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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝...
2024-07-11 標(biāo)簽:光刻膠 3.3k 0
通常,光刻膠只是用作構(gòu)建圖形步驟中的臨時掩膜。因此,光刻工藝的最后一步通常是需要去除光刻膠,我們稱之為去膠或者除膠。并且對去膠過程的要求是:迅速去膠且沒...
2024-07-08 標(biāo)簽:光刻膠 3.3k 0
負(fù)性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮氣的光敏劑,產(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯...
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),...
2024-07-10 標(biāo)簽:光刻膠 3.2k 0
消色差超構(gòu)表面復(fù)合透鏡在近紅外波段的消色差效果
傳統(tǒng)光學(xué)器件因體積笨重等缺點無法滿足現(xiàn)代光學(xué)設(shè)備對光學(xué)系統(tǒng)集成化的要求,隨著超構(gòu)表面的迅速發(fā)展,新一代微型光學(xué)系統(tǒng)的出現(xiàn)成為可能。超構(gòu)表面是一種由人工設(shè)...
三星擬應(yīng)用金屬氧化物抗蝕劑(MOR)于DRAM EUV光刻工藝
據(jù)悉,MOR作為被廣泛看好的下一代光刻膠(PR)解決方案,有望替代現(xiàn)今先進(jìn)芯片光刻工藝中的化學(xué)放大膠(CAR)。然而,CAR在提升PR分辨率、增強(qiáng)抗蝕能...
鼎龍(仙桃)半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)園投產(chǎn)
據(jù)鼎龍控股集團(tuán)消息,鼎龍(仙桃)半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)園區(qū)占地218畝,建筑面積11.5萬平方米,項目總投資約10億元人民幣。經(jīng)過15個月的建設(shè),同時進(jìn)入千噸級...
2023-11-17 標(biāo)簽:OLED半導(dǎo)體材料光刻膠 3.2k 0
Accura BE作為國產(chǎn)首臺12英寸晶邊刻蝕設(shè)備,其技術(shù)性能已達(dá)到業(yè)界主流水平。” Accura BE通過軟件系統(tǒng)調(diào)度優(yōu)化和特有傳輸平臺的結(jié)合,可以提...
2023-07-19 標(biāo)簽:芯片制造軟件系統(tǒng)光刻膠 3.2k 0
中國試圖曲線救芯購買二手光刻機(jī) 實現(xiàn)12英寸國產(chǎn)芯片生產(chǎn)!
光刻機(jī)被美國制裁阻撓之后,中國企業(yè)發(fā)揮了曲線救芯的創(chuàng)新思維,從韓國代理商購買了二手ASML浸沒式光刻機(jī),有望打破美日歐壟斷,實現(xiàn)12英寸國產(chǎn)芯片生產(chǎn)! ...
光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三...
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李彎彎)近期,大基金減持大有加速之勢,9月以來多家半導(dǎo)體企業(yè)發(fā)布公告成,股東大基金擬減持公司股份,包括三安光電、雅克科技、萬業(yè)企業(yè)...
SK海力士將在1c DRAM生產(chǎn)中采用新型Inpria MOR光刻膠
據(jù) TheElec報道,SK Hynix 已決定在其第 6 帶(即 1c 工藝,約為 10nm)DRAM 生產(chǎn)過程中采用 Inpria 下一代金屬氧化物...
光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
2024-11-11 標(biāo)簽:光刻膠 3k 0
泛林集團(tuán)旗下GAMMA?系列干式光刻膠剝離系統(tǒng)推出最新一代產(chǎn)品
泛林集團(tuán)旗下GAMMA系列干式光刻膠剝離系統(tǒng)推出最新一代產(chǎn)品,將該系列GxT系統(tǒng)晶圓加工能力從300mm拓展至200mm。作為專供特種技術(shù)市場的產(chǎn)品,G...
評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速...
2024-07-10 標(biāo)簽:光刻膠 2.9k 0
為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率,光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。 首先,光掩模和晶圓...
光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻...
年產(chǎn)千噸電子級光刻膠原材料,微芯新材生產(chǎn)基地簽約湖州
湖州國資消息,寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項目總投資3.5億元人民幣,用地35畝,年產(chǎn)1000噸的電子級光刻膠原材料(光刻膠樹脂、高等...
從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國產(chǎn)替代之路
當(dāng)您尋找可靠的國產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時,一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目...
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