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標(biāo)簽 > 晶圓
晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。
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在本文中,我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體將專注于一種新的化學(xué)變薄技術(shù),該技術(shù)允許晶圓變薄到50μm或更少,均勻性更好,比傳統(tǒng)的變薄成本更低。我們還將討論處理無任何類...
廣和通LTE模組FM101取得CE/FCC認(rèn)證 Decawave被Qorvo收購
廣和通FM101系列模組已于2021年8月進(jìn)入工程送樣階段。本次FM101率先通過兩項(xiàng)重大法規(guī)級(jí)認(rèn)證,是廣和通產(chǎn)品邁向全球市場的重要成果。
2022-03-18 標(biāo)簽:晶圓物聯(lián)網(wǎng)無線通信 2.4k 0
日本遭遇7.4級(jí)地震 汽車芯片、晶圓市場或受到?jīng)_擊
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)就在本周三夜間,日本福島東北部海岸突然發(fā)生地震,日本氣象廳公布此次地震的震級(jí)達(dá)到7.4級(jí),震源距離東京僅有275公里,目前...
為了滿足更嚴(yán)格的晶圓清潔度要求、新出現(xiàn)的環(huán)境問題和更嚴(yán)格的成本效益標(biāo)準(zhǔn),晶圓清潔技術(shù)正慢慢遠(yuǎn)離傳統(tǒng)的基于RCA的工藝。本文比較了在同一個(gè)濕式臺(tái)架上進(jìn)行的...
根據(jù)IC Insights報(bào)告,2021年全球MCU市場總銷售額破190億美元,而中國市場增速遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先全球,尤其在新能源汽車、物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域。這對(duì)于我國M...
在半導(dǎo)體微器件的制造中,必須通過蝕刻各種材料,從表面移除整個(gè)層或?qū)⒖刮g劑圖案轉(zhuǎn)移到下面的層中。在蝕刻工藝中可以分為兩種工藝:濕法和干法蝕刻,同時(shí)進(jìn)一步分...
onsemi剝離晶圓制造廠作為Fab-Liter戰(zhàn)略一部分_美光2400是全球首款176層SSD
智能電源和傳感技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者onsemi (Nasdaq: ON )正在執(zhí)行其工廠級(jí)制造戰(zhàn)略,其最終目標(biāo)是通過擴(kuò)大毛利率實(shí)現(xiàn)可持續(xù)的財(cái)務(wù)業(yè)績。
本文介紹了新興的全化學(xué)晶片清洗技術(shù),研究它們提供更低的水和化學(xué)消耗的能力,提供了每種技術(shù)的工藝應(yīng)用、清潔機(jī)制、工藝效益和考慮因素、環(huán)境、安全和健康(ES...
本文將詳細(xì)探討清洗和紋理的相互作用,在清潔過程中使用的化學(xué)類型對(duì)平等有著深遠(yuǎn)的影響,并在紋理中產(chǎn)生不可預(yù)測的影響。 經(jīng)過線鋸、除膠和切割,最終清理的目的...
根據(jù)水痕缺陷主要成分是氧化硅的特征, 利用磷酸氧化硅有較低的蝕刻率, 并不會(huì)蝕刻掉多晶硅的特性, 工藝易于控制。 因此對(duì)于用光學(xué)顯微鏡觀察到產(chǎn)生水痕缺陷...
近年來,微米級(jí)低溫固體微粒的熱流體機(jī)械高功能性在應(yīng)用于高熱發(fā)射器件的超高熱通量冷卻技術(shù)領(lǐng)域受到關(guān)注。為了在先進(jìn)的納米技術(shù)領(lǐng)域有效利用這種低溫固體顆粒的高...
SiC產(chǎn)業(yè)市場格局與發(fā)展現(xiàn)狀分析
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/程文智)這幾年第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展得如火如荼,GaN器件在快充等消費(fèi)類電子領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,碳化硅(SiC)器件則被汽車電子廠...
了解形成MEMS制造所需的三維結(jié)構(gòu),需要SILICON的各向異性蝕刻,此時(shí)使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項(xiàng)包括蝕刻率、長寬比、成本、環(huán)境污染等[1]。用于硅...
在開始生產(chǎn)之前,裸晶圓在晶圓制造商處要檢驗(yàn)合格合格,并在半導(dǎo)體工廠接收后再次要檢驗(yàn)合格。只有最無缺陷的晶圓才用于生產(chǎn),它們的生產(chǎn)前缺陷圖允許制造商跟蹤可...
在半導(dǎo)體器件制造中,蝕刻是指選擇性地從襯底上的薄膜去除材料并通過這種去除在襯底上創(chuàng)建該材料的圖案的技術(shù)。該圖案由一個(gè)能夠抵抗蝕刻過程的掩模定義,其創(chuàng)建過...
信驊科技近日正式宣布延攬英特爾創(chuàng)新科技前總經(jīng)理謝承儒先生至信驊科技擔(dān)任企業(yè)營運(yùn)長,直接向董事長林鴻明先生報(bào)告。未來將借重謝承儒先生在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)及晶圓制造...
標(biāo)準(zhǔn)清洗槽中的質(zhì)量參數(shù)的監(jiān)控方法
高效的硅片清洗需要最佳的工藝控制,以確保在不增加額外缺陷的情況下提高產(chǎn)品產(chǎn)量,同時(shí)提高生產(chǎn)率和盈利能力。
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