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基于光學(xué)成像的沉積薄膜均勻性評價方法及其工藝控制應(yīng)用

Flexfilm ? 2025-12-01 18:02 ? 次閱讀
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靜電噴涂沉積(ESD)作為一種經(jīng)濟(jì)高效的薄膜制備技術(shù),因其可精確調(diào)控薄膜形貌與化學(xué)計量比而受到廣泛關(guān)注。然而,薄膜的厚度均勻性是影響其最終性能與應(yīng)用可靠性的關(guān)鍵因素,其優(yōu)劣直接受到電壓、流速、針基距等多種工藝參數(shù)的復(fù)雜影響。傳統(tǒng)均勻性評估方法往往效率較低或具有破壞性,難以滿足快速工藝優(yōu)化的需求。Flexfilm探針式臺階儀可以實現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征關(guān)鍵參數(shù)的定量測量,精確測定樣品的表面臺階高度與膜厚,為材料質(zhì)量把控和生產(chǎn)效率提升提供數(shù)據(jù)支撐。

本研究提出并建立了一種基于光學(xué)圖像分析的快速、非破壞性均勻性定量評估方法。該方法將半透明薄膜置于均勻光源上,通過數(shù)碼相機(jī)獲取透射光圖像,并依據(jù)朗伯-比爾定律將灰度信息轉(zhuǎn)換為厚度分布。通過自主開發(fā)的圖像處理算法,從宏觀(基于厚度方差的區(qū)塊分析)微觀(基于厚度梯度的分布統(tǒng)計)兩個尺度對均勻性進(jìn)行量化評價,從而實現(xiàn)對薄膜質(zhì)量的高通量、全場表征,為工藝參數(shù)的系統(tǒng)優(yōu)化提供了直接、有效的分析工具。

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實驗方法

flexfilm

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用于制備薄膜的靜電噴涂沉積裝置示意圖

薄膜制備

以CuCl?·2H?O、InCl?和硫脲為前驅(qū)體,配制水-醇基溶液,在SnO?:F導(dǎo)電玻璃基板上進(jìn)行ESD沉積。

系統(tǒng)研究了溶液濃度(0.21–0.49 M)、電壓(10–20 kV)、流速(25–200 μL/min)、針?基距(4–5 cm)及基板溫度(380–450°C)對薄膜形貌的影響。

均勻性評估流程

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宏觀均勻性測試流程圖

圖像采集:將半透明薄膜置于均勻光源上,通過數(shù)碼相機(jī)獲取透射光圖像。

厚度轉(zhuǎn)換:將圖像轉(zhuǎn)換為灰度矩陣,并依據(jù)朗伯?比爾定律,假設(shè)固定吸收系數(shù)(10?? cm?1),將灰度值換算為相對厚度分布。

兩段式分析:

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左:人工生成圖像(用于驗證MUT);右:MUT對人工圖像的分析結(jié)果

宏觀均勻性測試(MUT):將厚度矩陣劃分為不同尺寸的區(qū)塊,計算各區(qū)塊平均厚度的方差。隨著區(qū)塊尺寸減小,方差的變化趨勢反映了薄膜在大尺度上的厚度波動。設(shè)定方差閾值(μ(t) ≤ 10?12 @ 200像素區(qū)塊)可用于快速篩選均勻性合格的樣品。

微觀均勻性測試(μUT):對通過MUT的樣品,計算厚度矩陣在行、列方向上的梯度分布,并統(tǒng)計其半高寬(FWHM)。FWHM越小,表明薄膜局部厚度變化越平緩,微觀均勻性越好。

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樣品的噴涂沉積條件

2

實驗結(jié)果

flexfilm

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左:不同條件下樣品的數(shù)字圖像;中:宏觀均勻性測試(MUT)結(jié)果;右上:微觀均勻性測試(μUT)結(jié)果;右下:計算粗糙度與臺階儀測量粗糙度對比圖

通過對多組工藝條件下制備的薄膜進(jìn)行分析,結(jié)果表明:

較高的電壓(16–20 kV)與適中的流速(100–200 μL/min)有利于獲得宏觀均勻的薄膜。

微觀均勻性最佳的樣品(如2號樣品)表現(xiàn)出最窄的厚度梯度分布(FWHM ≈ 3.95 nm)。

該方法計算的厚度分布粗糙度臺階儀的測量結(jié)果趨勢一致,驗證了其可靠性。相較于輪廓儀的單點測量,圖像分析法能提供全視野的平均信息,對不均勻樣品更具表征優(yōu)勢。

靜電噴涂沉積(ESD)是一種可在低溫下制備可控薄膜的靈活技術(shù)。高電場的使用減少了材料損失,有利于優(yōu)化薄膜性能。通過調(diào)整實驗參數(shù)可改善沉積薄膜形貌。本文開發(fā)的測試方法簡單有效,可用于評估薄膜厚度均勻性。對于成分均勻的薄膜,該方法通過分析圖像亮度變化反映厚度均勻性;也可用于監(jiān)測成分變化引起的局部光學(xué)密度差異。該方法無損、高效,基于圖像處理與分析實現(xiàn)均勻性量化。盡管本研究針對ESD薄膜,但同樣適用于其他沉積技術(shù)制備的半透明薄膜。

Flexfilm探針式臺階儀

flexfilm

e0b0a85e-ce9c-11f0-8ce9-92fbcf53809c.png技術(shù)支持:180-1566-6117半導(dǎo)體、光伏、LED、MEMS器件、材料等領(lǐng)域,表面臺階高度、膜厚的準(zhǔn)確測量具有十分重要的價值,尤其是臺階高度是一個重要的參數(shù),對各種薄膜臺階參數(shù)的精確、快速測定和控制,是保證材料質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率的重要手段。

  • 配備500W像素高分辨率彩色攝像機(jī)
  • 亞埃級分辨率,臺階高度重復(fù)性1nm
  • 360°旋轉(zhuǎn)θ平臺結(jié)合Z軸升降平臺
  • 超微力恒力傳感器保證無接觸損傷精準(zhǔn)測量

費(fèi)曼儀器作為國內(nèi)領(lǐng)先的薄膜厚度測量技術(shù)解決方案提供商,Flexfilm探針式臺階儀可以對薄膜表面臺階高度、膜厚進(jìn)行準(zhǔn)確測量,保證材料質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率。

原文參考:《A method to quantify the degree of uniformity of thickness of thin films》

*特別聲明:本公眾號所發(fā)布的原創(chuàng)及轉(zhuǎn)載文章,僅用于學(xué)術(shù)分享和傳遞行業(yè)相關(guān)信息。未經(jīng)授權(quán),不得抄襲、篡改、引用、轉(zhuǎn)載等侵犯本公眾號相關(guān)權(quán)益的行為。內(nèi)容僅供參考,如涉及版權(quán)問題,敬請聯(lián)系,我們將在第一時間核實并處理。

關(guān)于我們

Flexfilm

蘇州費(fèi)曼測量儀器有限公司(Flexfilm)——薄膜材料智檢先鋒,致力于為全球工業(yè)智造提供精準(zhǔn)測量解決方案。薄膜結(jié)構(gòu)精密測量設(shè)備:臺階儀、全光譜橢偏儀、單點膜厚儀、自動膜厚儀、在線厚度測量系統(tǒng),為客戶提供接觸式、非接觸式、自動化測量系統(tǒng)三種薄膜厚度測試技術(shù)。

材料電學(xué)性能表征設(shè)備: 離線/在線四探針測試儀、半導(dǎo)體晶圓在線方阻測試儀、平板顯示在線方阻測試儀、TLM接觸電阻測試儀、霍爾測試儀、擴(kuò)展電阻SRP測試儀。Flexfilm 致力于成為客戶在材料研發(fā)、工藝控制和質(zhì)量保證環(huán)節(jié)最值得信賴的合作伙伴,以創(chuàng)新的測量技術(shù)驅(qū)動全球工業(yè)智造的進(jìn)步。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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