中芯國際表示深圳工廠進口光刻機不是EUV光刻機

據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機，但這是設備正常導入，用于產(chǎn)能擴充，并非外界所稱的EUV光刻機。

2020-03-07 標簽：中芯國際光刻機EUV 5.3k 0

英特爾：今年年中是高性能 10nm 的節(jié)點

目前在幾乎所有的半導體廠商普及7nm，部分甚至進入5nm工藝的時候，英特爾仍然打磨自家的14nm工藝，當然打磨了之后還是有成果的，那就是頻率已經(jīng)突破天際...

2020-05-28 標簽：intel酷睿EUV 5.3k 0

國產(chǎn)光刻膠市場前景 國內廠商迎來發(fā)展良機

半導體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品，海外進口依賴較重，不同品質之間價 格差異大。以國內 PAG 對應的化學放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF ...

2022-11-18 標簽：半導體EUV光刻膠 5.3k 0

荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破，預計會在2022年實現(xiàn)商業(yè)化

? ? 11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工...

2020-12-09 標簽：光刻機EUVASML 5.2k 0

三星3納米芯片面積比5納米縮小35%以上

三星電子副會長李在镕近日參觀正在開發(fā)“全球第一個3納米級半導體工藝”的韓國京畿道華城半導體工廠，并聽取了關于3納米工藝技術的報告，他還與三星電子半導體部...

2020-01-06 標簽：三星電子euv 5.2k 0

摩爾定律的三種發(fā)展方向，EUV制程技術勢在必行

從2017到2018年，全球IC制造產(chǎn)業(yè)資本投資規(guī)模達到高峰，近兩年總投資均超過920億美元規(guī)模。目前中國臺灣IC制造產(chǎn)業(yè)仍以晶圓代工貢獻最主要產(chǎn)值，隨...

2018-07-02 標簽：半導體ic臺積電 5.2k 0

半導體細微化技術陷入瓶頸 EUV成救星

半導體細微化（Scaling）是目前半導體行業(yè)最熱門的話題之一。隨著DRAM等的芯片元器件在內的大部分電子元器件和存儲單元趨于超小型化，對于高度集成技術...

2019-10-16 標簽：半導體EUV 5.2k 0

3nm制程工藝或將迎來希望

2018-11-01 標簽：光刻機EUV 5.1k 0

ASML一騎絕塵，EUV光刻機出貨過半！國產(chǎn)半導體設備發(fā)展提速！

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李彎彎）半導體設備廠商目前的銷售情況如何？今年以來，芯片產(chǎn)能不足之下全球各地加快建廠擴產(chǎn)，這帶動半導體設備廠商銷售持續(xù)高增長。近日...

2021-10-22 標簽：半導體光刻機EUV 5k 0

什么是EUV***？

需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從...

2023-05-22 標簽：光刻機EUV7nm芯片 5k 0

為何EUV光刻機會這么耗電呢

EUV（極紫外光）光刻機，是目前半導體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進光刻機類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電...

2021-02-14 標簽：晶圓光刻機EUV 5k 0

全球三大晶圓代工廠今年將導入極紫外光微影技術 家登EUV光罩盒將大出貨

全球三大晶圓代工廠臺積電、英特爾、三星，最快將在2019年導入極紫外光微影技術（EUV），值得注意的是，全球可提供EUV光罩盒的業(yè)者只有兩家，家登是其中...

2019-01-03 標簽：臺積電晶圓EUV 5k 0

ASML放棄EUV光罩防塵薄膜研發(fā)并技轉日本三井化學

ASML將中斷EUV Pellicle（光罩防塵薄膜）技術的研發(fā)，并將該技術轉讓與日本。

2019-06-09 標簽：EUVASML 5k 0

全球第一家！臺積電官宣2nm工藝！

這幾年，雖然摩爾定律基本失效或者說越來越遲緩，但是在半導體工藝上，幾大巨頭卻是殺得興起。Intel終于進入10nm工藝時代并將在后年轉入7nm，臺積電、...

2019-06-17 標簽：半導體臺積電晶體管 5k 0

臺積電EUV設備明年將超50臺 劍橋大學繼續(xù)和華為進行5G合作

據(jù)臺灣媒體消息，全年臺積電已向ASML下單量約15-16臺，而2021年至少13臺，估計全年需求約可達16-17臺。臺積電在先進制程的優(yōu)勢逐漸擴大，與研...

2020-11-16 標簽：臺積電華為EUV 4.9k 0

半導體技術微縮，新材料、材料純度和污染控制扮演重要角色

然而，真正讓芯片效能提升的關鍵，并非只是晶體管越做越小，也可以用 3D 制程取代 2D，或是導入新材料來提升性能，像是 1997 年 IBM 在半導體制...

2019-04-04 標簽：半導體晶圓EUV 4.9k 0

中芯國際CEO趙海軍：EUV將在7nm形成主流 專注生產(chǎn)大技術

中芯國際CEO趙海軍表示，摩爾定律現(xiàn)在還在繼續(xù)發(fā)展，EUV將在7nm形成主流，EUV變化非常大，很多環(huán)節(jié)都要重新開始，變化來的太快。28納米工藝如果到7...

2017-09-18 標簽：芯片中芯國際EUV 4.9k 0

美光公布DRAM和NANDFlash的最新技術線路圖 將持續(xù)推進1ZnmDRAM技術及研發(fā)128層3DNAND

作為全球知名的存儲器廠商，近日，美光召開了2019年投資者大會，在大會中上，美光展示了DRAM和NAND Flash下一代技術的發(fā)展以及規(guī)劃。

2019-05-24 標簽：DRAMNAND美光 4.9k 0