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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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為對(duì)抗三星臺(tái)積電搶吃EUV商機(jī)_臺(tái)積大聯(lián)盟成軍了
為對(duì)抗三星,臺(tái)積電計(jì)劃導(dǎo)入極紫外光(EUV)微影設(shè)備,決定在7納米強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)、并在5納米全數(shù)導(dǎo)入。這項(xiàng)決定引發(fā)群聚效應(yīng),激勵(lì)相關(guān)設(shè)備供應(yīng)鏈和材料...
中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)面臨著來(lái)自美國(guó)的巨大阻力。隨著中美貿(mào)易爭(zhēng)端的加劇,越來(lái)越多的美國(guó)廠商無(wú)法獲得許可證將技術(shù)和產(chǎn)品出口到中國(guó)。另外,美國(guó)還開(kāi)始限制向中國(guó)出口...
本土晶圓代工企業(yè)崛起之際,設(shè)備進(jìn)口議題備受關(guān)注。光刻機(jī)龍頭ASML近日表示,從荷蘭向中國(guó)出口DUV光刻機(jī)無(wú)需許可證。
三星宣布全球首座專門(mén)為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠開(kāi)始量產(chǎn)
三星宣布,位于韓國(guó)京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開(kāi)始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝,這也是全球第一座專門(mén)為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
出貨100萬(wàn) 三星業(yè)界首款EUV DRAM推出
三星電子(Samsung Electronics)今天宣布,已經(jīng)出貨100萬(wàn)業(yè)界首款10nm EUV級(jí)(D1x)DDR4 DRAM模組。新的基于EUV的...
DRAM大廠工藝推進(jìn)1z納米 導(dǎo)入EUV設(shè)備擴(kuò)大競(jìng)爭(zhēng)門(mén)檻
2019年上半DRAM價(jià)格下跌壓力沉重,盡管上游產(chǎn)能調(diào)節(jié)以及傳統(tǒng)旺季拉貨需求逐漸回升,預(yù)料將有望支撐跌價(jià)趨緩,為了提高生產(chǎn)效益及拉大競(jìng)爭(zhēng)差距,DRAM大...
ASML三季度凈銷售額同比增長(zhǎng)32.6% 最新EUV光刻機(jī)擬明年發(fā)貨
10月14日,光刻機(jī)制造商ASML發(fā)布三季度的財(cái)報(bào)。公司第三季度凈銷售額為39.58億歐元,同比增長(zhǎng)32.6%;凈利潤(rùn)為10.62億歐元,同比增長(zhǎng)29....
韓國(guó)三星為了多元化營(yíng)收來(lái)源,這兩年晶圓代工業(yè)務(wù)為重點(diǎn)發(fā)展項(xiàng)目,2018年率先推出7納米EUV制程,搶在臺(tái)積電、格羅方德與英特爾之前推出。但三星如今似乎“...
臺(tái)積電已經(jīng)向ASML下定了至少13臺(tái)EUV光刻機(jī)
需要明白的是,EUV光刻機(jī)不是有錢(qián)就能買,因?yàn)锳SML每年的產(chǎn)能非常有限,2019年全年才出貨了26臺(tái),今年上半年出貨了13臺(tái),截至三季度結(jié)束累計(jì)才出貨23臺(tái)。
日本信越化學(xué)將斥資300億日元,把光刻膠的產(chǎn)能提高20%
根據(jù)報(bào)道,信越化學(xué)將會(huì)在日本和臺(tái)灣地區(qū)興建工廠,位于臺(tái)灣地區(qū)云林工廠將先完成,預(yù)計(jì)2020年2月開(kāi)始量產(chǎn),屆時(shí)信越化學(xué)將得以在臺(tái)灣地區(qū)生產(chǎn)可與極紫外光(...
EUV設(shè)備讓摩爾定律再延伸三代工藝 但需克服諸多挑戰(zhàn)
臺(tái)積電近日宣布,已經(jīng)開(kāi)始了7nm+ EUV工藝的大規(guī)模量產(chǎn),這是該公司乃至整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)首個(gè)商用EUV極紫外光刻技術(shù)的工藝。作為EUV設(shè)備唯一提供商,市...
“光刻技術(shù)的‘雕刻’精細(xì)度,直接決定了元器件、電路等在芯片上所占的體積。因而,光刻是決定芯片能否按照摩爾定律繼續(xù)發(fā)展的一項(xiàng)重要技術(shù),如果沒(méi)有光刻技術(shù)的進(jìn)...
長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)首次公開(kāi)亮相談DARM技術(shù)的未來(lái)
在談到DRAM技術(shù)未來(lái)的發(fā)展時(shí),平博士首先強(qiáng)調(diào),DRAM是有它的極限的。我們通過(guò)改進(jìn),可以將極限推遲。如導(dǎo)入EUV及HKMG三極管以縮小線寬及加強(qiáng)外圍電...
2019-09-19 標(biāo)簽:EUV長(zhǎng)鑫存儲(chǔ) 2.9k 0
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))隨著歐美韓等國(guó)家均已引進(jìn)EUV光刻機(jī),為其晶圓代工廠提供最先進(jìn)的工藝支持,日本雖然半導(dǎo)體制造水平這些年來(lái)提升不大,卻也計(jì)劃...
2023-10-10 標(biāo)簽:EUV 2.9k 0
三星EUV設(shè)備將會(huì)出現(xiàn)再度升級(jí)
近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備,高層頻頻傳出密訪ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字...
摩爾定律漸遠(yuǎn)下的提升,EUV被稱為“突破摩爾定律的救星”
前,行業(yè)DRAM三巨頭都沒(méi)有大規(guī)模使用EUV,但隨著制程工藝的提升,節(jié)點(diǎn)的進(jìn)一步微縮,同時(shí),EUV的性能和成本也在不斷優(yōu)化,DRAM將迎來(lái)EUV爆發(fā)期。
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過(guò)工藝上面依然是7nm級(jí)別的,官方稱之為更成熟的7nm工藝。 最早的...
EUV技術(shù)將為芯片制造設(shè)備市場(chǎng)帶來(lái)近4000億收入
芯片加工精度取決于光刻機(jī)光線的波長(zhǎng),光線波長(zhǎng)越小,芯片精度越高。隨著摩爾定律發(fā)展,芯片制造邁進(jìn)10nm節(jié)點(diǎn),波長(zhǎng)13.4nm的EUV(極紫外光)就成為唯...
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