Nano Dimension宣布收購Essemtec AG
-Essemtec AG是一家為印刷電路板和原始設(shè)備制造商行業(yè)提供表面貼裝取放系統(tǒng)的供應(yīng)商 -本次收購有助于為以下方面的突破性進展奠定基礎(chǔ)：作為增材制造電子產(chǎn)品解決方案一部分的微芯片放置方...
異丙醇(IPA)的解吸特性和IPA蒸汽干燥硅晶片中的水分
引言 為了評估用各種程序清洗和干燥的晶圓表面的清潔度，我們通過高靈敏度的大氣壓電離質(zhì)譜(APIMS)成功地分析了這些晶圓表面的排氣量。特別是，通過將晶片表面的解吸氣體引入APIMS，研究...
淺談芯片市場最新現(xiàn)狀
全世界都在關(guān)注芯片市場的動態(tài)。如今半導體的龍頭效應(yīng)凸顯，創(chuàng)新芯片公司也值得關(guān)注。...
2021第三代半導體產(chǎn)教融合發(fā)展論壇成功舉辦
由第三代半導體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟標準化委員會（CASAS）主辦、泰克科技（中國）有限公司和北京博電新力電氣股份有限公司協(xié)辦的“2021 第三代半導體標準與檢測研討會”在深圳召開。...
2021-12-29 標簽：半導體半導體產(chǎn)業(yè) 2237
化學蝕刻的銅-ETP銅的實驗分析
引言 化學蝕刻是通過與強化學溶液接觸來控制工件材料的溶解。該過程可以應(yīng)用于任何材料。銅是利用化學腐蝕工藝制造微電子元件、微工程結(jié)構(gòu)和精密零件中廣泛使用的工程材料之一。在這...
Cu CMP后清洗中添加劑對顆粒粘附和去除的影響
引言 Cu作為深度亞微米的多電級器件材料，由于其電阻低、電遷移電阻高和電容降低，與鋁相比的時間延遲。本文從理論和實驗上研究了檸檬酸基銅化學機械平坦化后二氧化硅顆粒對銅膜的粘附...
紫外熒光在晶圓表面清潔分析中的應(yīng)用
引言 紫外熒光(UVF)是一種新穎而通用的檢測硅片表面金屬雜質(zhì)污染的方法。我們證明了UVF在硅片加工中污染控制的有效性。實驗顯示了室溫下鐵、銅、鎳、鈉等主要特征峰。與其他表面敏感技術(shù)...
南安芯谷入駐項目集中簽約儀式暨產(chǎn)業(yè)服務(wù)專題發(fā)布成功舉辦
12月25日，由南安市石井鎮(zhèn)黨委、政府，泉州芯谷南安分園區(qū)辦事處和聯(lián)東U谷聯(lián)合主辦的“芯動南安 成功石井”南安芯谷入駐項目集中簽約儀式暨產(chǎn)業(yè)服務(wù)專題發(fā)布會在南安市石井鎮(zhèn)成功舉辦。...
半導體工藝之介電蝕刻工藝中等離子體的蝕刻處理
摘要 本文主要研究了從接觸刻蝕、溝槽刻蝕到一體刻蝕的介質(zhì)刻蝕工藝中的刻蝕后處理。優(yōu)化正電子發(fā)射斷層掃描步驟，不僅可以有效地去除蝕刻過程中在接觸通孔的側(cè)壁底部形成的副產(chǎn)物，...
《華林科納-半導體工藝》化學品對硅片上金屬污染的影響
摘要 對實自不同供應(yīng)商的化學5進行了清法后殘自在理最片上的全屬污染水平的測試。在江省過在中，評估了來自三個供應(yīng)商的鹽整機復氧化鎮(zhèn)以及來自四個供應(yīng)母的討氧化復，在RCA標準濟夜市...
氫氟酸水溶液中離子輻照LiNbO3的蝕刻
引言 用多能氬離子輻照x射線切割鈮酸鋰單晶，產(chǎn)生厚度為400納米的均勻損傷表面層，研究其在HF水溶液中的腐蝕行為。使用不同的酸溫度和濃度，表明可以通過將溫度從24℃提高到55℃來提高蝕...
半導體單晶片旋轉(zhuǎn)清洗器中渦流的周期性結(jié)構(gòu)
引言 近年來，隨著集成電路的微細化，半導體制造的清洗方式從被稱為“批量式”的25枚晶片一次清洗的方式逐漸改變?yōu)椤皢螐埵健钡木淮吻逑吹姆绞?。在半導體的制造中，各工序之間進行...
氮化硅陶瓷在氫氟酸水溶液中的水熱分解行為
引言 精細陶瓷由于其優(yōu)越的機械性能和功能性能，在過去的二十年中得到了發(fā)展。最近，從環(huán)境和經(jīng)濟的角度來看，希望開發(fā)具有較低能量的制造工藝，因為生產(chǎn)精細陶瓷需要相當大的能量。...
在HF水溶液中處理的GaP表面的特性
引言 橢偏光譜(SE)、原子力顯微鏡(AFM)、X射線光電子能譜(XPS)、潤濕性和光致發(fā)光(PL)測量研究了HF水 溶液中化學清洗的GaP(OOl)表面。SE數(shù)據(jù)清楚地表明，溶液在浸入樣品后(W1分鐘)會立即去除自然...
中科馭數(shù)宣布完成數(shù)億元A+輪融資 第二代DPU芯片完成研發(fā)設(shè)計
中科馭數(shù)正在研發(fā)的第二代DPU芯片K2已經(jīng)完成設(shè)計和驗證工作，預計將于2022年第一季度投產(chǎn)流片。...
RISC-V架構(gòu)國產(chǎn)芯片再迎超強玩家
12月17日，首屆滴水湖中國RISC-V產(chǎn)業(yè)論壇在上海臨港滴水湖皇冠假日酒店舉行，來自全國各地的RISC-V“玩家”匯聚于此，共同探討推動國產(chǎn)RISC-V芯片快速產(chǎn)業(yè)化落地和應(yīng)用創(chuàng)新的可能。RISC-V自面...
SC-1顆粒去除和piranha后漂洗的機理研究
SC-l和piranha(H2SO4/H2O2)清潔劑已經(jīng)使用多年來去除顆粒和有機污染物。盡管SC-1清潔劑(通常與施加的兆頻超聲波功率一起使用)被認為對顆粒去除非常有效，但去除機制仍不清楚。對于去，除重有機...
蘋果自研射頻芯片？OPPO自研NPU芯片！芯片的國產(chǎn)替代需要跨越三個誤區(qū)！
系統(tǒng)廠商、終端廠商自研芯片，對于傳統(tǒng)集成電路設(shè)計企業(yè)是一個巨大威脅嗎？如何看中國集成電路領(lǐng)域的國產(chǎn)替代進程？國產(chǎn)替代當中有哪些誤區(qū)？微納研究院CTO吳海寧、求是緣半導體聯(lián)盟榮...
國產(chǎn)操作系統(tǒng)再“超越”，RT-Thread推動AIoT產(chǎn)業(yè)變革
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/程文智）12月18日，RT-Thread開發(fā)者大會在深圳大中華喜來登酒店舉辦，本屆大會的主題是“Beyond”，寓意超越自我，突破邊界。在上午的主題演講環(huán)節(jié)，來自RT-Thread的主要...
2021-12-20 標簽：RT-Thread國產(chǎn)操作系統(tǒng) 9222
奈何實力不允許？印度引進芯片制造，富士康、高塔感興趣，水電、人才成最大
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李彎彎）日前，印度政府批準了一項100億美元的激勵計劃，吸引全球半導體和顯示器制造商到印度建立工廠。根據(jù)該計劃，印度政府將向符合資質(zhì)的顯示器和半導體制造...
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