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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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對于光刻機(jī)難道我們真就毫無還手之力了？其實也不見得，華為最新的專利端上來了，看看這道硬菜。日前，華為一項名為“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”的新專利公開...
比利時的獨立半導(dǎo)體高科技研究機(jī)構(gòu)——imec每年都會在東京舉辦“imec Technology Forum（ITF） Japan”，并介紹他們的年度研發(fā)...
三星稱在GAA技術(shù)領(lǐng)先臺積電一年 更超前英特爾兩到三年
盡管日韓貿(mào)易沖突持續(xù)延燒，三星電子原定9月在日本東京的晶圓代工論壇將如期舉行。三星屆時預(yù)料將展示自家先進(jìn)制程技術(shù)，并提供用于生產(chǎn)3納米以下芯片，名為「環(huán)...
EUV工藝已拉響戰(zhàn)局 美光計劃在2021年持續(xù)加碼投資DRAM
美光計劃在 2021 年提出建設(shè) A5 廠項目的申請，持續(xù)加碼投資 DRAM，將用于 1Znm 制程之后的微縮技術(shù)發(fā)展。 據(jù)悉，目前美光在臺灣地區(qū)布局，...
臺積電宣布7納米強(qiáng)效版制程已大量進(jìn)入市場 2020年第一季將試產(chǎn)6納米制程技術(shù)
臺積電宣布，其領(lǐng)先業(yè)界導(dǎo)入極紫外光（EUV）微影技術(shù)的7納米強(qiáng)效版（N7+）制程已協(xié)助客戶產(chǎn)品大量進(jìn)入市場。導(dǎo)入EUV微影技術(shù)的N7+奠基于臺積電成功的...
未來極紫外光刻技術(shù)將如何發(fā)展?產(chǎn)業(yè)格局如何演變?
近日，荷蘭的光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）發(fā)布2020年度財報，全年凈銷售額達(dá)到140億歐元，毛利率達(dá)到48.6%。ASML同時宣布實現(xiàn)第100套極紫外...
ASML延遲交付EUV設(shè)備給中國，或因為美國的多次施壓
據(jù)路透社報道，知情人士指出，美國政府正竭力阻止荷蘭向中國出售芯片制造技術(shù)（EUV設(shè)備），美國國務(wù)卿邁克·龐培曾多次游說荷蘭政府，而白宮官員則向荷蘭國防部...
新成果有望解決自主研發(fā)光刻機(jī)的“卡脖子”難題
在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中，光刻機(jī)是必不可少的精密設(shè)備，是集成電路芯片制造中最復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟。“我國EUV光刻機(jī)的自主研發(fā)還有很長的路要走，基于SSMB...
在 SEMICON West上， 本文作者采訪了 ASML 的 Mike Lercel。在本文中，該作者結(jié)合了SPIE 高級光刻會議上的 ASML 演示...
2023-07-30 標(biāo)簽：光學(xué)傳感器光刻機(jī)EUV 3.8k 0
推動科技進(jìn)步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機(jī)的ASML表示EUV工藝將會支持未來15...
2017-01-22 標(biāo)簽：摩爾定律EUVEUV光刻機(jī) 3.8k 0
密度提升近3倍，高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶...
EUV極紫外光時代步伐漸近 或?qū)⒂瓉?50瓦EUV光源
盡管所花的時間與成本幾乎比所有人預(yù)期得要多，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)終于還是快要盼到極紫外光(extreme ultraviolet，EUV)微影技術(shù)的大量生產(chǎn)──在...
三星于去年4月向全球客戶提供7納米產(chǎn)品，自開始大規(guī)模生產(chǎn)7納米產(chǎn)品以來，三星僅在八個月內(nèi)就推出了6納米產(chǎn)品。三星的微加工工藝技術(shù)升級周期正在縮短，特別是...
非蔡司不可？EUV***背后的光學(xué)系統(tǒng)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）光刻系統(tǒng)利用光線在晶圓上創(chuàng)建數(shù)十億個微小的結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)組成在一起就成了集成電路。但芯片制造商為了讓更多結(jié)構(gòu)集成在單個芯片...
2023-07-14 標(biāo)簽：EUV 3.8k 0
荷蘭時間2019年7月17日，ASML Holding N.V.（ASML）公布了2019年第二季度財報
臺積電首款7納米芯片已經(jīng)完成設(shè)計定案 預(yù)計明年4月開始5納米制程風(fēng)險試產(chǎn)
晶圓代工龍頭臺積電持續(xù)沖刺先進(jìn)制程，采用極紫外光（EUV）微影技術(shù)的首款7＋納米芯片已經(jīng)完成設(shè)計定案（tape-out），支援最多4層EUV光罩。臺積電...
尋找光阻劑替代供應(yīng)商難度很高，就算找到新供應(yīng)來源，所有制程和設(shè)計須重新測試，至少得花1年時間才能運作。
5納米節(jié)點是首個從開始就使用極紫外光刻（EUV）技術(shù)做出來的。在波長只有13.5納米的情況下，EUV燈可以在硅上產(chǎn)生非常精細(xì)的圖案。其中一些圖案可以用上...
三星6nm6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn) 4nm4LPE也會在年內(nèi)設(shè)計完畢
除了臺積電，三星如今在工藝方面也是十分激進(jìn)：7nm 7LPP去年十月投產(chǎn)之后，按照官方最新給出的時間表，6nm 6LPP將在今年下半年如期投入量產(chǎn)，5n...
紫光展銳T765采用6nm EUV工藝，擁有2顆2.3GHz的A76大核、6顆2.1GHz的A55小核，集成Arm Mali G57 MC2（850MH...
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