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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

      +關(guān)注10人關(guān)注

      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：340個 瀏覽：31890次 帖子：4個

      光刻膠技術(shù)

      一文看懂：光刻膠的創(chuàng)新應(yīng)用與國產(chǎn)替代機會

      一文看懂：光刻膠的創(chuàng)新應(yīng)用與國產(chǎn)替代機會

      引言 ? 光刻膠又稱“光致抗蝕劑”或“光阻劑”，被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作，是微納制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的...

      2022-04-25 標簽：電子元器件半導(dǎo)體光刻膠 1.3萬 0

      通過臭氧微氣泡進行半導(dǎo)體晶圓的光刻膠去除實驗

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      關(guān)鍵詞:超臨界清洗，離子注入光刻膠，光刻膠剝離 摘要 本文提出了一種有效的、環(huán)保的干剝離方法，使用超臨界二氧化碳(SCCO2)系統(tǒng)，在40℃到100℃和...

      2022-01-27 標簽：半導(dǎo)體晶圓化學(xué) 3.4k 0

      微氣泡對光刻膠層的影響

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      關(guān)鍵詞：氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明，臭氧微氣泡可以去除...

      2022-01-10 標簽：半導(dǎo)體光刻晶片 2.1k 0

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      2021-12-13 標簽：納米材料納米襯底 1.9k 0

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      光刻膠是用來制作圖案的光敏聚合物，它是造成隨機性效應(yīng)的罪魁禍首之一。根據(jù)定義，隨機效應(yīng)描述了具有光量子隨機變化的事件。它們是不可預(yù)測的，沒有穩(wěn)定的模式。

      2018-03-27 標簽：euv光刻膠 1.2萬 0

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