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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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9.5.7 光刻膠∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
Photoresist撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕審稿人:復旦大學鄧海9.5光掩模和光刻膠材料第9章集成電路專用材料《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊?...
光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應用于顯示面板、集成電...
2025-07-11 標簽:光刻膠 760 0
引言 在半導體制造、微納加工等領域,光刻膠剝離是光刻工藝的關鍵環(huán)節(jié)之一,直接影響后續(xù)工藝的進行和最終產(chǎn)品的質(zhì)量。而對光刻圖形的精確測量,能夠有效監(jiān)控光刻...
引言 在芯片制造過程中,光刻膠剝離是關鍵環(huán)節(jié),而傳統(tǒng)剝離液易對芯片金屬層造成腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量對芯片制造工藝的優(yōu)化至關重要。本...
9.5.14 光刻膠配套試劑∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
Ancillaries撰稿人:北京科華微電子材料有限公司陳昕http://www.kempur.com審稿人:復旦大學鄧海https://www.fud...
2022-02-20 標簽:光刻膠 686 0
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