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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題，國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。

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全部技術(shù) 資訊資料帖子視頻產(chǎn)品方案企業(yè)

euv資訊

三星今年9月份將完成7nmEUV工藝生產(chǎn)線明年1月份量產(chǎn)

隨著NVIDIA宣布7nm GPU由三星代工，三星在晶圓代工市場(chǎng)上總算又拉來(lái)一個(gè)客戶，如果算上之前的IBM Power 10以及傳聞中的高通驍龍865訂...

2019-07-04 標(biāo)簽：三星電子臺(tái)積電 EUV 2.9k 0

ASML在未來(lái)將如何持續(xù)推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展

AI、5G應(yīng)用推動(dòng)芯片微縮化，要實(shí)現(xiàn)5nm、3nm等先進(jìn)制程，意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造，半導(dǎo)體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案。AI、5G應(yīng)用...

2019-08-27 標(biāo)簽：半導(dǎo)體 EUV ASML 2.9k 0

曝Intel已從今年8月份開(kāi)始訂購(gòu)用于7nmEUV工藝節(jié)點(diǎn)的材料和設(shè)備數(shù)據(jù)中心GPU或首發(fā)

Intel 10nm處理器已經(jīng)量產(chǎn)發(fā)售，明年預(yù)計(jì)會(huì)在市場(chǎng)上井噴，推出桌面CPU等產(chǎn)品。

2019-09-21 標(biāo)簽：gpu intel EUV 2.9k 0

ASML公布2020年第一季度財(cái)報(bào) 凈預(yù)訂量強(qiáng)勁達(dá)到31億歐元

4月15日，全球光刻機(jī)龍頭廠商阿斯麥（ASML）公布2020年第一季度財(cái)報(bào)。

2020-04-16 標(biāo)簽：EUV ASML 2.9k 0

Litho路障威脅到40納米以下的芯片生產(chǎn)

加利福尼亞州圣何塞 - 制造商設(shè)備供應(yīng)商佳能公司的一位官員警告說(shuō)，下一代平版印刷術(shù)（NGL）面臨著新的障礙，可能會(huì)威脅到IC產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)向低于40納米的芯片制造業(yè)。

2019-09-01 標(biāo)簽：芯片 EUV 2.9k 0

三星6nm和7nm EUV開(kāi)始批量生產(chǎn)

根據(jù)三星的計(jì)劃，到2020年底，V1生產(chǎn)線的累計(jì)總投資將達(dá)到60億美元，預(yù)計(jì)7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的總產(chǎn)能將比2019年增長(zhǎng)三倍，目前的計(jì)劃是在第一季度開(kāi)...

2020-02-21 標(biāo)簽：三星電子 euv 2.8k 0

新一期《光學(xué)學(xué)報(bào)》發(fā)表特邀綜述，透露我國(guó)EUV光刻物鏡系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)進(jìn)展

論文介紹說(shuō)，2002年，中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械及物理研究所研制出國(guó)內(nèi)最早由Schwarzschild物鏡組成的euv光角原理實(shí)驗(yàn)裝置，實(shí)現(xiàn)了0.75...

2023-08-18 標(biāo)簽：光學(xué)系統(tǒng)EUV 精密機(jī)械 2.8k 0

三星在韓新開(kāi)EUV晶圓代工產(chǎn)線V1，總投入將達(dá)60億美元

據(jù)了解，V1產(chǎn)線于2018年2月動(dòng)工，2019年下半年開(kāi)始測(cè)試晶圓生產(chǎn)，首批產(chǎn)品今年一季度向客戶交付。目前，V1已經(jīng)投入7nm和6nm EUV移動(dòng)芯片的...

2020-02-21 標(biāo)簽：三星電子晶圓 euv 2.8k 0

DRAM廠將陸續(xù)導(dǎo)入EUV技術(shù)

DRAM廠商在面對(duì)DRAM價(jià)格不斷下跌的困境下，已經(jīng)在考慮導(dǎo)入EUV技術(shù)用于制造DRAM，主要目的是為了降低成本。

2019-06-21 標(biāo)簽：DRAM EUV 2.8k 0

三星5nm取得重要進(jìn)展可以帶來(lái)25％的邏輯電路能效提升

眼下，臺(tái)積電和三星都在全力沖刺5nm工藝，這將是7nm之后的又一個(gè)重要節(jié)點(diǎn)，全面應(yīng)用EUV極紫外光刻技術(shù)，提升效果會(huì)非常明顯，所以都受到了高度重視。

2019-07-10 標(biāo)簽：三星電子 EUV 2.8k 0

使用標(biāo)準(zhǔn)濕法清潔從EUV掩?？瞻字腥コ{米顆粒

準(zhǔn)備好無(wú)缺陷掩模供應(yīng)是將極端紫外線光刻(EUVL)應(yīng)用于32納米半間距(HP)及更大的大批量半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵挑戰(zhàn)之一。根據(jù)ITRS在2008年更新的數(shù)據(jù)...

2022-02-17 標(biāo)簽：納米微米 EUV 2.8k 0

臺(tái)積電2020年上半年7納米+制程進(jìn)入量產(chǎn)的消息獲得證實(shí)

雖然，全球晶圓代工頭臺(tái)積電在日前的 2018 年第 4 季法說(shuō)會(huì)中，拋出了 2019 年第 1 季營(yíng)收將季衰退 2 成的震撼彈，不過(guò)，針對(duì)先進(jìn)制程的演進(jìn)...

2019-01-22 標(biāo)簽：臺(tái)積電 EUV 2.8k 0

為什么芯片能與國(guó)家的科技實(shí)力掛鉤呢？

對(duì)于芯片制造有一定了解的朋友都知道，想要制造芯片是離不開(kāi)EUV光刻機(jī)的，但中國(guó)并沒(méi)有達(dá)到能獨(dú)立制造EUV光刻機(jī)的地步。所以很多時(shí)候，中國(guó)制造芯片都需要依...

2021-04-07 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī)EUV 2.8k 0

ASML將蟬聯(lián)龍頭寶座至明年國(guó)產(chǎn)設(shè)備企業(yè)將如何尋求突破

近日，業(yè)內(nèi)人士羅伯特·卡斯特拉諾預(yù)測(cè)，全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭應(yīng)用材料公司2019年有可能失去其蟬聯(lián)多年的龍頭寶座，讓位給光刻機(jī)大廠荷蘭阿斯麥（ASML）公司...

2019-12-11 標(biāo)簽：EUV ASML 2.8k 0

SK海力士M16工廠在韓國(guó)京畿道利川總部舉行竣工儀式

2月1日，SK海力士M16工廠在韓國(guó)京畿道利川總部舉行竣工儀式。據(jù)韓國(guó)媒體FETV報(bào)道，SK海力士M16工廠于2018年11月開(kāi)始建設(shè)，共投資了3.5...

2021-02-01 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV SK海力士 2.8k 0

日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

近日，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報(bào)告，宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外（EUV）光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體...

2024-08-03 標(biāo)簽：光刻技術(shù)EUV 2.7k 0

尖端邏輯半導(dǎo)體的現(xiàn)狀

在采用了EUV的半導(dǎo)體微縮化方面，臺(tái)積電（TSMC）全球領(lǐng)先。作為存儲(chǔ)半導(dǎo)體的“冠軍”——三星電子計(jì)劃在2030年之前在邏輯半導(dǎo)體的生產(chǎn)方面趕上臺(tái)積電。...

2020-11-02 標(biāo)簽：半導(dǎo)體三星電子 EUV 2.7k 0

ASML開(kāi)發(fā)的下一代EUV平臺(tái)

具有13.5nm波長(zhǎng)源的高數(shù)值孔徑系統(tǒng)將提高亞13nm半間距曝光所需的分辨率，以及更大的圖像對(duì)比度以實(shí)現(xiàn)更好的印刷線均勻性。High-NA EUV光刻的...

2022-06-02 標(biāo)簽：EUV ASML 2.7k 0

三星表示2020年7nmEUV生產(chǎn)線將如期量產(chǎn) 并計(jì)劃再建設(shè)另外的7nmEUV工廠

盡管日本方面上周末推出了第二波禁韓令，預(yù)計(jì)多達(dá)857種重要材料對(duì)韓國(guó)出口都會(huì)受到管制影響，此舉可能會(huì)影響韓國(guó)公司的半導(dǎo)體生產(chǎn)，不過(guò)三星似乎并沒(méi)有因此停止...

2019-08-05 標(biāo)簽：三星電子 EUV 2.7k 0

美國(guó)美光科技開(kāi)始提速EUV DRAM

美光是繼三星電子和SK海力士之后，以20%的全球市占率排第三的DRAM廠商。本月初時(shí)美光臺(tái)灣DRAM工廠還因停電一小時(shí)導(dǎo)致工廠停產(chǎn)。截止到3季度時(shí)較好業(yè)...

2020-12-30 標(biāo)簽：DRAM 美光科技 EUV 2.7k 0

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