動(dòng)態(tài)
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發(fā)布了文章 2025-12-12 18:03
橢偏儀在薄膜光學(xué)表征中的應(yīng)用：實(shí)現(xiàn)25.5%EQE的穩(wěn)定電致發(fā)光二極管
膠體量子阱（CQWs）因其發(fā)光波長(zhǎng)可調(diào)、譜線窄、光致發(fā)光量子產(chǎn)率高及穩(wěn)定性優(yōu)異，被視為新一代發(fā)光材料。其準(zhǔn)二維結(jié)構(gòu)產(chǎn)生強(qiáng)烈的垂直量子限域效應(yīng)，同時(shí)保持面內(nèi)激子離域特性，從而形成取向化的躍遷偶極矩，顯著增強(qiáng)了光輸出耦合能力，理論上外量子效率可接近40%。然而，要實(shí)現(xiàn)具有主導(dǎo)水平偶極取向的CQW薄膜的大面積可控制備，目前仍是巨大挑戰(zhàn)。Flexfilm全光譜橢偏儀 -
發(fā)布了文章 2025-12-10 18:04
MEMS制造中的臺(tái)階測(cè)量：原理、技術(shù)及其在工藝監(jiān)控中的關(guān)鍵作用
隨著微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）器件向微型化、高深寬比發(fā)展，其內(nèi)部微細(xì)臺(tái)階結(jié)構(gòu)的精確測(cè)量成為保障器件性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。然而，現(xiàn)有測(cè)量手段面臨兩難選擇：非接觸式方法（如光學(xué)干涉、原子力顯微鏡）往往設(shè)備昂貴、操作復(fù)雜或?qū)悠酚刑囟ㄏ拗?；而傳統(tǒng)接觸式臺(tái)階儀雖簡(jiǎn)單可靠，但其探針測(cè)量力較大，易劃傷MEMS中常見的軟質(zhì)材料（如硅片），F(xiàn)lexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀 -
發(fā)布了文章 2025-12-08 18:01
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發(fā)布了文章 2025-12-05 18:04
臺(tái)階儀的原理及常見問題解答
表面特征是材料、化學(xué)等領(lǐng)域的重要研究?jī)?nèi)容。準(zhǔn)確評(píng)價(jià)表面形貌與特征，對(duì)材料性能分析、工藝改進(jìn)具有重要意義。臺(tái)階高度測(cè)量在表面研究中作用突出：一方面可用于分析微觀形貌，另一方面在半導(dǎo)體制造等工業(yè)中涉及大量臺(tái)階檢測(cè)需求。臺(tái)階高度是薄膜工藝中的關(guān)鍵參數(shù)，其精確、快速測(cè)定與控制是保障材料質(zhì)量、提升生產(chǎn)效率的重要手段。因此，表面線條寬度、間距、臺(tái)階高度、粗糙度的測(cè)量，以435瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2025-12-03 18:05
光譜橢偏術(shù)在等離子體光柵傳感中的應(yīng)用：參數(shù)優(yōu)化與亞皮米級(jí)測(cè)量精度
基于衍射的光學(xué)計(jì)量方法（如散射測(cè)量術(shù)）因精度高、速度快，已成為周期性納米結(jié)構(gòu)表征的關(guān)鍵技術(shù)。在微電子與生物傳感等前沿領(lǐng)域，對(duì)高性能等離子體納米結(jié)構(gòu)（如金屬光柵）的精確測(cè)量提出了迫切需求，然而現(xiàn)有傳統(tǒng)光學(xué)模型（如有效介質(zhì)近似）往往難以準(zhǔn)確描述其復(fù)雜的光學(xué)響應(yīng)，這限制了相關(guān)器件在尺寸計(jì)量與高靈敏度傳感中的應(yīng)用。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對(duì)薄膜的厚度與 -
發(fā)布了文章 2025-12-01 18:02
基于光學(xué)成像的沉積薄膜均勻性評(píng)價(jià)方法及其工藝控制應(yīng)用
靜電噴涂沉積（ESD）作為一種經(jīng)濟(jì)高效的薄膜制備技術(shù)，因其可精確調(diào)控薄膜形貌與化學(xué)計(jì)量比而受到廣泛關(guān)注。然而，薄膜的厚度均勻性是影響其最終性能與應(yīng)用可靠性的關(guān)鍵因素，其優(yōu)劣直接受到電壓、流速、針基距等多種工藝參數(shù)的復(fù)雜影響。傳統(tǒng)均勻性評(píng)估方法往往效率較低或具有破壞性，難以滿足快速工藝優(yōu)化的需求。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵 -
發(fā)布了文章 2025-11-28 18:03
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發(fā)布了文章 2025-11-26 18:03
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發(fā)布了文章 2025-11-24 18:02
新型橢圓偏振法SHEL在納米尺度面積表面測(cè)量的應(yīng)用
納米技術(shù)的發(fā)展催生了從超光滑表面到復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)表面的制備需求，這些表面的精確測(cè)量對(duì)質(zhì)量控制至關(guān)重要。然而，當(dāng)前納米尺度表面測(cè)量技術(shù)面臨顯著挑戰(zhàn)：原子力顯微鏡（AFM）測(cè)量速度慢、掃描面積有限；掃描電子顯微鏡（SEM）可能損傷樣品；白光干涉儀（WLI）則受限于橫向分辨率和參考面需求。傳統(tǒng)橢偏儀雖能通過分析偏振態(tài)變化間接表征表面，但其依賴旋轉(zhuǎn)光學(xué)元件的設(shè)計(jì)易引入 -
發(fā)布了文章 2025-11-21 18:07
寬波段大角度光譜橢偏技術(shù)：面向多層膜表征的光柵-傅里葉系統(tǒng)
隨著半導(dǎo)體和光電子技術(shù)的快速發(fā)展，紫外至紅外波段的薄膜材料應(yīng)用日益廣泛，而薄膜厚度、折射率等參數(shù)的高精度測(cè)量對(duì)器件性能至關(guān)重要。然而，現(xiàn)有光譜橢偏技術(shù)難以同時(shí)實(shí)現(xiàn)紫外至中紅外的寬波段覆蓋與大角度測(cè)量，限制了其在多種材料表征中的應(yīng)用。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對(duì)薄膜的厚度與折射率的高精度表征，廣泛應(yīng)用于薄膜材料、半導(dǎo)體和表面科學(xué)等領(lǐng)域。本研究提出了
