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龍圖光罩科創(chuàng)板IPO獲證監(jiān)會批準

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-01-04 11:40 ? 次閱讀
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1月3日,中國證券監(jiān)督管理委員會批準了深圳市龍圖光罩股份有限公司提交的科創(chuàng)板IPO注冊申請,給予正式批準。此舉意味著龍圖光罩成為了國內(nèi)首家獲取該項批準的半導(dǎo)體掩模版制造商。

龍圖光罩是一家中小型半導(dǎo)體掩模版供應(yīng)公司,主要專注于特色工藝半導(dǎo)體的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,緊跟國內(nèi)政策趨勢和技術(shù)熱點。公司產(chǎn)品工藝節(jié)點從最初的1μm逐步升級到130nm,廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬 IC等領(lǐng)域。同時,其客戶群體跨越產(chǎn)業(yè)多個領(lǐng)域,包括新能源、光伏發(fā)電、智能車輛、工業(yè)自動化、無線通訊、物聯(lián)網(wǎng)、電子消費品等。

生產(chǎn)環(huán)節(jié)方面,龍圖光罩已掌握130nm及以上節(jié)點半導(dǎo)體掩模版制作技術(shù),形成了覆蓋全流程的核心技術(shù)體系;在顧客反饋及營銷策略方面,已經(jīng)與多家國際知名客戶建立長期穩(wěn)固合作關(guān)系,并擁有良好的口碑和聲譽。

本次IPO,龍圖光罩計劃公開發(fā)行不超過3,337.50萬股人民幣普通股票(A股),共籌集資金6.6億元。其中4.8億元用于投資建設(shè)高端半導(dǎo)體芯片掩模版制造基地項目,以開發(fā)更高精度(130nm-65nm節(jié)點)半導(dǎo)體掩模版滿足高端市場需求;其余部分投入高端半導(dǎo)體芯片掩模版研發(fā)中心項目及補充流動資金項目,旨在提高產(chǎn)品質(zhì)量和客戶滿意度。

此外,龍圖光罩計劃通過高端半導(dǎo)體芯片掩模版研發(fā)中心項目提高自身教研實力和競爭潛力,根據(jù)市場和客戶需求進行技術(shù)研發(fā)改進以便應(yīng)對日益加劇的市場挑戰(zhàn)。

對于未來發(fā)展,龍圖光罩承諾繼續(xù)堅持“西安工藝”戰(zhàn)略,以特色工藝半導(dǎo)體為核心,重點聚焦高端芯片掩模版市場,加強科研投入和投資力度,計劃逐步實現(xiàn)90nm、65nm及更高節(jié)點的高端制程半導(dǎo)體掩模版規(guī)模生產(chǎn)及國內(nèi)自主配套,從而實現(xiàn)公司競爭力與盈利能力的穩(wěn)步提升。

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