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標簽 > 晶體管
晶體管(transistor)是一種固體半導(dǎo)體器件,具有檢波、整流、放大、開關(guān)、穩(wěn)壓、信號調(diào)制等多種功能。晶體管作為一種可變電流開關(guān),能夠基于輸入電壓控制輸出電流。與普通機械開關(guān)(如Relay、switch)不同,晶體管利用電訊號來控制自身的開合,而且開關(guān)速度可以非??欤瑢嶒炇抑械那袚Q速度可達100GHz以上。
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SiC三極管與SiC二極管的區(qū)別? SiC三極管與SiC二極管是兩種使用碳化硅(SiC)材料制造的電子元件,它們在結(jié)構(gòu)、特性和應(yīng)用領(lǐng)域等方面存在一些明顯...
第一代半導(dǎo)體材料是指硅、鍺元素等單質(zhì)半導(dǎo)體材料,鍺做的晶體管曾經(jīng)也是流行的老大,但由于速度較慢、不耐熱等缺點,在八十年代初就被硅基管給取代了,一直到現(xiàn)今...
2023-12-20 標簽:晶體管特斯拉半導(dǎo)體器件 561 0
IC的片內(nèi)和片間非均勻性是什么?有什么作用呢? IC的片內(nèi)和片間非均勻性是指在IC設(shè)計和制造的過程中,芯片內(nèi)部或芯片之間出現(xiàn)的性能或結(jié)構(gòu)的不均勻分布現(xiàn)象...
金剛石/氮化鎵薄膜生長工藝與熱物性表征領(lǐng)域研究進展
氮化鎵高電子遷移率晶體管(HEMTs)因其優(yōu)異的大功率高頻性能在大功率射頻器件領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
具復(fù)合柵極和階梯結(jié)構(gòu)的新型GaN垂直晶體管研究
GaN因其特性,作為高性能功率半導(dǎo)體 材料而備受關(guān)注,近年來其開發(fā)和市場導(dǎo)入不斷加速。
意法半導(dǎo)體推出下一代集成化氮化鎵(GaN)電橋芯片
2023年12月15日,中國-意法半導(dǎo)體的MasterGaN1L和MasterGaN4L氮化鎵系列產(chǎn)品推出了下一代集成化氮化鎵(GaN)電橋芯片,利用寬...
2023-12-15 標簽:轉(zhuǎn)換器意法半導(dǎo)體晶體管 1.9k 0
臺積電1.4nm制程工藝研發(fā)持續(xù),預(yù)計2027-2028年量產(chǎn)
此外,對于臺積電的1.4nm制程技術(shù),媒體預(yù)計其名稱為A14。從技術(shù)角度來看,A14節(jié)點可能不會運用垂直堆疊互補場效應(yīng)晶體管(CFET)技術(shù)。
選擇處理器的幾個關(guān)鍵因素? 選擇處理器時,有幾個關(guān)鍵因素需要考慮。這些因素包括處理器的性能、功耗、價格、架構(gòu)和生產(chǎn)工藝。 首先,性能是選擇處理器的首要考...
東哲郎強調(diào),半導(dǎo)體市場正朝著具有特定功能的產(chǎn)品,而不是以通用型芯片的方向來發(fā)展,Rapidus希望能夠在這個過渡期搶進市場當中,并能夠得到日本半導(dǎo)體設(shè)備...
臺積電1.4nm工藝研發(fā)全面啟動,2nm預(yù)計2025年量產(chǎn)
SemiAnalysis自媒體Dylan Patel曝光的幻燈片顯示,臺積電1.4nm制程的正式名稱為A14。截至目前,關(guān)于該節(jié)點的具體量產(chǎn)日期及參數(shù)暫...
東哲郎強調(diào),Rapidus位于北海道的項目無疑將取得成功,預(yù)計在2027~2028年間,科技走向?qū)l(fā)生根本性轉(zhuǎn)變。日本官方已經(jīng)向Rapidus注資數(shù)千...
打響2nm訂單爭奪戰(zhàn)!半導(dǎo)體巨頭競相爭取
目前,高通和英偉達的高端芯片主要依賴于臺積電進行代工。然而,對于這些芯片巨頭公司來說,多元化的晶圓代工是一項戰(zhàn)略要務(wù),以降低對特定供應(yīng)商的依賴性。
GeneSiC 在滿足汽車行業(yè)需求的經(jīng)驗還包括開發(fā)快速充電站解決方案,這對 EV 的快速普及至關(guān)重要。以 SK Signet 最近設(shè)計的額定 350kW...
英特爾深度解析其芯片技術(shù)創(chuàng)新,引領(lǐng)全球芯片科技潮流
眾所周知,晶體管微縮和背面供電是英特爾滿足快速增長的算力市場需求的關(guān)鍵所在。雖然面臨著困境和挑戰(zhàn),例如成本壓力,但英特爾堅定不移地推動著自己的發(fā)展計劃,...
晶體管三種接法的特點? 晶體管是一種常見的電子元器件,具有開關(guān)和放大功能。根據(jù)不同的接法,晶體管的特點也會有所不同。一般來說,晶體管的接法分為共集電極、...
過去數(shù)十年里,芯片設(shè)計團隊始終專注于小型化。減小晶體管體積,能降低功耗并提升處理性能。如今,2nm及3nm已取代實際物理尺寸,成為描述新一代芯片的關(guān)鍵指標。
英特爾宣布完成PowerVia背面供電技術(shù)的開發(fā)
英特爾在2023年國際電子設(shè)備制造大會上宣布,他們已經(jīng)成功完成了一項名為PowerVia的背面供電技術(shù)的開發(fā)。這個技術(shù)是基于英特爾的最新晶體管研究成果,...
?GaN半導(dǎo)體技術(shù)及其在電子領(lǐng)域的前景
當前各種氮化鎵技術(shù)正在加速向200mm過渡,以期降低生產(chǎn)成本,使氮化鎵寬禁帶功率半導(dǎo)體技術(shù)在混合型和全電動汽車、消費電子產(chǎn)品、智能手機以及其他產(chǎn)品的制造...
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