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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來(lái)是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過(guò)去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問(wèn)題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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之前是英特爾一家獨(dú)大,如今它仍是很大,但是真正沖在前面的是蘋(píng)果、華為、高通、三星、Nvidia、AMD、Xilinx等。然而細(xì)想起來(lái),如果缺乏臺(tái)積電,及...
三星5nm EUV生產(chǎn)線或年底量產(chǎn),已收到高通代工訂單
在開(kāi)發(fā)5nm制程技術(shù)僅一年之后,三星就開(kāi)始了 5nm EUV(極紫外)生產(chǎn)線的建設(shè)。三星公司希望在2030年之前擊敗臺(tái)積電,并成為半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的領(lǐng)導(dǎo)者。
EUV光源重大突破!ASML:芯片產(chǎn)量將提升50%
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,阿斯麥(ASML)的研究人員表示,他們成功找到提升關(guān)鍵芯片制造設(shè)備中光源功率的方法,預(yù)計(jì)到2030年可使芯片產(chǎn)量提高多達(dá)50...
三大半導(dǎo)體廠資本支出直線攀升 ASML等設(shè)備廠則成為受益者
臺(tái)積電深耕晶圓代工先進(jìn)制程,10月表示強(qiáng)效版7納米制程導(dǎo)入EUV技術(shù),今年第2季開(kāi)始量產(chǎn),良率已相當(dāng)接近7納米制程;6納米制程預(yù)計(jì)明年第1季試產(chǎn),并于明...
三星計(jì)劃投資超過(guò)100億美元建設(shè)芯片制造工廠
據(jù)彭博社報(bào)道,三星計(jì)劃投資超過(guò)100億美元,在奧斯汀建造其最先進(jìn)的芯片制造工廠。三星希望這項(xiàng)投資將有助于它贏得更多的美國(guó)客戶,并趕上競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電。
韓國(guó)EUV光刻技術(shù)方面取得極大進(jìn)展 專利申請(qǐng)是國(guó)外的兩倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 據(jù)韓國(guó)媒體 BusinessKorea 上周報(bào)道,韓國(guó)本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒(méi)有提到是哪...
“中國(guó)制造”讓韓國(guó)產(chǎn)生了緊張感
來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 由于新冠肺炎在全球范圍內(nèi)蔓延,波及世界經(jīng)濟(jì)。國(guó)際貨幣基金組織(IMF)在近期公布的報(bào)告中指出,2020年全球經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)率預(yù)計(jì)為負(fù)4....
中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的機(jī)會(huì)
伴隨 5G、AIoT的發(fā)展和國(guó)際關(guān)系的日漸緊張之下,集成電路產(chǎn)業(yè)逐漸受到一致關(guān)注。 2020 年 10 月 14 日, 第三屆全球IC企業(yè)家大會(huì)暨第十八...
11月25日,市場(chǎng)研究公司總裁羅伯特·卡斯特拉諾(Robert Castellano)表示:“過(guò)去三年來(lái),應(yīng)用材料一直在晶圓制造前段工序(WFE)的設(shè)備...
美國(guó)要求荷蘭ASML進(jìn)一步限制DUV***出口到中國(guó)
奮斗不息! ? 美國(guó)芯片法案-2022 1 對(duì)華限制 關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的小伙伴們都知道,前不久美國(guó)商務(wù)部工業(yè)安全局(BIS)對(duì)中國(guó)實(shí)施了芯片出口管制措施,...
隨著先進(jìn)制程的研發(fā)難度加大,相關(guān)企業(yè)的研發(fā)經(jīng)費(fèi)也是節(jié)節(jié)攀升,半導(dǎo)體行業(yè)中的領(lǐng)頭羊臺(tái)積電去年就指出了超過(guò)170億美元的研發(fā)經(jīng)費(fèi),而在剛剛到來(lái)的2021年中...
電子芯聞早報(bào):三星焦頭爛額仍砸錢(qián)買(mǎi)EUV 樂(lè)Pro3跑分被小米5s超越
今日芯聞早報(bào):三星焦頭爛額仍砸錢(qián)買(mǎi)EUV追趕臺(tái)積電;和輝光電宣布建六代AMOLED廠;iPhone 7風(fēng)潮可望拉抬半導(dǎo)體封測(cè)業(yè)績(jī)表現(xiàn);Apple Wat...
7納米制程競(jìng)爭(zhēng)激烈 臺(tái)積電3月領(lǐng)先量產(chǎn)
延續(xù)7納米制程領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),臺(tái)積電支持極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7納米加強(qiáng)版(7+)制程將按既定時(shí)程于3月底正式量產(chǎn),而全程采用EUV技術(shù)的5納米制程也將...
臺(tái)積電宣布5nm工藝已經(jīng)量產(chǎn),也在提升EUV工藝的效率及性能
在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上,臺(tái)積電已經(jīng)一騎絕塵了,其他人望不到尾燈了,今年量產(chǎn)了5nm,明年就輪到3nm了。
三星:奧斯汀工廠正在為fabless客戶生產(chǎn)14/28/32nm的芯片
據(jù)報(bào)道,三星在其位于美國(guó)得克薩斯州奧斯汀市(Austin)的代工廠附近購(gòu)買(mǎi)了一塊面積達(dá)140個(gè)足球場(chǎng)的場(chǎng)地。該公司此舉被視為是為擴(kuò)大其在美國(guó)的代工廠做準(zhǔn)備。
由于美國(guó)的干涉,asml的極紫外線光刻機(jī)無(wú)法出口到中國(guó),甚至深度紫外線光刻機(jī)也受到了限制。很明顯,美國(guó)不會(huì)放松對(duì) EUV光刻機(jī)的出口限制。
三星宣布全面導(dǎo)入EUV 預(yù)計(jì)12英寸晶圓生產(chǎn)率將翻番
當(dāng)前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV(極紫外光刻)工藝被三星率先用到了DRAM內(nèi)存顆粒的生產(chǎn)中。
臺(tái)積電5nm工藝比官方宣傳更精細(xì) 晶體管密度達(dá)10nm工藝的3.3倍
一般來(lái)說(shuō),官方宣傳數(shù)據(jù)都是最理想的狀態(tài),有時(shí)候還會(huì)摻雜一些水分,但是你見(jiàn)過(guò)實(shí)測(cè)比官方數(shù)字更漂亮的嗎?
據(jù)了解,V1生產(chǎn)線于2018年2月正式破土動(dòng)動(dòng)建設(shè),在2019年下半年開(kāi)始測(cè)試晶圓生產(chǎn),到了今年第一季度則可以把第一批產(chǎn)品交付給客戶。
三星在奧斯汀的新廠已確認(rèn)將生產(chǎn)非內(nèi)存半導(dǎo)體和系統(tǒng)LSI
鉅亨網(wǎng)援引韓媒報(bào)道稱,為如期在2022 年量產(chǎn) 3 納米芯片,三星將在美國(guó)德州奧斯汀的半導(dǎo)體子公司啟動(dòng)EUV專用系統(tǒng) LSI 新廠投資計(jì)劃。據(jù)悉,此項(xiàng)投...
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