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三星宣布開發(fā)出業(yè)內(nèi)首款基于第三代10nm級工藝的DRAM內(nèi)存芯片

半導(dǎo)體動態(tài) ? 來源:工程師吳畏 ? 2019-03-21 16:43 ? 次閱讀
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3月21日,三星電子宣布開發(fā)出業(yè)內(nèi)首款基于第三代10nm級工藝的DRAM內(nèi)存芯片,將服務(wù)于高端應(yīng)用場景,這距離三星量產(chǎn)1y nm 8Gb DDR4內(nèi)存芯片僅過去16個月。

第三代10nm級工藝即1z nm(在內(nèi)存制造中,用x/y/z指代際,工藝區(qū)間是10~20nm),整合了EUV極紫外光刻技術(shù),單芯片容量8Gb(1GB)。

三星表示,1z nm是業(yè)內(nèi)目前最頂尖的工藝,生產(chǎn)效率較1y nm提升了20%,可以更好地滿足日益增長的市場需求。

量產(chǎn)時間敲定在今年下半年,成品的8GB DDR4模組也在驗證中,目標(biāo)領(lǐng)域是下一代企業(yè)級服務(wù)器和2020年的高端PC產(chǎn)品。

三星還表示,將在平澤市(Pyeongtaek)提高DRAM芯片的產(chǎn)能,同時上述先進技術(shù)還將應(yīng)用于未來的DDR5、LPDDR5、GDDR6產(chǎn)品上。

不過,就在昨天(3月20日),三星電子聯(lián)席CEO金基南(Kim Ki-nam)還指出,由于智能機市場增長乏力,數(shù)據(jù)中心公司削減投資,公司的存儲芯片等零部件業(yè)務(wù)預(yù)計將面臨艱難一年。

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