芯片是怎么被“光刻”出來的

首先光刻膠成分復(fù)雜，一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。

2022-07-25 標(biāo)簽：光刻機(jī)光刻膠 5.3k 0

中芯國(guó)際表示深圳工廠進(jìn)口光刻機(jī)不是EUV光刻機(jī)

據(jù)中國(guó)證券報(bào)報(bào)道，3月6日下午從中芯國(guó)際獲悉，日前中芯國(guó)際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī)，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴(kuò)充，并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。

2020-03-07 標(biāo)簽：中芯國(guó)際光刻機(jī)EUV 5.3k 0

不只是光刻機(jī)，還有這一半導(dǎo)體材料依賴進(jìn)口

在半導(dǎo)體生產(chǎn)制造領(lǐng)域，如今可以說是沒有光刻機(jī)寸步難行。即便如此，有了制造設(shè)備，沒有材料的支撐也是造不出芯的。今天，我們就來講講半導(dǎo)體材料中的高純石英。 ...

2022-06-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體半導(dǎo)體材料光刻機(jī) 5.3k 0

石墨烯芯片,中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)彎道超車的機(jī)會(huì)

2021-01-07 標(biāo)簽：芯片晶圓光刻機(jī) 5.3k 0

高端光刻機(jī)不再必需?中國(guó)科研團(tuán)隊(duì)傳來喜訊,新型光量子芯片問世

相信關(guān)注中國(guó)科技發(fā)展的朋友都知道，在國(guó)內(nèi)的芯片制造領(lǐng)域，中芯國(guó)際無疑是目前規(guī)模和技術(shù)雙雙領(lǐng)先的國(guó)產(chǎn)芯片企業(yè)。可令人無奈的是長(zhǎng)期以來受《瓦森納協(xié)定》的制約...

2021-03-01 標(biāo)簽：芯片中芯國(guó)際光刻機(jī) 5.3k 0

集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目存6大難點(diǎn)

文｜Lee 集微網(wǎng)消息，近期，晶瑞股份因購(gòu)買ASML光刻機(jī)設(shè)備受到了資本市場(chǎng)的熱捧，也收到了深交所下發(fā)的關(guān)注函。深交所重點(diǎn)關(guān)注了晶瑞股份本次購(gòu)買光刻機(jī)設(shè)...

2020-10-21 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī)光刻膠 5.2k 0

中國(guó)超導(dǎo)量子芯片研發(fā)進(jìn)入國(guó)產(chǎn)自主化的發(fā)展道路

在浙江大學(xué)召開的超導(dǎo)量子芯片學(xué)術(shù)成果研討會(huì)上，朱詩(shī)堯教授介紹了“莫干1號(hào)”、“天目1號(hào)”兩款國(guó)產(chǎn)超導(dǎo)量子芯片。

2022-04-25 標(biāo)簽：光刻機(jī)量子芯片 5.2k 0

荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破，預(yù)計(jì)會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化

? ? 11月30日最新報(bào)道，近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工...

2020-12-09 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 5.2k 0

芯片制造的國(guó)產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)

芯片制造的國(guó)產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)，比如在EDA工具的國(guó)產(chǎn)化、光刻機(jī)等，國(guó)產(chǎn)化都還有很長(zhǎng)的路要走。有統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國(guó)在清洗、熱處理、去膠設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率分...

2023-08-09 標(biāo)簽：eda芯片制造光刻機(jī) 5.2k 0

2018-11-01 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 5.1k 0

ASML警告美國(guó)：對(duì)中國(guó)斷供DUV光刻機(jī)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈將中斷，真是如此嗎？

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）近日，針對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注的美國(guó)施壓ASML斷供中國(guó)DUV光刻機(jī)一事，ASML首席執(zhí)行官（CEO）溫彼得正式回應(yīng)稱，...

2022-07-25 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLDUV 5.1k 0

中芯國(guó)際訂購(gòu)一套極紫外光刻設(shè)備,最昂貴和最先進(jìn)的芯片生產(chǎn)工具

目前，蘋果高端iPhone X和iPhone 8系列的核心處理器芯片，采用了臺(tái)積電的10納米工藝技術(shù)，而今年即將推出的新款iPhone將使用7納米工藝技...

2019-01-21 標(biāo)簽：芯片中芯國(guó)際光刻機(jī) 5.1k 0

中國(guó)的芯片行業(yè)想要獲得發(fā)展，必須突破光刻機(jī)的瓶頸

由于近些年科技的飛速發(fā)展，芯片行業(yè)也一同隨著潮流向前推進(jìn)。工藝從微米進(jìn)階到了更小更快的納米。

2020-04-12 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī) 5.1k 0

ASML一騎絕塵，EUV光刻機(jī)出貨過半！國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展提速！

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李彎彎）半導(dǎo)體設(shè)備廠商目前的銷售情況如何？今年以來，芯片產(chǎn)能不足之下全球各地加快建廠擴(kuò)產(chǎn)，這帶動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備廠商銷售持續(xù)高增長(zhǎng)。近日...

2021-10-22 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)EUV 5k 0

什么是EUV***？

需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別，從...

2023-05-22 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV7nm芯片 5k 0

為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電呢

EUV（極紫外光）光刻機(jī)，是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機(jī)耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺(tái)積電...

2021-02-14 標(biāo)簽：晶圓光刻機(jī)EUV 5k 0