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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書(shū),作者是(美國(guó))贊特。本書(shū)介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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芯片制造電子電鍍技術(shù)的研究現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)
電子電鍍作為芯片制造中唯一能夠?qū)崿F(xiàn)納米級(jí)電子邏輯互連的技術(shù)方法, 是國(guó)家高端制造戰(zhàn)略安全的重要支撐. 本文基于國(guó)家自然科學(xué)基金委員會(huì)第341期“雙清論壇...
二氧化硅是芯片制造中最基礎(chǔ)且關(guān)鍵的絕緣材料。本文介紹其常見(jiàn)沉積方法與應(yīng)用場(chǎng)景,解析SiO?在柵極氧化、側(cè)墻注入、STI隔離等核心工藝中的重要作用。
芯片作為現(xiàn)代電子產(chǎn)品的核心部件,一直充當(dāng)著“大腦”的位置,其技術(shù)含量和資金極度密集,生產(chǎn)線(xiàn)動(dòng)輒數(shù)十億上百億美金。
2023-08-08 標(biāo)簽:芯片設(shè)計(jì)eda晶體管 5.7k 0
半導(dǎo)體芯片制造中的檢測(cè)和量測(cè)技術(shù)
質(zhì)量控制設(shè)備是芯片制造的關(guān)鍵核心設(shè)備之一,對(duì)于確保芯片生產(chǎn)的高良品率起著至關(guān)重要的作用。集成電路制造流程復(fù)雜,涉及眾多工藝步驟,每一道工序都需要達(dá)到近乎...
塑封是電子元器件和集成電路制造中的一個(gè)重要環(huán)節(jié),它涉及到將各個(gè)部件合理布置、組裝、連接,并與外部環(huán)境隔離,以保護(hù)元器件免受水分、塵埃和有害氣體的侵蝕,同...
在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻O(píng)verlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)...
PH? 是常用的n型摻雜氣體。什么是n型摻雜?硅是四價(jià)元素,每個(gè)硅原子與四個(gè)鄰近的硅原子共享電子形成共價(jià)鍵。當(dāng)將五價(jià)的磷引入到硅晶體中時(shí),其中一個(gè)價(jià)電子...
2023-09-18 標(biāo)簽:晶體芯片制造半導(dǎo)體制造 5.5k 0
關(guān)于eMMC 分區(qū)管理技術(shù)分析
軟件分區(qū)技術(shù)一般是將存儲(chǔ)介質(zhì)劃分為多個(gè)區(qū)域,既 SW Partitions,然后通過(guò)一個(gè) Partition Table 來(lái)維護(hù)這些 SW Partit...
2020-09-21 標(biāo)簽:存儲(chǔ)操作系統(tǒng)芯片制造 5.5k 0
Low-K材料是介電常數(shù)顯著低于傳統(tǒng)二氧化硅(SiO?,k=3.9–4.2)的絕緣材料,主要用于芯片制造中的層間電介質(zhì)(ILD)。其核心目標(biāo)是通過(guò)降低金...
多晶硅(Polycrystalline Silicon,簡(jiǎn)稱(chēng)Poly)是由無(wú)數(shù)微小硅晶粒組成的非單晶硅材料。與單晶硅(如硅襯底)不同,多晶硅的晶粒尺寸通...
用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)...
本文簡(jiǎn)單介紹了芯片制造的7個(gè)前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀(guān)奇跡中,芯片制造無(wú)疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術(shù)飛速發(fā)展的基石,也是連接數(shù)字世界與現(xiàn)...
芯片制造時(shí)長(zhǎng)揭秘:從原料到成品的完整周期
整個(gè)芯片制造的流程可以分為三大步驟:芯片設(shè)計(jì)、芯片制造、封裝測(cè)試
2024-03-07 標(biāo)簽:芯片晶圓芯片設(shè)計(jì) 5.1k 0
淺談半導(dǎo)體設(shè)備高精密陶瓷關(guān)鍵部件的技術(shù)
對(duì)于芯片制造來(lái)講,光刻是一個(gè)必不可少的環(huán)節(jié),可以說(shuō),沒(méi)有光刻機(jī),就沒(méi)有現(xiàn)代芯片產(chǎn)業(yè)。在集成電路制造過(guò)程中,光刻工藝的費(fèi)用約占制造成本的1/3 左右,耗費(fèi)...
在芯片制造中,單純的物理研磨是不行的。因?yàn)閱渭兊奈锢硌心?huì)引入顯著的機(jī)械損傷,如劃痕和位錯(cuò),且無(wú)法達(dá)到所需的平整度,因此不適用于芯片制造。
2023-11-29 標(biāo)簽:集成電路控制系統(tǒng)芯片制造 5k 0
在芯片制造中,有源區(qū)(Active Area)是晶體管的核心工作區(qū)域,負(fù)責(zé)電流的導(dǎo)通與信號(hào)處理。它如同城市中的“主干道”,決定了電路的性能和集成度。
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