鏈+設(shè)計(jì)方法論”的一體化模式,實(shí)現(xiàn)了建模、設(shè)計(jì)、版圖、仿真、驗(yàn)證的全流程閉環(huán),有效解決了IP質(zhì)量可靠性與EDA工具效率兩大核心問(wèn)題。

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三、核心FIP矩陣:

全品類、高可靠、量產(chǎn)級(jí)

全品類IP覆蓋

標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù):適配先進(jìn)工藝復(fù)雜規(guī)則,實(shí)現(xiàn)PPA最優(yōu),具備高一致性與高魯棒性

存儲(chǔ)類IP:涵蓋SRAM編譯器、eFuse、GRAM、TCAM,兼具高密度、低電壓與高良率特性

IO庫(kù):支持多電壓兼容,驅(qū)動(dòng)能力、上下拉功能及轉(zhuǎn)換速率可配置,采用主動(dòng)式ESD結(jié)構(gòu)

核心IP能力亮點(diǎn)

SRAM IP:低電壓下穩(wěn)定性優(yōu)異,支持多電源域與低功耗模式,涵蓋先進(jìn)工藝制程

IO庫(kù):ESD可靠性顯著提升,可適配多種應(yīng)用場(chǎng)景

標(biāo)準(zhǔn)單元:針對(duì)FinFET自熱效應(yīng)與多重圖形分解約束,結(jié)合DTCO流程反復(fù)迭代優(yōu)化,對(duì)多重Patterning 友好,Pin access 均勻,考慮標(biāo)準(zhǔn)單元的LDE進(jìn)行版圖優(yōu)化,保障Chip level的時(shí)序一致性

量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)與市場(chǎng)地位

SRAMTQV測(cè)試芯片:國(guó)內(nèi)80%的Foundry 使用九天TQV 產(chǎn)品,在行業(yè)內(nèi)處于領(lǐng)先地位

已完成從TQV技術(shù)驗(yàn)證到IP大規(guī)模量產(chǎn)出貨的全鏈路流程

在多家頭部晶圓代工廠上架并經(jīng)由芯片設(shè)計(jì)公司量產(chǎn),多個(gè)成熟工藝節(jié)點(diǎn)和先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)均實(shí)現(xiàn)了批量落地

產(chǎn)品在極端頻率、低壓、高可靠場(chǎng)景下通過(guò)了嚴(yán)苛的客戶驗(yàn)證

四、自研EDA工具鏈:

全流程、高性能、強(qiáng)協(xié)同

針對(duì)FIP開(kāi)發(fā)痛點(diǎn),華大九天打造了專用EDA工具矩陣。相較于傳統(tǒng)通用工具,在運(yùn)行速度、設(shè)計(jì)精度、先進(jìn)工藝適配性及可靠性檢查等方面具備顯著優(yōu)勢(shì),可直接推動(dòng)研發(fā)效率與質(zhì)量實(shí)現(xiàn)躍升。

ALPS:高性能SPICE仿真引擎(快 + 準(zhǔn))

具備先進(jìn)工藝下Signoff級(jí)仿真精度,可支撐含電源網(wǎng)絡(luò)、數(shù)億級(jí)元器件規(guī)模的全芯片存儲(chǔ)電路后仿。同時(shí)集成了良率、EMIR、故障、過(guò)壓、老化等多維度可靠性仿真引擎,High-Sigma分析保障FIP在極端工藝偏差下仍能滿足功能和性能要求。整體仿真精度與運(yùn)行穩(wěn)定性媲美主流商用工具。

Andes Cell + Aether:FIP版圖自動(dòng)化平臺(tái)(全自動(dòng) + 優(yōu)PPA)

基于Generator+Optimization的閉環(huán)模式,自動(dòng)適配SDB/DDB、MPG等復(fù)雜規(guī)則,用戶實(shí)測(cè)全套單元庫(kù)版圖繪制周期從4周降低至1周內(nèi)完成,并且獲得5%~10%的優(yōu)化收益。

Liberal + Qualib:特征化建模與庫(kù) QA(精 + 穩(wěn))

單元庫(kù)特征化提取工具Liberal覆蓋Std/IO/IP/Mem全鏈路K庫(kù)方案,Liberal Mem/IP獨(dú)有的高精度LVF K庫(kù)技術(shù),可自適應(yīng)調(diào)整時(shí)序余量,提升芯片頻率并降低功耗??蛻舳藢?shí)測(cè),在精度無(wú)損的前提下效率可實(shí)現(xiàn)10X提升。單元庫(kù)/IP質(zhì)量驗(yàn)證工具Qualib提供了全維度檢查,保障各類庫(kù)交付件的質(zhì)量與可靠性。

Argus + Patron:物理驗(yàn)證與可靠性檢查(專 + 強(qiáng))

物理驗(yàn)證工具Argus PERC支持ESD專項(xiàng)檢查。電源完整性分析工具Patron在保證精度的前提下,EMIR分析性能提升10X,單項(xiàng)最高節(jié)省150小時(shí),有效提升迭代效率,保障客戶TO進(jìn)度。

五、IP+EDA一體化協(xié)同賦能客戶價(jià)值

華大九天FIP全棧解決方案的技術(shù)優(yōu)勢(shì)與可靠性,已在多個(gè)先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的流片驗(yàn)證及量產(chǎn)出貨中得到充分實(shí)踐檢驗(yàn)。它并非IP和EDA的簡(jiǎn)單疊加,而是基于對(duì)工藝底層邏輯的深度融合,為客戶創(chuàng)造差異化價(jià)值:

全流程無(wú)縫銜接:消除跨廠商工具間的接口兼容問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)不落地,從IP選型、電路仿真、自動(dòng)版圖、建模簽核到可靠性驗(yàn)證,一站式完成。

IP與EDA同源優(yōu)化:IP設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)與EDA研發(fā)團(tuán)隊(duì)深度交互反饋,讓工具更精準(zhǔn)把握工藝細(xì)節(jié)。這種“內(nèi)生式”迭代優(yōu)化使IP在良率與性能的平衡上更具競(jìng)爭(zhēng)力。

交付周期顯著縮短:借助版圖自動(dòng)化與一鍵式建模技術(shù),先進(jìn)工藝FIP的開(kāi)發(fā)周期可縮短30%~50%,助力客戶搶占市場(chǎng)先機(jī)。

降低綜合設(shè)計(jì)成本:減少多廠商工具鏈整合的開(kāi)銷,結(jié)合高可靠性的ESD/EMIR驗(yàn)證,大幅降低流片返工成本。

六、結(jié)語(yǔ)

華大九天依托FIP全棧解決方案,實(shí)現(xiàn)EDA工具鏈與高性能IP的深度協(xié)同、無(wú)縫銜接。憑借完備的全品類IP儲(chǔ)備、成熟量產(chǎn)落地經(jīng)驗(yàn)、領(lǐng)先的高性能仿真技術(shù),持續(xù)賦能全球芯片設(shè)計(jì)企業(yè)突破工藝瓶頸,在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)賽道上實(shí)現(xiàn)更低風(fēng)險(xiǎn)、更高良率的規(guī)?;慨a(chǎn)。

北京華大九天科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱“華大九天”)成立于2009年,一直聚焦于EDA工具的開(kāi)發(fā)、銷售及相關(guān)服務(wù)業(yè)務(wù),致力于成為全流程、全領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的EDA提供商。

華大九天主要產(chǎn)品包括全定制設(shè)計(jì)平臺(tái)EDA工具系統(tǒng)、數(shù)字電路設(shè)計(jì)EDA工具、晶圓制造EDA工具、先進(jìn)封裝設(shè)計(jì)EDA工具和3DIC設(shè)計(jì)EDA工具等軟件及相關(guān)技術(shù)服務(wù)。其中,全定制設(shè)計(jì)平臺(tái)EDA工具系統(tǒng)包括模擬電路設(shè)計(jì)全流程EDA工具系統(tǒng)、存儲(chǔ)電路設(shè)計(jì)全流程EDA工具系統(tǒng)、射頻電路設(shè)計(jì)全流程EDA工具系統(tǒng)和平板顯示電路設(shè)計(jì)全流程EDA工具系統(tǒng);技術(shù)服務(wù)主要包括基礎(chǔ)IP、晶圓制造工程服務(wù)及其他相關(guān)服務(wù)。產(chǎn)品和服務(wù)主要應(yīng)用于集成電路設(shè)計(jì)、制造及封裝領(lǐng)域。

華大九天總部位于北京,在南京、成都、深圳、上海、香港、北京亦莊、西安、天津、武漢和重慶等地設(shè)有全資子公司,在廈門、蘇州等地設(shè)有分支機(jī)構(gòu)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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原文標(biāo)題:IP+EDA:華大九天FIP全棧解決方案加速先進(jìn)工藝量產(chǎn)落地

文章出處:【微信號(hào):華大九天,微信公眾號(hào):華大九天】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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    九天希望通過(guò)“芯聚九天”系列活動(dòng),打造一個(gè)行業(yè)精英與企業(yè)應(yīng)用通暢交流的專業(yè)平臺(tái),營(yíng)造以“開(kāi)放、合作、創(chuàng)新”為主體的產(chǎn)業(yè)生態(tài)圈,促進(jìn)技術(shù)交流、行業(yè)合作及成長(zhǎng)共享,讓每一位參與者都能在這里找到價(jià)值、啟發(fā)和機(jī)遇。
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