中科院辟謠：5nm光刻技術(shù)被誤讀

2020-12-18 標(biāo)簽：光刻機(jī)5nm 8.8k 0

商務(wù)部：希望荷蘭在華為5G、EUV光刻機(jī)等問題上秉持公平立場

2020-12-18 標(biāo)簽：華為光刻機(jī)5G 2.8k 0

中芯國際:加速先進(jìn)工藝開發(fā)進(jìn)程,追趕全球龍頭臺(tái)積電

12月15日14時(shí)，正是上海一天中氣溫的最高值——6℃，而在距離中芯國際總部步行約2公里處的上海長榮桂冠酒店，一場氛圍稍顯涼意的臨時(shí)股東大會(huì)正在召開。

2020-12-16 標(biāo)簽：中芯國際晶圓光刻機(jī) 2.3k 0

ASML官宣:光刻機(jī)技術(shù)迎來新突破

2020-12-16 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻機(jī) 3.8k 0

獨(dú)家！中芯國際突發(fā)人事大調(diào)整

12月15日晚間消息，中芯國際于今日召開臨時(shí)董事會(huì)，會(huì)后發(fā)布公告，宣布委任蔣尚義為公司第二類執(zhí)行董事、董事會(huì)副董事長及戰(zhàn)略委員會(huì)成員，自2020年12月...

2020-12-16 標(biāo)簽：中芯國際光刻機(jī)7nm 5.3k 0

國內(nèi)EDA企業(yè)漸漸萌芽 人才、技術(shù)、市場等方面國產(chǎn)EDA軟件還需諸多考驗(yàn)

EDA等等一系列的設(shè)計(jì)軟件一直都是我們的痛點(diǎn)，學(xué)校里面學(xué)的就是國外的、國外的便宜甚至有破解版，還很好用，順暢、快捷；當(dāng)然還有一些是出于對(duì)國產(chǎn)EDA軟件的...

2020-12-14 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EDA工具eda 2.1k 0

慶祝！北方華創(chuàng)ICP刻蝕機(jī)交付已突破1000腔

北方華創(chuàng)（Naura）官方宣布，ICP等離子刻蝕機(jī)第1000腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行，NAURA刻蝕機(jī)研發(fā)團(tuán)隊(duì)見證了這一歷史性時(shí)刻。

2020-12-11 標(biāo)簽：光刻機(jī)7nm刻蝕機(jī) 3.3k 0

臺(tái)積電已經(jīng)向ASML下定了至少13臺(tái)EUV光刻機(jī)

需要明白的是，EUV光刻機(jī)不是有錢就能買，因?yàn)锳SML每年的產(chǎn)能非常有限，2019年全年才出貨了26臺(tái)，今年上半年出貨了13臺(tái)，截至三季度結(jié)束累計(jì)才出貨23臺(tái)。

2020-12-11 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)EUV 3k 0

荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破，預(yù)計(jì)會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化

? ? 11月30日最新報(bào)道，近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工...

2020-12-09 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 5.2k 0

快訊：傳臺(tái)積電向ASML下單，明年訂購至少13臺(tái)EUV光刻機(jī)

據(jù)digitimes報(bào)道，業(yè)內(nèi)消息稱，臺(tái)積電早已針對(duì)這兩年的機(jī)臺(tái)需求做了超前準(zhǔn)備，要求ASML提前交付已下單的 EUV 設(shè)備。 業(yè)者透露，臺(tái)積電已向...

2020-12-08 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)亞馬遜 4.8k 0

IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進(jìn)行了商業(yè)化

Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前，ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Su...

2020-12-04 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)EUV 1.9k 0

ASML新動(dòng)態(tài):ASML已完成1nm芯片EUV光刻機(jī)設(shè)計(jì)

根據(jù)其所公布的內(nèi)容來看，ASML 對(duì)于 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米，甚至是小于 1 納米的工藝都做了清楚的發(fā)展規(guī)劃，代表著 ASML 基...

2020-12-04 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)ASML 4.6k 0

三星希望能搶在臺(tái)積電之前，取得ASML下一代EUV設(shè)備供應(yīng)

業(yè)內(nèi)人士分析稱，三星積極追趕臺(tái)積電，不過臺(tái)積電在高良率與低功耗方面擁有優(yōu)勢。7nm 制程方面，臺(tái)積電先推出 FinFet 架構(gòu)的 7nm 技術(shù)，再推出使...

2020-12-04 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)ASML 2k 0

光刻是如何一步步變成芯片制造的卡脖子技術(shù)的？

摘要：芯片制造用到的技術(shù)很多，光刻是芯片制造的靈魂技術(shù)，但是開始的時(shí)候，光刻并不是所有技術(shù)中最厲害的?，F(xiàn)在大眾認(rèn)識(shí)到了芯片的重要性，討論芯片產(chǎn)業(yè)的卡脖子...

2020-12-04 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī) 7.1k 0

為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機(jī)設(shè)備?

自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒...

2020-12-03 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī)ASML 7.8k 0

全球最先進(jìn)的1nm EUV光刻機(jī)業(yè)已完成設(shè)計(jì)

想想幾年前的全球半導(dǎo)體芯片市場，真的可謂哀嚎一片，一時(shí)間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天，我們不僅看到5nm工藝如期而至，臺(tái)積電宣布2nm獲得...

2020-12-02 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)半導(dǎo)體芯片 1.1萬 0

中國完全有可能3年實(shí)現(xiàn)非美的7nm制造

最近看到《世界是平的》作者托馬斯洛倫弗里德曼一個(gè)視頻，在這個(gè)視頻中，他對(duì)中美芯片領(lǐng)域的競爭未來做了分析，指出美國的打壓只能會(huì)逼迫中國建立完整的芯片產(chǎn)業(yè)鏈...

2020-12-02 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī) 4.7k 0

中科院5nm激光光刻加工方法被誤讀

近日，《財(cái)經(jīng)》雜志發(fā)文澄清了一個(gè)關(guān)于中科院光刻技術(shù)突破ASML的誤讀傳言。 事情可以追溯至今年7月，中國科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展相關(guān)消息，中科院蘇...

2020-12-02 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASML 2.7k 0

臺(tái)積電能夠獲大量芯片代工訂單,離不開阿斯麥的光刻機(jī)

12月2日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，全球第一大芯片代工商臺(tái)積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領(lǐng)先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進(jìn)的光刻機(jī)，在第...

2020-12-02 標(biāo)簽：臺(tái)積電芯片代工光刻機(jī) 1.4k 0