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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。
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光刻膠技術(shù)創(chuàng)新引領(lǐng)共性難題解決新方向
隨著半導(dǎo)體制造工藝節(jié)點不斷發(fā)展至100納米甚至更小的10納米級別，如何制作出尺寸精度高、表面特征優(yōu)秀、線邊緣粗糙度低的光刻圖形已逐漸成為整個行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)。
2024-04-02 標(biāo)簽：半導(dǎo)體制造EUV光刻膠 1.3k 0
臺積電投資Arm背后戰(zhàn)略：抬高客戶轉(zhuǎn)換晶圓代工廠成本
臺積電的戰(zhàn)略性投資并不是第一次。tsmc與英特爾及三星共同投資asml，在成功開發(fā)euv（極紫外線）設(shè)備后，一直在開發(fā)7納米增強工程。
根據(jù) ASML 的說明，盡管目前整體環(huán)境呈現(xiàn)短期的不確定性，仍見長期在晶圓需求與產(chǎn)能上的健康增長。ASML 提到，各個市場的強勁增長、持續(xù)創(chuàng)新、更多晶圓...
臺積電采購的EUV設(shè)備已超35臺占ASML過半產(chǎn)量
據(jù)估算，ASML今年下半年可能會再出貨 22 臺EUV設(shè)備，明年全年最多50臺。據(jù)臺媒DIGITIMES報導(dǎo)，臺積電也將擴大采購 EUV 設(shè)備，搶下AS...
臺積投資加大封裝的擴產(chǎn) 7納米強化版極紫外光技術(shù)進入量產(chǎn)
臺積電每年獎勵優(yōu)良供應(yīng)商中，幾乎以外商為主，包括美商應(yīng)材、科林研發(fā)、荏原制作所、臺灣先藝科技、日立國際、日商豪雅、信越化學(xué)及信越半導(dǎo)體和勝高等。
得益于極致紫外線（EUV）設(shè)備搶手，ASML第四季度訂單預(yù)估額高達91.9億歐元（折合99.8億美元），比第三季度的26.02億歐元足足翻了近三番。根據(jù)...
這是因為隨著全世界半導(dǎo)體制造企業(yè)展開asml euv設(shè)備訂單競爭，供不應(yīng)求。該公司去年以每臺2500億韓元（1.89億美元）到3000億韓元（2.27億...
2023-12-11 標(biāo)簽：半導(dǎo)體制造EUVASML 1.2k 0
中國半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)迎來黃金時機 發(fā)展還需再扶一程
與正在蓬勃成長的中國芯片制造業(yè)一樣，中國的半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)正在迎來新的曙光。據(jù)北方華創(chuàng)微電子的消息，它在2017年1月的訂單量已經(jīng)超過去年第一季度的總量。半...
2017-03-10 標(biāo)簽：euv北方華創(chuàng)微電子 1.2k 0
李在镕會長訪問蔡司總部，強化半導(dǎo)體技術(shù)和高端設(shè)備合作
蔡司作為ASML EUV光刻機光學(xué)系統(tǒng)唯一供應(yīng)商，其提供的三萬余個組件構(gòu)成了每臺EUV光刻機的核心部分，同時在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域持有超過2000項關(guān)鍵專利。
Aston 過程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量
上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質(zhì)譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston?...
SEMI于2023年12月12日宣布，預(yù)計2023年全球半導(dǎo)體制造設(shè)備市場將較2022年創(chuàng)紀(jì)錄的1074億美元下降6.1%。然而，有些設(shè)備制造商不顧這種...
2024-02-23 標(biāo)簽：半導(dǎo)體制造EUVASML 1.2k 0
英特爾愛爾蘭工廠完成設(shè)備安裝調(diào)試，開始生產(chǎn)Intel 4芯片
英特爾雖然在正式公告中沒有提及詳細(xì)信息，但只是預(yù)告說，為了慶祝英特爾4工程技術(shù)的大規(guī)模批量生產(chǎn)，將于9月29日舉行公司高層負(fù)責(zé)人出席開幕式等相關(guān)現(xiàn)場活動。
傳臺積電將下調(diào)資本支出至300億美元以下 為近三年低點
在今年7月的法律中，臺積電財務(wù)長黃仁昭表示，大學(xué)每年的資本支出計劃都考慮到顧客今后數(shù)年間的需求及增長，指出了以下幾點。制定短期應(yīng)對不確定、對人適當(dāng)緊縮資...
英特爾全球運營總監(jiān)埃斯法賈尼（Keyvan Esfarjani） 表示：“英特爾對我們的擴張計劃抱有雄心勃勃的計劃，但我們將重點放在天然資源的效率性和零...
范登布林克指出，更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說，Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產(chǎn)流程，避免因使用 High NA 光刻機進行雙...
泛林集團、Entegris 和 Gelest 攜手推進 EUV 干膜光刻膠技術(shù)生態(tài)系統(tǒng)
這一使用突破性技術(shù)的合作將為全球芯片制造商提供強大的化學(xué)品供應(yīng)鏈，并支持下一代 EUV 應(yīng)用的研發(fā) 北京時間2022年7月15日——泛林集團 (NASD...
俄羅斯研究所7nm級制造技術(shù)生產(chǎn)預(yù)計2028年建成
在時間方面，IAP 可能有點過于樂觀。對于 32nm 以下的一切，芯片制造商使用所謂的浸沒式光刻技術(shù)（本質(zhì)上是 DUV 工具的助推器）生產(chǎn)。
半導(dǎo)體和顯示材料開發(fā)商石墨烯實驗室于11月14日宣布，其已開發(fā)出用石墨烯制造小于5納米的EUV薄膜（pellicles）的技術(shù)，并已準(zhǔn)備好量產(chǎn)新型薄膜。
英特爾率先推出業(yè)界高數(shù)值孔徑 EUV 光刻系統(tǒng)
來源：Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業(yè)界首個高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。 新設(shè)備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能...
2024-04-26 標(biāo)簽：英特爾EUV光刻系統(tǒng) 1.1k 0
4月22日消息，據(jù)法國媒體LeMagIT報道，日本光學(xué)技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商 Hoya Corporation（豪雅）最近遭遇了勒索軟件的攻擊，其總部和多個業(yè)務(wù)部...
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