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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書,作者是(美國)贊特。本書介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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劃片機(jī)(DicingSaw)在半導(dǎo)體制造中主要用于將晶圓切割成單個(gè)芯片(Die),這一過程在內(nèi)存儲(chǔ)存卡(如NAND閃存芯片、SSD、SD卡等)的生產(chǎn)中至...
中國電科宣布已實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝制程全覆蓋
離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造過程中,需要摻入不同種類的元素按預(yù)定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特...
半導(dǎo)體器件清洗工藝是確保芯片制造良率和可靠性的關(guān)鍵基礎(chǔ),其核心在于通過精確控制的物理化學(xué)過程去除各類污染物,同時(shí)避免對材料造成損傷。以下是該工藝的主要技...
2025-10-09 標(biāo)簽:芯片制造半導(dǎo)體器件 1.7k 0
MEMS是Micro Electro Mechanical Systems(微機(jī)電系統(tǒng))的縮寫,具有微小的立體結(jié)構(gòu)(三維結(jié)構(gòu)),是處理各種輸入、輸出信號...
電子信息與科學(xué)技術(shù)的迅猛進(jìn)展, 極大地提升了國民經(jīng)濟(jì)生活水平、引領(lǐng)者科技進(jìn)步和社會(huì)前進(jìn), 關(guān)乎國家發(fā)展命運(yùn). 電子信息與科學(xué)技術(shù)的核心在于集成電路的設(shè)計(jì)...
DIP是很多中小規(guī)模集成電路喜歡采用的封裝形式,其引腳數(shù)一般不超過100個(gè)。采用DIP封裝的CPU芯片有兩排引腳,在使用時(shí),需要插入到具有DIP結(jié)構(gòu)的芯...
2023-11-17 標(biāo)簽:IC設(shè)計(jì)IC測試芯片制造 1.6k 0
英偉達(dá)CEO黃仁勛近日在接受媒體采訪時(shí),深入探討了公司在全球數(shù)據(jù)中心市場的戰(zhàn)略布局以及最新研發(fā)的AI芯片Blackwell的相關(guān)情況。
2024-03-20 標(biāo)簽:數(shù)據(jù)中心芯片制造人工智能 1.6k 0
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電...
芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣
DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...
IC芯片半導(dǎo)體工藝制造技術(shù)作為集成電路產(chǎn)業(yè)的核心支撐,其發(fā)展始終圍繞高性能器件研發(fā)與工藝精度提升展開,形成涵蓋硅片制備、氧化、光刻等關(guān)鍵環(huán)節(jié)的完整技術(shù)體系。
硅片表面無蠟貼片單面拋光作為半導(dǎo)體制造中實(shí)現(xiàn)高潔凈度表面的關(guān)鍵工藝,其核心在于通過真空吸附或水表面張力作用實(shí)現(xiàn)硅片與載體板的緊密結(jié)合,避免有機(jī)蠟污染的同...
在科技飛速發(fā)展的今天,芯片作為現(xiàn)代科技的核心元器件,其制造過程復(fù)雜且充滿挑戰(zhàn)。芯片不僅推動(dòng)了信息技術(shù)、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域的進(jìn)步,還成為衡量一個(gè)國家科...
實(shí)現(xiàn)異構(gòu)集成與小芯片優(yōu)勢的關(guān)鍵“互連”
在多層集成電路中,薄的、短的局部互連提供片上連接,而厚的、長的全局互連在不同的塊之間傳輸。正如Lam Research技術(shù)總監(jiān)Larry Zhao所詳細(xì)...
探秘半導(dǎo)體防震基座剛性測試:守護(hù)芯片制造的堅(jiān)固防線
在半導(dǎo)體制造的精密世界里,每一個(gè)細(xì)微環(huán)節(jié)都關(guān)乎芯片的性能與質(zhì)量。其中,半導(dǎo)體防震基座作為支撐核心設(shè)備的關(guān)鍵部件,其剛性表現(xiàn)起著舉足輕重的作用。一、剛性為...
3D 共聚焦顯微鏡 | 芯片制造光刻工藝的表征應(yīng)用
光刻工藝是芯片制造的關(guān)鍵步驟,其精度直接決定集成電路的性能與良率。隨著制程邁向3nm及以下,光刻膠圖案三維結(jié)構(gòu)和層間對準(zhǔn)精度的控制要求達(dá)納米級,傳統(tǒng)檢測...
半導(dǎo)體是一種介于導(dǎo)體和絕緣體之間的導(dǎo)電性,半導(dǎo)體通過參雜可以使得能夠精確地控制電流的流動(dòng)。通過基于晶圓的光刻、刻蝕和沉積工藝,我們可以構(gòu)建出各種元件,如...
芯片可測性設(shè)計(jì)技術(shù)有哪些 芯片可靠性測試流程和標(biāo)準(zhǔn)
從以前的模式中進(jìn)行掃描,然后掃描除第一種以外的所有以及測試程序中的最后一個(gè)模式。
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