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• 臺階儀在薄膜晶體管的應(yīng)用 | 精準(zhǔn)表征有源層厚度均勻性2026-04-03 18:01

  

  在薄膜晶體管（TFT）的研發(fā)與性能優(yōu)化中，有源層（即半導(dǎo)體溝道層）的厚度是決定器件電學(xué)特性（如閾值電壓、開關(guān)比、遷移率）的核心參數(shù)之一。本文聚焦于互補型薄膜晶體管（CTFT）的工藝優(yōu)化，系統(tǒng)探究了P型SnO、Te及N型SnO?薄膜的厚度對最終器件性能的影響。為確保實驗結(jié)論的可靠性，精確控制并驗證薄膜的實際沉積厚度成為前提條件。本研究采用Flexfilm費曼儀

  儀器 晶體管 薄膜 136瀏覽量

• 光譜橢偏法對大面積室溫直流濺射AZO薄膜均勻性的表征研究2026-04-01 18:05

  

  鋁摻雜氧化鋅（Al:ZnO，AZO）兼具高透明度與高導(dǎo)電性，且組成元素儲量豐富、無毒，適用于多種大面積光電器件。光譜橢偏法通過引入振蕩子模型，可以同時提取薄膜的多個光學(xué)和電學(xué)參數(shù)，是評估大面積沉積質(zhì)量的有效手段。本研究用該方法對沉積在15cm×15cm玻璃襯底上的AZO薄膜進(jìn)行多點測量，獲取方塊電阻和可見光透過率的空間分布。對照測量（分光光度法和四探針法）顯

  光譜 測量 薄膜 116瀏覽量

• 臺階儀在Mo?C薄膜測量中的應(yīng)用 | 粗糙化比率>1的薄膜材料2026-03-30 18:02

  

  在薄膜科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域，表面粗糙度是評價薄膜質(zhì)量、理解生長機制的重要指標(biāo)。Flexfilm費曼儀器探針式臺階儀可以實現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測量，精確測定樣品的表面臺階高度與膜厚，為材料質(zhì)量把控和生產(chǎn)效率提升提供數(shù)據(jù)支撐。本文基于臺階儀對Mo?C薄膜表面粗糙度的測量結(jié)果，結(jié)合晶粒邊界修正，系統(tǒng)分析了其快速粗糙化現(xiàn)象，并對常規(guī)粗糙化理論難以解釋的

  測量 薄膜 薄膜材料 129瀏覽量

• 基于橢偏儀的大尺寸MPALD氧化鋁薄膜厚度均勻性與n、k值表征2026-03-27 18:02

  

  隨著半導(dǎo)體制造工藝不斷向更小線寬和更高精度演進(jìn)，原子層沉積技術(shù)因其原子級厚度可控性及優(yōu)異的均勻性、保形性，在集成電路制造領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。然而，傳統(tǒng)熱驅(qū)動原子層沉積工藝受限于配體交換反應(yīng)的溫度要求，難以滿足熱敏感基底的低溫沉積需求。為此，等離子體增強原子層沉積技術(shù)通過引入高活性自由基替代熱反應(yīng)，有效拓寬了材料范圍并降低了沉積溫度。在各類等離子體源中，微波等離

  儀器 半導(dǎo)體制造 薄膜 163瀏覽量

• AlN薄膜表征難點解析：橢偏儀從光學(xué)常數(shù)到附著性能的系統(tǒng)表征2026-03-23 18:03

  

  氮化鋁（AlN）作為Al-N二元體系中唯一的穩(wěn)定相，具有六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)，是一種寬帶隙半導(dǎo)體材料，禁帶寬度達(dá)6.2eV。其具備高電阻率、低熱膨脹系數(shù)、高硬度、良好的化學(xué)穩(wěn)定性以及優(yōu)異的熱導(dǎo)率（3.2W/cm·K），在可見光至紅外波段也表現(xiàn)出較高的光學(xué)透過率。這些特性使AlN薄膜在微電子器件、光電器件以及防護涂層等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。Flexfilm費曼儀器

  光學(xué) 測試儀 薄膜 186瀏覽量

• 臺階儀在集成電路制造中的應(yīng)用：高端光刻膠材料純化研究進(jìn)展2026-03-20 18:05

  

  隨著集成電路制程節(jié)點不斷向納米尺度邁進(jìn)，光刻技術(shù)已從紫外全譜（g線、i線）發(fā)展到深紫外（KrF、ArF）乃至極紫外（EUV）光源。光刻膠作為光刻工藝的核心材料，其純度直接影響光刻圖案的分辨率與芯片良率。尤其在EUV光刻時代，對光刻膠中金屬雜質(zhì)和顆粒物的控制要求已趨極致，因此光刻膠原料及成品的純化處理成為決定光刻技術(shù)水平的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。Flexfilm費曼儀器

  光刻膠 材料 集成電路 177瀏覽量

• 光譜橢偏儀在AR衍射光波導(dǎo)工藝表征中的應(yīng)用研究2026-03-18 18:02

  

  增強現(xiàn)實顯示技術(shù)通過將虛擬信息與真實場景無縫融合，為用戶提供全新的視覺體驗，在娛樂、教育、醫(yī)療、設(shè)計及導(dǎo)航等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。AR近眼顯示設(shè)備作為下一代顯示技術(shù)的代表，正逐步從軍用領(lǐng)域向消費電子領(lǐng)域拓展。其核心挑戰(zhàn)在于如何在輕薄化的設(shè)備中實現(xiàn)高畫質(zhì)、大視場角和高光效的圖像傳輸。Flexfilm費曼儀器全光譜橢偏儀可以非接觸對薄膜的厚度與折射率的高精度表

  Ar 光波 光譜 337瀏覽量

• 一文讀懂高精度衍射光學(xué)分束器的光刻制備、工藝優(yōu)化與表征分析2026-03-16 18:06

  

  衍射光學(xué)分束器的性能表現(xiàn)，既依賴于優(yōu)化的仿真設(shè)計方案，也深受材料選擇與加工工藝的影響。當(dāng)前相關(guān)研究多聚焦于通過理論仿真和設(shè)計優(yōu)化追求高性能，而針對加工誤差對器件性能影響的探索相對薄弱。光刻技術(shù)作為半導(dǎo)體加工領(lǐng)域的高精度核心技術(shù)，能夠通過精細(xì)調(diào)節(jié)工藝參數(shù)，精準(zhǔn)控制光致聚合物的折射率與高度，且適配衍射光學(xué)分束器的規(guī)?；圃煨枨?。該技術(shù)可在單步加工中完成器件結(jié)構(gòu)成

  光刻 光學(xué) 半導(dǎo)體 1486瀏覽量

• SU-8光刻膠的光學(xué)特性研究：190-1680nm波段的光譜橢偏分析2026-03-13 18:02

  

  SU-8是一種在微納加工領(lǐng)域應(yīng)用廣泛的環(huán)氧基負(fù)性光刻膠，因其能夠制備高深寬比微結(jié)構(gòu)而備受關(guān)注，在微機電系統(tǒng)、光波導(dǎo)和生物醫(yī)學(xué)器件等領(lǐng)域具有重要價值。準(zhǔn)確掌握其光學(xué)常數(shù)（折射率n和消光系數(shù)k）對于器件設(shè)計與工藝優(yōu)化至關(guān)重要。然而，現(xiàn)有研究多集中于有限波段（300-800nm），且缺乏系統(tǒng)的測量與建模，難以滿足寬光譜應(yīng)用的需求。Flexfilm費曼儀器全光譜橢偏

  光刻膠 光譜 材料 302瀏覽量

• 臺階儀常見問題解答：原理、精度與薄膜厚度測量方法2026-03-11 18:03

  

  在半導(dǎo)體制造、微納結(jié)構(gòu)加工以及薄膜材料研究中，表面形貌和臺階高度測量是基礎(chǔ)而重要的表征手段。隨著薄膜工藝向納米尺度發(fā)展，對測量設(shè)備的精度與穩(wěn)定性提出了更高要求。臺階儀作為一種成熟的表面輪廓測量設(shè)備，被廣泛應(yīng)用于薄膜厚度測量、臺階高度檢測以及表面粗糙度分析等領(lǐng)域。本文基于這些技術(shù)文獻(xiàn)，對臺階儀的常見問題進(jìn)行系統(tǒng)梳理，并結(jié)合實際應(yīng)用說明其在薄膜厚度測量中的作用。

  測量 測量設(shè)備 薄膜 258瀏覽量