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標(biāo)簽 > 光刻技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。
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作者： JAE UK LEE和IMEC RYOUNG-HAN KIM博士，DAVID ABERCROMBIE，REHAB KOTB ALI和MENTOR...
光學(xué)光刻是通過(guò)廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫(huà)在涂有光刻膠的硅片上，通過(guò)光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限...
目前，我國(guó)硅拋光片行業(yè)需求量約6億平方英寸，國(guó)內(nèi)產(chǎn)量5.19億平方英寸，部分產(chǎn)品還需要從國(guó)外進(jìn)口滿足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需求，近幾年我國(guó)集成電路行業(yè)平穩(wěn)發(fā)展，給硅拋...
直接成像（DI）是指計(jì)算機(jī)將電路設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換為機(jī)器可識(shí)別的圖形數(shù)據(jù)，并由計(jì)算機(jī)控制光束調(diào)制器實(shí)現(xiàn)圖形的實(shí)時(shí)顯示，再通過(guò)光學(xué)成像系統(tǒng)將圖形光束聚焦成像至已...
2023-11-30 標(biāo)簽：pcb成像技術(shù)機(jī)器視覺(jué) 1.4萬(wàn) 0
**什么是光刻機(jī)** 光刻-Photolithography，也叫做光刻技術(shù)或者是UV光刻技術(shù)，利用光纖（準(zhǔn)確的來(lái)說(shuō)波長(zhǎng)極短的不可見(jiàn)光）將幾何圖案從光...
面對(duì)EUV光刻技術(shù)，芯片制造商如何權(quán)衡復(fù)雜分類(lèi)
除了阻抗，還有其他問(wèn)題，即EUV光掩模基礎(chǔ)設(shè)施。光掩模是給定IC設(shè)計(jì)的主模板。面膜開(kāi)發(fā)之后，它被運(yùn)到制造廠。將掩模放置在光刻工具中。該工具通過(guò)掩模投射光...
? ? ? 本文介紹了什么是光罩（Mask）。 光罩（Mask），也稱為掩膜版，是集成電路（IC）制造過(guò)程中核心且關(guān)鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具...
光刻工藝流程示意圖：半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)
光刻材料一般特指光刻膠，又稱為光刻抗蝕劑，是光刻技術(shù)中的最關(guān)鍵的功能材料。這類(lèi)材料具有光（包括可見(jiàn)光、紫外光、電子束等）反應(yīng)特性，經(jīng)過(guò)光化學(xué)反應(yīng)后，其溶...
2024-03-31 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)半導(dǎo)體制造 8.2k 0
一般來(lái)說(shuō)SiO2是作為大部分器件結(jié)構(gòu)中的絕緣體 或 在器件制作過(guò)程中作為擴(kuò)散或離子注入的阻擋層。
濕法去膠液的種類(lèi)有哪些？去膠液都有哪些種類(lèi)？去膠原理是什么？
光刻技術(shù)通過(guò)光刻膠將圖案成功轉(zhuǎn)移到硅片上，但是在相關(guān)制程結(jié)束后就需要完全除去光刻膠，那么這個(gè)時(shí)候去膠液就發(fā)揮了作用，那么去膠液都有哪些種類(lèi)？去膠原理是什么？
一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望
光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng)，光刻膠的需求...
晶圓級(jí)封裝是指晶圓切割前的工藝。晶圓級(jí)封裝分為扇入型晶圓級(jí)芯片封裝（Fan-In WLCSP）和扇出型晶圓級(jí)芯片封裝（Fan-Out WLCSP），其特...
光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來(lái)講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過(guò)程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22...
用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)...
Sematech在157納米光刻技術(shù)的發(fā)展
德克薩斯州奧斯汀 - 國(guó)際Sematech公司的研究經(jīng)理表示，他們對(duì)將光刻技術(shù)擴(kuò)展到生產(chǎn)的可能性更加樂(lè)觀一組專家回顧了下一代157納米曝光工具關(guān)鍵材料的...
2019-08-13 標(biāo)簽：光刻技術(shù)PCB打樣華強(qiáng)PCB 5k 0
基于SEM的電子束光刻技術(shù)開(kāi)發(fā)及研究
電子束光刻（e-beam lithography，EBL）是無(wú)掩膜光刻的一種，它利用波長(zhǎng)極短的聚焦電子直接作用于對(duì)電子敏感的光刻膠（抗蝕劑）表面繪制形成...
計(jì)算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計(jì)算機(jī)輔助技術(shù)來(lái)增強(qiáng)光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法，它是分辦率增強(qiáng)技術(shù)(...
2022-10-26 標(biāo)簽：計(jì)算機(jī)半導(dǎo)體器件光刻技術(shù) 4.6k 0
光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，光刻類(lèi)似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽...
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